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模具控制方法及装置、旋转进气模具和化学气相沉积系统制造方法及图纸

技术编号:40967123 阅读:23 留言:0更新日期:2024-04-18 20:47
本公开涉及一种模具控制方法及装置、旋转进气模具和化学气相沉积系统,涉及化工工程技术领域。其中,所述旋转进气模具的设计方法,包括:在模具主体的反应室内一侧设置不可旋转的底盘;将所述不可旋转的底盘与至少2个支撑轴的一端连接,将所述至少2个支撑轴分别通过对应的支撑主体另一端与模具主体连接;在所述不可旋转的底盘相对侧的所述模具主体的反应室内设置有可转动的旋转进气装置,并将所述旋转进气装置与所述模具主体外侧的进气管路连接。本公开实施例可实现提高化学气相沉积过程的效率和可控性。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及化工工程,尤其涉及一种模具控制方法及装置、旋转进气模具及其设计方法及装置、计算机程序产品、化学气相沉积系统及应用。


技术介绍

1、化学气相沉积(cvd)是一种常用于薄膜生长、表面涂层等应用的重要工艺。在该过程中,通过将气体前驱体物质引入反应室,并使其在基底表面沉积,以形成所需的薄膜或涂层。模具的设计在cvd过程中起到至关重要的作用,直接影响沉积的均匀性和效率。

2、传统的化学气相沉积过程中,使用旋转底座的模具,并利用一个支撑轴来实现模具的旋转。这种设计存在以下几个缺点:(1)表面涂层均匀性差;(2)当模具中沉积的材料分布不均匀时,底座容易发生侧倾,导致材料的均匀沉积受到影响;(3)流场不稳定:模具的底盘旋转带来了流场不稳定的问题,影响了材料沉积的均匀性,尤其是在复杂结构的产品中,容易出现局部过量沉积或沉积不足的情况;(4)传统模具通常采用底部进气方式,这在一定程度上受到模具旋转的限制,难以实现精确的流场设计,影响了沉积过程的可调控性。


技术实现思路

1、本公开提出了一种模具控制方法及装置本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种旋转进气模具,包括:模具主体,其特征在于,所述模具主体的反应室内一侧设置有不可旋转的底盘(1);所述不可旋转的底盘(1)与至少2个支撑轴的一端连接,所述至少2个支撑轴分别通过对应的支撑主体(211)另一端与模具主体连接;

2.根据权利要求1所述的旋转进气模具,其特征在于,所述旋转进气装置,包括:旋转进气主体,所述旋转进气主体的外侧设置有多个可调控喷头,所述多个可调控喷头中的每个可调控喷头与所述进气管路(31)连通,所述每个可调控喷头分别设置有旋转和/或方向可调控的多个可调控喷孔(8);和/或,

3.一种旋转进气模具设计方法,其特征在于,包括:

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【技术特征摘要】

1.一种旋转进气模具,包括:模具主体,其特征在于,所述模具主体的反应室内一侧设置有不可旋转的底盘(1);所述不可旋转的底盘(1)与至少2个支撑轴的一端连接,所述至少2个支撑轴分别通过对应的支撑主体(211)另一端与模具主体连接;

2.根据权利要求1所述的旋转进气模具,其特征在于,所述旋转进气装置,包括:旋转进气主体,所述旋转进气主体的外侧设置有多个可调控喷头,所述多个可调控喷头中的每个可调控喷头与所述进气管路(31)连通,所述每个可调控喷头分别设置有旋转和/或方向可调控的多个可调控喷孔(8);和/或,

3.一种旋转进气模具设计方法,其特征在于,包括:

4.根据权利要求3所述的旋转进气模具设计方法,其特征在于,将所述旋转进气装置的旋转进气主体的外侧设置多个可调控喷头,并将所述多个可调控喷头中的每个可调控喷头与所述进气管路(31)连通,将所述每个可调控喷头分别设置旋转和/或方向可调控的多个可调控喷孔(8);和/或,

5.一种旋转进气模具设计装置,其特征在于,包括:

6.一种模具控制方法,应用如权利要求1-2任一项所述的旋转进气模具和/或应用如权利要求3-4任一项所述的旋转进气模具设计方法得到的旋转进气模具和/或应用如权利要求5所述的旋转进气模具设计装置得到的旋转进气模具,其特征在于,包括:

7.一种模具控制装置,应用...

【专利技术属性】
技术研发人员:李爱军周亚迪霍彩霞张玉卓张方舟张齐贤
申请(专利权)人:上海大学
类型:发明
国别省市:

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