显示基板、显示面板及显示装置制造方法及图纸

技术编号：40957963 阅读：2 留言：0更新日期：2024-04-18 20:35

本公开提供的显示基板、显示面板及显示装置，包括衬底基板；数据线，位于衬底基板的一侧，数据线沿第一方向延伸；晶体管，晶体管包括有源层和第一极，数据线的局部复用为第一极，有源层位于数据线所在层与衬底基板之间；绝缘层，位于数据线所在层与有源层之间，第一极与有源层通过贯穿绝缘层的第一过孔与有源层电连接；第一遮光结构，位于有源层与衬底基板之间，第一遮光结构沿第一方向延伸，数据线在衬底基板上的正投影位于第一遮光结构在衬底基板上的正投影内，且第一过孔在衬底基板上的正投影位于第一遮光结构在衬底基板上的正投影内。

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【技术实现步骤摘要】

本公开涉及显示，尤其涉及一种显示基板、显示面板及显示装置。

技术介绍

1、液晶显示装置(liquid crystal display，lcd)具有重量轻、耗电少、画质高、辐射低和携带方便等优点，已逐渐取代传统的阴极射线管显示装置(cathode ray tubedisplay，crt)，而被广泛应用于现代化信息设备，如虚拟现实(vr)头戴式显示设备、笔记本电脑、电视、移动电话和数字产品等。

技术实现思路

1、有鉴于此，本公开实施例提供一种显示基板、显示面板及显示装置，用以提升像素开口率。

2、因此，本公开实施例提供的一种显示基板、显示面板及显示装置，具体方案如下：

3、一方面，本公开实施例提供了一种显示基板，包括：

4、衬底基板；

5、数据线，位于所述衬底基板的一侧，所述数据线沿第一方向延伸；

6、晶体管，所述晶体管包括有源层和第一极，所述数据线的局部复用为所述第一极，所述有源层位于所述数据线所在层与所述衬底基板之间；

7、绝缘层，位于所述数据线所在层与所述有源层之间，所述第一极与所述有源层通过贯穿所述绝缘层的第一过孔与所述有源层电连接；

8、第一遮光结构，位于所述有源层与所述衬底基板之间，所述第一遮光结构沿所述第一方向延伸，所述数据线在所述衬底基板上的正投影位于所述第一遮光结构在所述衬底基板上的正投影内，且所述第一过孔在所述衬底基板上的正投影位于所述第一遮光结构在所述衬底基板上的正投影内。

9、在一些实施例中，在本公开实施例提供的上述显示基板中，所述有源层包括在所述第一方向上并排设置的第一轻掺杂区、第一沟道区和第二轻掺杂区；其中，

10、所述第一轻掺杂区在所述衬底基板上的正投影位于所述第一遮光结构在所述衬底基板上的正投影内；

11、所述第一沟道区在所述衬底基板上的正投影位于所述第一遮光结构在所述衬底基板上的正投影内；

12、所述第二轻掺杂区在所述衬底基板上的正投影位于所述第一遮光结构在所述衬底基板上的正投影内。

13、在一些实施例中，在本公开实施例提供的上述显示基板中，还包括位于所述数据线所在层远离所述衬底基板一侧的支撑结构，所述支撑结构沿所述第一方向延伸，且所述支撑结构在所述衬底基板上的正投影位于所述第一遮光结构在所述衬底基板上的正投影内。

14、在一些实施例中，在本公开实施例提供的上述显示基板中，还包括在所述数据线所在层面向所述支撑结构所在层的一侧依次设置的所述晶体管的第二极所在层、平坦层、像素电极所在层，所述第二极通过贯穿所述平坦层的第二过孔与所述像素电极电连接，所述支撑结构填充所述第二过孔；

15、在所述第一方向交叉设置的第二方向上，所述支撑结构在所述衬底基板上的正投影边界与所述第一遮光结构在所述衬底基板上的正投影边界之间的距离大于预设值a，所述预设值a满足关系式：其中，lstol/2为所述第一遮光结构的工艺波动值，plntol/2为所述第二过孔的工艺波动值，ol1为所述第一遮光结构与所述第二过孔的对位偏差值。

16、在一些实施例中，在本公开实施例提供的上述显示基板中，所述有源层在所述衬底基板上的正投影形状为l型或1字型。

17、在一些实施例中，在本公开实施例提供的上述显示基板中，还包括位于所述第一遮光结构一侧且沿所述第一方向并排设置的多个第二遮光结构；

18、所述有源层还包括在所述数据线的一侧且沿所述第一方向并排设置的第三轻掺杂区、第二沟道区和第四轻掺杂区；其中，

19、所述第三轻掺杂区在所述衬底基板上的正投影位于所述第二结构在所述衬底基板上的正投影内；

20、所述第二沟道区在所述衬底基板上的正投影位于所述一体结构在所述衬底基板上的正投影内；

21、所述第二轻掺杂区在所述衬底基板上的正投影位于所述一体结构在所述衬底基板上的正投影内。

22、在一些实施例中，在本公开实施例提供的上述显示基板中，还包括位于所述第一遮光结构一侧且沿所述第一方向并排设置的多个第二遮光结构；

23、所述有源层还包括在所述数据线的一侧且沿所述第一方向并排设置的第三轻掺杂区、第二沟道区和第四轻掺杂区；其中，

24、所述第三轻掺杂区在所述衬底基板上的正投影位于所述第二遮光结构在所述衬底基板上的正投影内；

25、所述第二沟道区在所述衬底基板上的正投影位于所述第二遮光结构在所述衬底基板上的正投影内；

26、所述第四轻掺杂区在所述衬底基板上的正投影位于所述第二遮光结构在所述衬底基板上的正投影内。

27、在一些实施例中，在本公开实施例提供的上述显示基板中，所述第一遮光结构包括与所述第二遮光结构并排设置的遮光部分，所述遮光部分与所述第二遮光结构构成一体结构；

28、所述显示基板还包括位于所述数据线所在层远离所述衬底基板一侧的支撑结构，所述支撑结构在所述衬底基板上的正投影与所述遮光部分在所述衬底基板上的正投影局部交叠，所述支撑结构在所述衬底基板上的正投影与所述第二遮光结构在所述衬底基板上的正投影局部交叠，且所述支撑结构在所述衬底基板上的正投影位于所述一体结构在所述衬底基板上的正投影内。

29、在一些实施例中，在本公开实施例提供的上述显示基板中，在所述第一方向上、以及在所述第一方向交叉设置的第二方向上，所述支撑结构在所述衬底基板上的正投影边界与所述一体结构在所述衬底基板上的正投影边界之间的距离大于预设值a。

30、在一些实施例中，在本公开实施例提供的上述显示基板中，所述有源层在所述衬底基板上的正投影形状为u型。

31、在一些实施例中，在本公开实施例提供的上述显示基板中，所述第一过孔的口径在远离所述衬底基板的方向上逐渐增大；

32、所述第一遮光结构在所述第一方向交叉设置的第二方向上的宽度w与所述第一过孔的最大口径d满足关系式：其中，lstol/2为所述第一遮光结构的工艺波动值，viatol/2为所述第一过孔的工艺波动值，ol2为所述第一遮光结构与所述第一过孔的对位偏差值。

33、另一方面，本公开实施例提供了一种显示面板，包括相对而置的显示基板和对向基板，以及位于所述显示基板与所述对向基板之间的液晶层，其中，所述显示基板为本公开实施例提供的上述显示基板。

34、在一些实施例中，在本公开实施例提供的上述显示面板中，所述显示基板包括支撑结构，所述支撑结构在所述衬底基板上的正投影位于第一遮光结构在所述衬底基板上的正投影内；

35、所述对向基板包括隔垫物，所述隔垫物沿与所述第一方向交叉设置的第二方向延伸，且所述隔垫物在所述衬底基板上的正投影与所述支撑结构在所述衬底基板上的正投影交叉设置。

36、在一些实施例中，在本公开实施例提供的上述显示面板中，所述显示基板包括支撑结构，所述支撑结构在所述衬底基板上的正投影位于一体结构在所述衬底基板上的正投影内本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种显示基板，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述有源层包括在所述第一方向上并排设置的第一轻掺杂区、第一沟道区和第二轻掺杂区；其中，

3.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，还包括位于所述数据线所在层远离所述衬底基板一侧的支撑结构，所述支撑结构沿所述第一方向延伸，且所述支撑结构在所述衬底基板上的正投影位于所述第一遮光结构在所述衬底基板上的正投影内。

4.如权利要求3所述的显示基板，其特征在于，还包括在所述数据线所在层面向所述支撑结构所在层的一侧依次设置的所述晶体管的第二极所在层、平坦层、像素电极所在层，所述第二极通过贯穿所述平坦层的第二过孔与所述像素电极电连接，所述支撑结构填充所述第二过孔；

5.如权利要求2～4任一项所述的显示基板，其特征在于，所述有源层在所述衬底基板上的正投影形状为L型或1字型。

6.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，还包括位于所述第一遮光结构一侧且沿所述第一方向并排设置的多个第二遮光结构；

7.如权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述第一

8.如权利要求7所述的显示基板，其特征在于，在所述第一方向上、以及在所述第一方向交叉设置的第二方向上，所述支撑结构在所述衬底基板上的正投影边界与所述一体结构在所述衬底基板上的正投影边界之间的距离大于预设值a。

9.如权利要求2～4、6～8任一项所述的显示基板，其特征在于，所述有源层在所述衬底基板上的正投影形状为U型。

10.如权利要求1～4、6～8任一项所述的显示基板，其特征在于，所述第一过孔的口径在远离所述衬底基板的方向上逐渐增大；

11.一种显示面板，其特征在于，包括相对而置的显示基板和对向基板，以及位于所述显示基板与所述对向基板之间的液晶层，其中，所述显示基板为如权利要求1～10任一项所述的显示基板。

12.如权利要求11所述的显示面板，其特征在于，所述显示基板包括支撑结构，所述支撑结构在所述衬底基板上的正投影位于第一遮光结构在所述衬底基板上的正投影内；

13.如权利要求11所述的显示面板，其特征在于，所述显示基板包括支撑结构，所述支撑结构在所述衬底基板上的正投影位于一体结构在所述衬底基板上的正投影内；

14.如权利要求11～13任一项所述的显示面板，其特征在于，所述对向基板还包括黑矩阵，所述黑矩阵仅包括第三遮光结构，所述第三遮光结构沿与第一方向交叉设置的第二方向延伸。

15.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求11～14任一项所述的显示面板，以及位于所述显示面板入光侧的背光模组。

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【技术特征摘要】

1.一种显示基板，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述有源层包括在所述第一方向上并排设置的第一轻掺杂区、第一沟道区和第二轻掺杂区；其中，

5.如权利要求2～4任一项所述的显示基板，其特征在于，所述有源层在所述衬底基板上的正投影形状为l型或1字型。

6.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，还包括位于所述第一遮光结构一侧且沿所述第一方向并排设置的多个第二遮光结构；

7.如权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述第一遮光结构包括与所述第二遮光结构并排设置的遮光部分，所述遮光部分与所述第二遮光结构构成一体结构；

8.如权利要求7所述的显示基板，其特征在于，在所述第一方向上、以及在所述第一方向交叉设置的第二方...

【专利技术属性】
技术研发人员：张震，张振宇，李佩柔，张舜航，刘冬妮，林允植，周天民，王利忠，张晨阳，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：

全部详细技术资料下载我是这个专利的主人