一种耐高温碳涂覆光纤及其制备方法和制备系统技术方案

本发明专利技术公开了一种耐高温碳涂覆光纤，其特征在于，包括从内到外依次设置的芯层、包层、碳涂覆层和树脂涂覆层；所述碳涂覆层包括第一碳膜层和第二碳膜层；所述第一碳膜层为类石墨非晶碳膜；所述第二碳膜层为类金刚石非晶碳膜，或者为类石墨非晶碳膜，或者，所述第二碳膜层为至少一层类石墨非晶碳膜和至少一层类金刚石非晶碳膜在厚度方向上层叠形成的组合碳膜层。本发明专利技术还公开了对应的制备方法和系统，解决了传统冷壁化学气相沉积无法对沉积了一层碳膜的光纤进行预热的问题。本发明专利技术的光纤内层沉积的类石墨非晶碳膜能够与光纤结合紧密，密封性好，外层沉积的类金刚石非晶碳膜机械强度高、耐磨性好，能够对光纤起到良好的保护作用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光纤制造，具体涉及一种耐高温碳涂覆光纤及其制备方法和制备系统。

技术介绍

1、碳涂覆光纤又称碳密封光纤、涂碳光纤，碳涂覆光纤的玻璃纤维表面有一层薄薄的碳薄膜，这一层薄膜具有良好的密封性，可以提高玻璃纤维的可靠性，一方面可以防止水分攻击玻璃纤维表面引起强度退化，另一方面能够防止氢分子扩散到光纤芯层中。常规聚合物保护层可以在一定程度上阻挡液态水，但是不能隔绝水分子或更小的氢分子扩散，水分子会加速玻璃纤维表面的裂纹扩展，氢分子侵入到芯层中则会引起光纤光学损耗的显著增加，碳涂覆光纤可以很好的解决以上问题。

2、碳涂敷光纤的制备需要在涂覆常规光纤涂料前在包层表面制备一层几十纳米的碳薄膜，碳薄膜制备是利用气相沉积的方法，使得碳及其它元素沉积在裸光纤表面形成非晶碳薄膜，根据原理分类，可以分为物理气相沉积（pvd）以及化学气相沉积（cvd）。常见的方法为磁控溅射、等离子体增强化学气相沉积以及热化学气相沉积等。目前主流的碳膜沉积方法是热化学气相沉积法，热化学气相沉积是利用热源使得气相的原料分子在气相或者气固交界处发生化学反应，实现碳膜在裸光纤上的沉本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种耐高温碳涂覆光纤，其特征在于，包括从内到外依次设置的芯层、包层、碳涂覆层和树脂涂覆层；

2.如权利要求1所述的耐高温碳涂覆光纤，其特征在于，所述碳涂覆光纤包括碳涂覆单模光纤和碳涂覆多模光纤，在85℃、11atm的氢气环境下留置7天后，所述碳涂覆单模光纤在波长1240nm处的附加衰减＜0.2dB/km，所述碳涂覆多模光纤在波长850nm的附加衰减＜0.2dB/km。

3.一种耐高温碳涂覆光纤的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

4.如权利要求3所述的耐高温碳涂覆光纤的制备方法，其特征在于，所述固化装置外周设有第二感应线圈，通过第二感应线圈控制固...

【技术特征摘要】

1.一种耐高温碳涂覆光纤，其特征在于，包括从内到外依次设置的芯层、包层、碳涂覆层和树脂涂覆层；

2.如权利要求1所述的耐高温碳涂覆光纤，其特征在于，所述碳涂覆光纤包括碳涂覆单模光纤和碳涂覆多模光纤，在85℃、11atm的氢气环境下留置7天后，所述碳涂覆单模光纤在波长1240nm处的附加衰减＜0.2db/km，所述碳涂覆多模光纤在波长850nm的附加衰减＜0.2db/km。

3.一种耐高温碳涂覆光纤的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

4.如权利要求3所述的耐高温碳涂覆光纤的制备方法，其特征在于，所述固化装置外周设有第二感应线圈，通过第二感应线圈控制固化装置内的热固化涂料的固化温度。

5.如权利要求3所述的耐高温碳涂覆光纤的制备方法，其特征在于，在步骤s1中，控制进入第一碳涂覆反应腔的光纤温度为800~1100℃，从而使第一碳膜层为类石墨非晶碳膜。

6.如权利要求3所述的耐高温碳涂覆光纤的制备方法，其特征在于，在步骤s2中，控制进入第二碳涂覆反应腔的...

【专利技术属性】
技术研发人员：柯明鑫，高皓，陈杰，钱斌，方足成，汪松，杨坤，杨晨，
申请(专利权)人：长飞光纤光缆股份有限公司，
类型：发明
国别省市：