烹饪设备的控制方法、系统、设备及存储介质技术方案

技术编号:40989439 阅读:20 留言:0更新日期:2024-04-18 21:32
本发明专利技术公开了一种烹饪设备的控制方法、系统、设备及存储介质,烹饪设备包括半导体制冷片,半导体制冷片包括热端和冷端,热端设置在烹饪设备的腔体内侧,冷端设置在烹饪设备的腔体外侧;控制方法包括:获取烹饪设备的运行参数;根据运行参数与预设运行参数的比较结果控制半导体制冷片的通电电压,以控制半导体制冷片的运行功率。本发明专利技术通过将半导体制冷片的热端设置在烹饪设备的腔体内侧,可防止烹饪设备顶部蒸汽形成,将冷端设置在烹饪设备的腔体外侧,以使外排蒸汽通过半导体制冷片的冷端形成冷凝水从而回收利用;能够同时实现烹饪设备冷凝以及腔体顶部防冷凝功能,成本较低。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及烹饪设备处理,特别涉及一种烹饪设备的控制方法、系统、设备及存储介质


技术介绍

1、现有蒸箱大多通过单独设置加热管或者加热膜实现顶部蒸汽不冷凝,在工作过程中功率恒定,而且排气系统往往不具备冷凝功能。


技术实现思路

1、本专利技术要解决的技术问题是为了克服现有技术中通过单独设置加热管或者加热膜只能实现蒸箱顶部蒸汽不冷凝的缺陷,提供一种烹饪设备的控制方法、系统、设备及存储介质。

2、本专利技术是通过下述技术方案来解决上述技术问题:

3、本专利技术第一方面提供了一种烹饪设备的控制方法,所述烹饪设备包括半导体制冷片,所述半导体制冷片包括热端和冷端,所述热端设置在烹饪设备的腔体内侧,所述冷端设置在烹饪设备的腔体外侧;所述控制方法包括:

4、获取烹饪设备的运行参数;

5、根据所述运行参数与预设运行参数的比较结果控制所述半导体制冷片的通电电压,以控制所述半导体制冷片的运行功率。

6、优选地,在所述运行参数包括烹饪设备的运行时间的情况下,所述根据所述运本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种烹饪设备的控制方法,所述烹饪设备包括半导体制冷片,其特征在于,所述半导体制冷片包括热端和冷端,所述热端设置在烹饪设备的腔体内侧,所述冷端设置在烹饪设备的腔体外侧;所述控制方法包括:

2.如权利要求1所述的烹饪设备的控制方法,其特征在于,在所述运行参数包括烹饪设备的运行时间的情况下,所述根据所述运行参数与预设运行参数的比较结果控制所述半导体制冷片的通电电压,以控制所述半导体制冷片的运行功率的步骤包括:

3.如权利要求2所述的烹饪设备的控制方法,其特征在于,在所述运行参数包括烹饪设备的蒸汽流量的情况下,所述根据所述运行参数与预设运行参数的比较结果控制所述半导体...

【技术特征摘要】

1.一种烹饪设备的控制方法,所述烹饪设备包括半导体制冷片,其特征在于,所述半导体制冷片包括热端和冷端,所述热端设置在烹饪设备的腔体内侧,所述冷端设置在烹饪设备的腔体外侧;所述控制方法包括:

2.如权利要求1所述的烹饪设备的控制方法,其特征在于,在所述运行参数包括烹饪设备的运行时间的情况下,所述根据所述运行参数与预设运行参数的比较结果控制所述半导体制冷片的通电电压,以控制所述半导体制冷片的运行功率的步骤包括:

3.如权利要求2所述的烹饪设备的控制方法,其特征在于,在所述运行参数包括烹饪设备的蒸汽流量的情况下,所述根据所述运行参数与预设运行参数的比较结果控制所述半导体制冷片的通电电压,以控制所述半导体制冷片的运行功率的步骤包括:

4.如权利要求2或3所述的烹饪设备的控制方法,其特征在于,在所述运行参数包括烹饪设备的腔体温度的情况下,所述根据所述运行参数与预设运行参数的比较结果控制所述半导体制冷片的通电电压,以控制所述半导体制冷片的运行功率的步骤包括:

5.如权利要求4所述的烹饪设备的控制方法...

【专利技术属性】
技术研发人员:熊伟伟洪坤
申请(专利权)人:宁波方太厨具有限公司
类型:发明
国别省市:

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