【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及金属有机物化学气相沉积，特别是涉及一种清洁装置。
技术介绍
1、金属有机物化学气相沉积(metal-organic chemical vapor deposition，mocvd)设备是制备半导体薄膜器件的重要设备之一。通常mocvd设备在生长外延薄膜材料的过程中，会形成大量的副产物，该副产物会沉积在反应室顶盖和反应室腔体的内侧壁，而沉积在反应室顶盖的副产物，会堵塞喷淋头上均匀分布的mo源通道，随生长时间的增加，反应室的副产物的聚集会影响外延产品的均匀性以及电性能等。mocvd反应室的洁净度对外延材料的性能有着至关重要的影响，因此，保持mocvd反应室的洁净就显得尤为重要。
2、目前mocvd设备的清洗多采用机械方式，如人工手动操作，用毛刷清洁喷淋头和反应室腔体的内侧壁。随生长时间的增加，喷淋头需要拆下水洗，这在一定程度上会引入清洗液中的杂质，影响产品良率，而且一旦引入清洗液中的杂质，mocvd设备恢复时间较长，进一步影响mocvd设备的使用效率。而且人工机械清洁反应室与操作人员的手法有很大关系，耗时较长。操作不当会导致产品性能变差(如led芯片的漏电、亮度、电压等性能)，进而影响mocvd设备的稼动率和产品的可重复性。同时，清洁过程中产生的粉尘不仅会危害人体健康，同时对mocvd设备也有一定的损害，而在此过程中产生的其他有害气体，如氨气，会让操作人员感觉不适，影响身体健康。
3、因此，提供一种用于对mocvd设备进行有效清洁的清洁装置是目前亟需解决的技术问题。
1、基于此，有必要提供一种清洁装置，以有效提高mocvd设备的清洁度，并且使得mocvd设备的整个清洁过程中产生的粉尘和气体不易飞溅溢出，有效减少mocvd设备清洁过程中产生的粉尘溅射以及粉尘和气体对人体的危害，进而有效提高mocvd设备的稳定性和产品的良品率，使得mocvd设备的整体性能得以有效提升。
2、一种清洁装置，用于对mocvd设备进行清洁，所述mocvd设备包括反应室、旋转盘和喷淋头，所述反应室包括反应室腔体以及盖设于所述反应室腔体的开口端的反应室顶盖，所述旋转盘转动设置于所述反应室腔体内，所述喷淋头设置于所述反应室顶盖朝向所述反应室腔体的一侧，所述清洁装置包括：第一清洁装置、第二清洁装置和第三清洁装置，所述第一清洁装置、所述第二清洁装置和所述第三清洁装置均可拆卸安装于所述旋转盘上，所述第一清洁装置用于清洁所述反应室顶盖，所述第二清洁装置用于清洁所述喷淋头，所述第三清洁装置用于清洁所述反应室腔体的内侧壁。
3、在其中一个实施例中，所述第一清洁装置和所述第二清洁装置可拆卸安装于所述旋转盘的顶部，所述第三清洁装置可拆卸安装于所述旋转盘的底部。
4、在其中一个实施例中，所述第一清洁装置包括第一固定部，所述第一固定部为凸起或卡槽；和/或
5、所述第二清洁装置包括第二固定部，所述第二固定部为凸起或卡槽；和/或
6、所述第三清洁装置包括第三固定部，所述第三固定部为凸起或卡槽。
7、在其中一个实施例中，所述第一清洁装置、所述第二清洁装置和所述第三清洁装置均为圆柱形，所述第一清洁装置和所述第二清洁装置的横截面的直径小于所述旋转盘的横截面的直径，所述第三清洁装置的横截面的直径大于所述旋转盘的横截面的直径。
8、在其中一个实施例中，所述第一清洁装置包括第一主体部和第一毛刷，所述第一主体部可拆卸设置于所述旋转盘上，所述第一毛刷设置于所述第一主体部背离所述旋转盘的一侧。
9、在其中一个实施例中，所述第二清洁装置包括第二主体部和多个中空针头，所述第二主体部可拆卸设置于所述旋转盘上，多个所述中空针头间隔设置于所述第二主体部背离所述旋转盘的一侧，多个所述中空针头用于对应插设于所述喷淋头的多个药品通道内，且所述中空针头能够相对所述第二主体部沿所述中空针头自身的轴向伸缩运动。
10、在其中一个实施例中，所述第二清洁装置还包括控制系统和/或锲块；
11、所述控制系统设置于所述第二主体部内，并与所述中空针头通信连接，所述控制系统用于控制所述中空针头相对所述第二主体部沿所述中空针头自身的轴向伸缩运动；
12、所述锲块可拆卸设置在所述反应室顶盖和所述反应室腔体之间，以使所述反应室顶盖和所述反应室腔体之间形成间隙。
13、在其中一个实施例中，所述第三清洁装置包括第三主体部和第二毛刷，所述第三主体部可拆卸设置于所述旋转盘上，所述第二毛刷设置于所述第三主体部上。
14、在其中一个实施例中，所述mocvd设备还包括加热器，所述加热器设置于所述反应室腔体内，所述第三清洁装置还包括防护挡板，所述防护挡板设置于所述第三主体部和所述第二毛刷之间，所述防护挡板用于阻挡清洁过程中产生的粉尘进入所述加热器内。
15、在其中一个实施例中，所述mocvd设备还包括加热器防护装置，所述加热器防护装置设置于所述反应室腔体内，并布设在所述加热器的周围，所述第二毛刷包括内毛刷以及设置于所述内毛刷外侧的外毛刷，所述外毛刷为单层毛刷，所述外毛刷用于清洁所述反应室腔体的内侧壁，所述内毛刷为双层毛刷，所述内毛刷用于清洁所述反应室腔体的内侧壁和所述加热器防护装置。
16、本申请提供的mocvd设备的清洁装置，使用时，首先将反应室顶盖打开，然后将第一清洁装置通过反应室腔体的开口置入反应室腔体内并安装于旋转盘上，然后将反应室顶盖关闭，驱动旋转盘转动，以通过旋转盘带动第一清洁装置高速旋转，以使第一清洁装置实现对反应室顶盖的清洁，当第一清洁装置完成反应室顶盖的清洁以后，停止驱动旋转盘的转动然后将反应室顶盖打开，接着将第一清洁装置从旋转盘上拆离并移出至反应室腔体的外部；
17、接着，将第二清洁装置通过反应室腔体的开口置入反应室腔体内并安装于旋转盘上，然后将反应室顶盖关闭并使反应室顶盖移动至指定位置，以使第二清洁装置实现对喷淋头的清洁，当第二清洁装置完成喷淋头的清洁以后，将反应室顶盖打开，接着将第二清洁装置从旋转盘上拆离并移出至反应室腔体的外部；
18、接着，将第三清洁装置通过反应室腔体的开口置入反应室腔体内并安装于旋转盘上，然后将反应室顶盖关闭，再次驱动旋转盘转动，以通过旋转盘带动第三清洁装置高速旋转，以使第三清洁装置实现对反应室腔体的内侧壁的清洁，当第三清洁装置完成反应室腔体的内侧壁的清洁以后，停止驱动旋转盘的转动然后将反应室顶盖打开，接着将第三清洁装置从旋转盘上拆离并移出至反应室腔体的外部；
19、因此，本申请的mocvd设备的清洁装置，其第一清洁装置、第二清洁装置和第三清洁装置分别能够执行对mocvd设备的反应室顶盖、喷淋头和反应室腔体的内侧壁的清洁操作，从而有效提高了mocvd设备的清洁度，同时由于清洁装置的整个清洁过程均能够在反应室顶盖处于关闭状态时执行，使得mocvd设备的整个清洁过程中产生的粉尘和气体不易飞溅溢出，有效减少了mocvd设备清洁过程中产生的粉尘溅本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种清洁装置，用于对MOCVD设备进行清洁，所述MOCVD设备包括反应室、旋转盘和喷淋头，所述反应室包括反应室腔体以及盖设于所述反应室腔体的开口端的反应室顶盖，所述旋转盘转动设置于所述反应室腔体内，所述喷淋头设置于所述反应室顶盖朝向所述反应室腔体的一侧，其特征在于，所述清洁装置包括：第一清洁装置、第二清洁装置和第三清洁装置，所述第一清洁装置、所述第二清洁装置和所述第三清洁装置均可拆卸安装于所述旋转盘上，所述第一清洁装置用于清洁所述反应室顶盖，所述第二清洁装置用于清洁所述喷淋头，所述第三清洁装置用于清洁所述反应室腔体的内侧壁。
2.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述第一清洁装置和所述第二清洁装置可拆卸安装于所述旋转盘的顶部，所述第三清洁装置可拆卸安装于所述旋转盘的底部。
3.根据权利要求2所述的清洁装置，其特征在于，
4.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述第一清洁装置、所述第二清洁装置和所述第三清洁装置均为圆柱形，所述第一清洁装置和所述第二清洁装置的横截面的直径小于所述旋转盘的横截面的直径，所述第三清洁装置的横截面的直
5.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述第一清洁装置包括第一主体部和第一毛刷，所述第一主体部可拆卸设置于所述旋转盘上，所述第一毛刷设置于所述第一主体部背离所述旋转盘的一侧。
6.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述第二清洁装置包括第二主体部和多个中空针头，所述第二主体部可拆卸设置于所述旋转盘上，多个所述中空针头间隔设置于所述第二主体部背离所述旋转盘的一侧，多个所述中空针头用于对应插设于所述喷淋头的多个药品通道内，且所述中空针头能够相对所述第二主体部沿所述中空针头自身的轴向伸缩运动。
7.根据权利要求6所述的清洁装置，其特征在于，所述第二清洁装置还包括控制系统和/或锲块；
8.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述第三清洁装置包括第三主体部和第二毛刷，所述第三主体部可拆卸设置于所述旋转盘上，所述第二毛刷设置于所述第三主体部上。
9.根据权利要求8所述的清洁装置，其特征在于，所述MOCVD设备还包括加热器，所述加热器设置于所述反应室腔体内，所述第三清洁装置还包括防护挡板，所述防护挡板设置于所述第三主体部和所述第二毛刷之间，所述防护挡板用于阻挡清洁过程中产生的粉尘进入所述加热器内。
10.根据权利要求9所述的清洁装置，其特征在于，所述MOCVD设备还包括加热器防护装置，所述加热器防护装置设置于所述反应室腔体内，并布设在所述加热器的周围，所述第二毛刷包括内毛刷以及设置于所述内毛刷外侧的外毛刷，所述外毛刷为单层毛刷，所述外毛刷用于清洁所述反应室腔体的内侧壁，所述内毛刷为双层毛刷，所述内毛刷用于清洁所述反应室腔体的内侧壁和所述加热器防护装置。
...【技术特征摘要】
1.一种清洁装置，用于对mocvd设备进行清洁，所述mocvd设备包括反应室、旋转盘和喷淋头，所述反应室包括反应室腔体以及盖设于所述反应室腔体的开口端的反应室顶盖，所述旋转盘转动设置于所述反应室腔体内，所述喷淋头设置于所述反应室顶盖朝向所述反应室腔体的一侧，其特征在于，所述清洁装置包括：第一清洁装置、第二清洁装置和第三清洁装置，所述第一清洁装置、所述第二清洁装置和所述第三清洁装置均可拆卸安装于所述旋转盘上，所述第一清洁装置用于清洁所述反应室顶盖，所述第二清洁装置用于清洁所述喷淋头，所述第三清洁装置用于清洁所述反应室腔体的内侧壁。
2.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述第一清洁装置和所述第二清洁装置可拆卸安装于所述旋转盘的顶部，所述第三清洁装置可拆卸安装于所述旋转盘的底部。
3.根据权利要求2所述的清洁装置，其特征在于，
4.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述第一清洁装置、所述第二清洁装置和所述第三清洁装置均为圆柱形，所述第一清洁装置和所述第二清洁装置的横截面的直径小于所述旋转盘的横截面的直径，所述第三清洁装置的横截面的直径大于所述旋转盘的横截面的直径。
5.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述第一清洁装置包括第一主体部和第一毛刷，所述第一主体部可拆卸设置于所述旋转盘上，所述第一毛刷设置于所述第一主体部背离所述旋转盘的一侧。
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【专利技术属性】
技术研发人员：黎大兵，张山丽，孙晓娟，贲建伟，吕顺鹏，蒋科，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
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