【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及药液、图案形成方法。
技术介绍
1、以往，在ic(integrated circuit、集成电路)或lsic(large scale integratedcircuit、大规模集成电路)等半导体器件的制造工序中，进行通过使用抗蚀剂组合物(photoresist composition)的光微影工序(photolithography process)的微细加工。
2、在这种光微影工序中，例如，在通过抗蚀剂组合物(感光化射线性或感放射线性树脂组合物)形成涂膜后，对所得到的涂膜进行曝光，然后，通过显影液进行显影，得到图案，进一步地，用冲洗液对显影后的硬化膜进行清洗。
3、例如，在专利文献1中，作为有机溶剂，公开了一种包含相对于曝光前的抗蚀剂膜为良好溶媒的溶剂(s-1)及相对于曝光前的抗蚀剂膜为不良溶媒的溶剂(s-2)的显影液。
4、以往技术文献
5、专利文献
6、专利文献1：日本特开2011-065105号公报
技术实现思路
1、专利技术要解决的技术课题
2、本专利技术人等使用如专利文献1中所记载的显影液作为显影液或冲洗液来形成图案，结果发现所得到的图案的分辨率及缺陷产生抑制性难以兼得。特别是，当形成更精细的图案时，很难同时实现上述两种性能。
3、因此，本专利技术的课题在于，提供一种当用作显影液或冲洗液来进行图案的形成时，所得到的图案的分辨率优异，且缺陷产生抑制性也优异的药液。
5、本专利技术人等为解决上述课题进行了深入研究，结果发现通过以下的结构能够解决上述课题。
6、〔1〕
7、一种药液，包含芳香族烃、上述芳香族烃以外的有机溶剂及金属x，
8、上述芳香族烃仅由氢原子及碳原子组成，
9、上述芳香族烃的含量相对于药液的总质量为1质量％以下，
10、上述有机溶剂包含脂肪族烃，
11、上述金属x为选自由al、fe及ni所组成的组中的至少一种金属，
12、上述芳香族烃的含量相对于上述金属x的含量的质量比为5.0×104～2.0×1010。
13、〔2〕
14、根据〔1〕所述的药液，其作为显影液或冲洗液来使用。
15、〔3〕
16、根据〔1〕或〔2〕所述的药液，其中，
17、上述芳香族烃包含选自由c10h14、c11h16及c10h12所组成的组中的至少一种，
18、上述芳香族烃的含量相对于药液的总质量为5～2000质量ppm。
19、〔4〕
20、根据〔1〕～〔3〕中任一项所述的药液，其进一步含有含硫化合物，
21、上述芳香族烃包含选自由c10h14、c11h16及c10h12所组成的组中的至少一种，
22、上述c10h14的含量、上述c11h16的含量及上述c10h12的含量中的任一者均高于上述含硫化合物的含量。
23、〔5〕
24、根据〔1〕～〔4〕中任一项所述的药液，其进一步含有含硫化合物，
25、上述芳香族烃的含量相对于上述含硫化合物的含量的质量比为1以上。
26、〔6〕
27、根据〔1〕～〔5〕中任一项所述的药液，其中，
28、上述药液包含三种以上上述芳香族烃。
29、〔7〕
30、根据〔1〕～〔6〕中任一项所述的药液，其进一步含有水，
31、上述水的含量相对于药液的总质量为20～1000质量ppm。
32、〔8〕
33、根据〔1〕～〔7〕中任一项所述的药液，其中，
34、上述al、上述fe及上述ni中的至少一种的含量相对于药液的总质量为0.1～100质量ppt。
35、〔9〕
36、根据〔1〕～〔8〕中任一项所述的药液，其中，
37、上述脂肪族烃包含选自由癸烷、十一烷、十二烷及甲基癸烷所组成的组中的至少一种。
38、〔10〕
39、根据〔1〕～〔9〕中任一项所述的药液，其进一步含有醇化合物，
40、上述芳香族烃的含量相对于上述醇化合物的含量的质量比为0.001～200。
41、〔11〕
42、根据〔10〕所述的药液，其中，
43、上述醇化合物包含选自由乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、2-丁醇、叔丁醇、1-戊醇、2-戊醇、3-戊醇及2-甲基-1-丁醇所组成的组中的至少一种。
44、〔12〕
45、根据〔1〕～〔11〕中任一项所述的药液，其中，
46、上述有机溶剂进一步含有酯系溶剂。
47、〔13〕
48、根据〔1〕～〔12〕中任一项所述的药液，其中，
49、在包括使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成抗蚀剂膜的抗蚀剂膜形成工序、
50、对上述抗蚀剂膜进行曝光的曝光工序、以及
51、使用显影液对上述曝光后的抗蚀剂膜进行显影的显影工序的图案形成方法中，
52、上述药液作为上述显影液来使用。
53、〔14〕
54、根据〔1〕～〔12〕中任一项所述的药液，其中，
55、在包括使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成抗蚀剂膜的抗蚀剂膜形成工序、
56、对上述抗蚀剂膜进行曝光的曝光工序、
57、使用乙酸丁酯对上述曝光后的抗蚀剂膜进行显影的显影工序、以及
58、在显影工序后使用冲洗液进行清洗的清洗工序的图案形成方法中，
59、上述药液作为上述冲洗液来使用。
60、〔15〕
61、根据〔1〕～〔12〕中任一项所述的药液，其中，
62、在包括使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成抗蚀剂膜的抗蚀剂膜形成工序、
63、对上述抗蚀剂膜进行曝光的曝光工序、
64、使用显影液对上述曝光后的抗蚀剂膜进行显影的显影工序、以及
65、在显影工序后使用冲洗液进行清洗的清洗工序的图案形成方法中，
66、上述药液作为上述显影液及上述冲洗液来使用。
67、〔16〕
68、一种图案形成方法，其包括使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成抗蚀剂膜的抗蚀剂膜形成工序、
69、对抗蚀剂膜进行曝光的曝光工序、
70、使用显影液对上述曝光后的抗蚀剂膜进行显影的显影工序、以及
71、在显影工序后使用冲洗液进行清洗的清洗工序，
72、将〔1〕～〔12〕中任一项的药液作为显影液及上述冲洗液来使用，
73、作为冲洗液来使用的药液中的脂肪族烃相对于有机溶剂的含量高于作为显影液来使用的药液中的脂肪族烃相对于有机溶剂的含量。
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1.一种药液，其包含芳香族烃、所述芳香族烃以外的有机溶剂及金属X，
2.根据权利要求1所述的药液，其作为显影液或冲洗液来使用。
3.根据权利要求1所述的药液，其中，
4.根据权利要求1所述的药液，其进一步含有含硫化合物，
5.根据权利要求1所述的药液，其进一步含有含硫化合物，
6.根据权利要求1所述的药液，其中，
7.根据权利要求1所述的药液，其进一步含有水，
8.根据权利要求1所述的药液，其中，
9.根据权利要求1所述的药液，其中，
10.根据权利要求1所述的药液，其进一步含有醇化合物，
11.根据权利要求10所述的药液，其中，
12.根据权利要求1所述的药液，其中，
13.根据权利要求1～12中任一项所述的药液，其中，
14.根据权利要求1～12中任一项所述的药液，其中，
15.根据权利要求1～12中任一项所述的药液，其中，
16.一种图案形成方法，其包括使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成抗
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种药液，其包含芳香族烃、所述芳香族烃以外的有机溶剂及金属x，
2.根据权利要求1所述的药液，其作为显影液或冲洗液来使用。
3.根据权利要求1所述的药液，其中，
4.根据权利要求1所述的药液，其进一步含有含硫化合物，
5.根据权利要求1所述的药液，其进一步含有含硫化合物，
6.根据权利要求1所述的药液，其中，
7.根据权利要求1所述的药液，其进一步含有水，
8.根据权利要求1所述的药液，其中，
9.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员：高桥智美，清水哲也，白川三千纮，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：
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