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具有包括在两个、三个或四个高程处的一个或多个表面和提供部分一个或多个表面的至少一部分的表面特征的纹理区域的用于显示器制品的防眩光基板及其制作方法技术

技术编号:40948060 阅读:5 留言:0更新日期:2024-04-18 20:21
本文描述用于显示器制品的基板,包括(a)主表面;及(b)纹理区域,纹理区域设置在主表面处,纹理区域包括:(i)一个或多个更高表面,位于平行于基准平面的更高平均高程处,基准平面设置在纹理区域下方、延伸穿过基板;(ii)一个或多个更低表面,位于平行于基准平面的更低平均高程处;以及(iii)表面特征,表面特征提供(i)一个或多个更高表面和(ii)一个或多个更低表面中的一者或两者的至少一部分。表面特征可以包括更大表面特征和更小表面特征,更大表面特征和更小表面特征中的任一者或两者提供基板的一个或多个表面,一个或多个表面位于平行于基准平面的在更高平均高程与更低平均高程之间的一个或多个中间平均高程处。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及具有包括在两个、三个或四个高程处的一个或多个表面和提供一个或多个表面的至少一部分的表面特征的纹理区域的用于显示器制品的防眩光基板及其制作方法。


技术介绍

1、对可见光透明的基板用于覆盖显示器制品的显示器。此类显示器制品包括智能电话、平板计算机、电视、计算机监测器等。显示器通常为液晶显示器和有机发光二极管等。基板保护显示器,而基板的透明度允许装置的用户查看显示器。

2、基板反射环境光,尤其为镜面反射,降低使用者通过基板查看显示器的能力。在该上下文中,镜面反射为环境光从基板上的镜类反射。例如,基板可以反射可见光,该可见光被装置周围的环境中的物体反射或发射。从基板反射的可见光降低来自显示器的通过基板传输至使用者的眼睛的光的对比度。在某些视角,用户看到的并非显示器发出的可见光,而是镜面反射图像。因此,已经尝试减少可见环境光从基板的镜面反射。

3、已经尝试通过使基板的反射表面纹理化来减少基板的镜面反射。所得表面有时被称为“防眩光表面”。例如,对基板的表面进行喷砂和液体蚀刻可使表面纹理化,这通常会导致表面漫反射而非镜面反射环境光。漫反射通常意指表面仍然反射相同的环境光,但反射表面的纹理在反射时会散射光。漫反射越多,对使用者看到显示器发射的可见光的能力的干扰越小。

4、此类纹理化方法(即喷砂和液体蚀刻)在表面上产生具有不精确且不可重复的几何形状的特征(特征提供纹理)。经由喷砂或液体蚀刻形成的一个基板的纹理表面的几何形状永远不会与经由喷砂或液体蚀刻形成的另一基板的纹理表面的几何形状完全相同。通常,仅基板的纹理表面的表面粗糙度(即ra)的量化为纹理化可重复目标。

5、存在衡量“防眩光”表面的质量的多种度量。那些度量包括(1)图像清晰度、(2)像素功率偏差、(3)明显的摩尔干涉条纹、(4)透射雾度和(5)反射颜色伪像。图像清晰度,更恰当地称为反射图像的清晰度,是从表面反射的图像的清晰度的度量。图像清晰度越低,纹理表面越漫反射而非镜面反射。表面特征可以放大显示器的各种像素,从而扭曲用户查看的图像。像素功率偏差,还称为“闪光”,为对该效应的量化。像素功率偏差越低越好。摩尔干涉条纹为大尺度干涉图案,如果可见,则会扭曲用户看到的图像。较佳地,纹理表面不产生明显的摩尔干涉条纹。透射雾度为衡量纹理表面有多少漫射显示器在透射通过基板时发射的可见光的度量。透射雾度越大,显示器越不清晰(即表观解析率降低)。反射颜色伪像为一种色差,其中纹理表面在反射时随波长而变地衍射光——这意指反射光虽然相对漫射,但看起来为按颜色分割的。纹理表面产生的反射颜色伪像越少越好。所有这些属性将在下面更详细地论述。

6、以特定表面粗糙度为目标不能同时优化所有那些度量。喷砂或液体蚀刻产生的相对更高的表面粗糙度可能足以将镜面反射转化为漫反射。然而,高表面粗糙度会附加地产生高透射雾度和像素功率偏差。相对更低的表面粗糙度虽然会降低透射雾度,但可能无法将镜面反射充分转换为漫反射——破坏纹理化“防眩光”目的。

7、因此,需要一种新的方法来提供基板的纹理区域——一种使纹理表面充分漫反射而非镜面反射环境光以便“防眩光”(例如,图像清晰度低)但同时还提供低像素功率偏差、没有明显摩尔干涉条纹、低透射雾度和低反射颜色伪像的方法。


技术实现思路

1、本公开内容解决对包括具有两个、三个或四个平均高程的纹理表面和特定放置但随机分布的表面特征的基板的需求。高程之间的间隔由在提供两个高程的第一蚀刻步骤和视情况选用的为纹理区域再提供一个或两个高程的第二蚀刻步骤中基板与蚀刻剂接触的时间段确定。蚀刻步骤形成表面特征。表面特征的放置和蚀刻时间的特殊性允许纹理区域的几何形状从一个基板重复至另一基板,这是单独喷砂或液体蚀刻无法实现的。表面特征的随机分布避免不利的视觉后果,诸如摩尔干涉条纹,如果表面特征的放置为图案的一部分,则可能导致这种后果。蚀刻掩模的使用允许液体蚀刻步骤在其特定放置中精确地形成表面特征。可以利用间距分布算法根据随机分布确定表面特征的具体放置,并且在蚀刻掩模的形成中采用该放置。使用该蚀刻掩模的蚀刻步骤产生表面特征,每个表面特征经过特殊放置。每个表面特征可以具有限定的几何形状,诸如直径和最小中心距。因此,这种方法为纹理区域的设计者提供可以操纵的各种变量(而非仅表面粗糙度的一个变量),以优化基板的防眩光度量。此外,那些变量的选择和表面特征的放置现在可以从一个基板重复至另一基板。

2、根据本公开内容的第一方面,一种用于显示器制品的基板,基板包括:(a)主表面;以及(b)纹理区域,限定在主表面上,纹理区域包括:(i)一个或多个更高表面,位于平行于基准平面的更高平均高程处,基准平面设置在纹理区域下方、延伸穿过基板;(ii)一个或多个更低表面,位于平行于基准平面的更低平均高程处,其中更低平均高程小于更高平均高程;以及(iii)表面特征,提供位于更高平均高程处的一个或多个更高表面或位于更低平均高程处的一个或多个更低表面的至少一部分,每个表面特征包括平行于基准平面并具有最长尺寸的周边。

3、根据本公开内容的第二方面,根据第一方面的基板,其中更低平均高程与更高平均高程相差50nm至700nm的范围内的距离。

4、根据本公开内容的第三方面,提供第一方面至第二方面中任一项的基板,其中表面特征的最长尺寸在0.5μm至120μm的范围内。

5、根据本公开内容的第四方面,提供根据第一方面至第三方面中任一项的基板,其中表面特征不以图案布置。

6、根据本公开内容的第五方面,提供第一方面至第四方面中任一项的基板,(a)其中纹理区域进一步包括:周围部分,提供(i)一个或多个更高表面或(ii)一个或多个更低表面;(b)其中,表面特征提供(i)一个或多个更高表面和(ii)一个或多个更低表面中的另一者,无论周围部分不提供哪一者。

7、根据本公开内容的第六方面,提供第五方面的基板,其中(i)表面特征设置在周围部分内,并且提供一个或多个更低表面;并且(ii)周围部分提供一个或多个更高表面。

8、根据本公开内容的第七方面,提供第五方面的基板,其中(i)表面特征从周围部分突出,并且提供基板的位于更高平均高程处的一个或多个更高表面;并且(ii)周围部分提供基板的位于更低平均高程处的一个或多个更低表面。

9、根据本公开内容的第八方面,根据第一方面至第七方面中任一项的基板,其中表面特征的填充率在40%至60%的范围内。

10、根据本公开内容的第九方面,根据第一方面至第八方面中任一项的基板,其中(i)表面特征包括更大表面特征和更小表面特征,(ii)更大表面特征的最长尺寸都大致相同且在30μm至120μm的范围内,(iii)更小表面特征的最长尺寸都大致相同,小于更大表面特征的最长尺寸,并且在0.5μm至30μm的范围内,并且(iv)更小表面特征比更大表面特征更多。

11、根据本公开内容的第十方面,提供第九方面的基板,其中(i)更大表面特征中的每一者彼此隔开最小本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于显示器制品的基板,所述基板包括:

2.如权利要求1所述的基板,其中

3.如权利要求1至2中任一项所述的基板,其中

4.如权利要求1至3中任一项所述的基板,其中

5.如权利要求1至4中任一项所述的基板,

6.如权利要求5所述的基板,其中

7.如权利要求5所述的基板,其中

8.如权利要求1至7中任一项所述的基板,其中

9.如权利要求1至8中任一项所述的基板,其中

10.如权利要求9所述的基板,其中

11.如权利要求9至10中任一项所述的基板,其中

12.如权利要求9至11中任一项所述的基板,其中

13.如权利要求9至11中任一项所述的基板,其中

14.如权利要求9至13中任一项所述的基板,其中

15.如权利要求9至14中任一项所述的基板,其中

16.如权利要求1至15中任一项中任一项所述的基板,其中

17.如权利要求1至16中任一项中任一项所述的基板,其中

18.如权利要求1至17中任一项中任一项所述的基板,其中

19.一种用于显示器制品的基板,所述基板包括:

20.如权利要求19所述的基板,其中

21.如权利要求19所述的基板,其中

22.如权利要求19至21中任一项所述的基板,其中

23.如权利要求19至22中任一项所述的基板,其中

24.如权利要求19至23中任一项所述的基板,其中

25.如权利要求19至24中任一项所述的基板,其中

26.如权利要求19至25中任一项所述的基板,进一步包括:

27.如权利要求19至26中任一项所述的基板,其中

28.如权利要求27所述的基板,其中

29.如权利要求19至28中任一项所述的基板,其中

30.一种用于显示器制品的基板,所述基板包括:

31.如权利要求30所述的基板,其中

32.如权利要求30至31中任一项所述的基板,其中

33.如权利要求30至32中任一项所述的基板,其中

34.如权利要求30至33中任一项所述的基板,其中

35.如权利要求30至34中任一项所述的基板,其中

36.如权利要求30至35中任一项所述的基板,其中

37.如权利要求30至36中任一项所述的基板,其中

38.如权利要求30至37中任一项所述的基板,其中

39.如权利要求30至38中任一项所述的基板,其中

40.如权利要求30至39中任一项所述的基板,其中

41.一种形成用于显示器制品的基板的纹理区域的方法,所述方法包括:

42.如权利要求41所述的方法,进一步包括:

43.如权利要求41至42中任一项所述的方法,进一步包括:

44.如权利要求41至43中任一项所述的方法,其中

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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种用于显示器制品的基板,所述基板包括:

2.如权利要求1所述的基板,其中

3.如权利要求1至2中任一项所述的基板,其中

4.如权利要求1至3中任一项所述的基板,其中

5.如权利要求1至4中任一项所述的基板,

6.如权利要求5所述的基板,其中

7.如权利要求5所述的基板,其中

8.如权利要求1至7中任一项所述的基板,其中

9.如权利要求1至8中任一项所述的基板,其中

10.如权利要求9所述的基板,其中

11.如权利要求9至10中任一项所述的基板,其中

12.如权利要求9至11中任一项所述的基板,其中

13.如权利要求9至11中任一项所述的基板,其中

14.如权利要求9至13中任一项所述的基板,其中

15.如权利要求9至14中任一项所述的基板,其中

16.如权利要求1至15中任一项中任一项所述的基板,其中

17.如权利要求1至16中任一项中任一项所述的基板,其中

18.如权利要求1至17中任一项中任一项所述的基板,其中

19.一种用于显示器制品的基板,所述基板包括:

20.如权利要求19所述的基板,其中

21.如权利要求19所述的基板,其中

22.如权利要求19至21中任一项所述的基板,其中

23.如权利要求19至22中任一项所述的基板,其中

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【专利技术属性】
技术研发人员:冯江蔚科琳·伊丽莎白·艾萨克卡尔·威廉·科赫三世李沈平瓦格萨·西那拉特内威廉·艾伦·伍德
申请(专利权)人:康宁公司
类型:发明
国别省市:

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