【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及设备。所述设备可结合用于光刻设备的表膜而使用。
技术介绍
1、光刻设备是被构造用以将所需图案施加至衬底上的机器。光刻设备可用于例如集成电路(ic)的制造中。光刻设备可例如将图案从图案形成装置(例如，掩模)投影到设置于衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。
2、由光刻设备所使用以将图案投影至衬底上的辐射的波长确定出能够形成于所述衬底上的特征的最小尺寸。与常规的光刻设备(其可例如使用具有193nm波长的电磁辐射)相比，使用作为具有在4nm至20nm的范围内的波长的电磁辐射的euv辐射的光刻设备可被用于在衬底上形成较小特征。
3、用于将图案赋予给光刻设备中的辐射束的图案形成装置(例如，掩模)可形成掩模组件的部分。掩模组件可包括保护所述图案形成装置免受颗粒污染的表膜。表膜可由表膜框架支撑。
4、可能需要提供避免或减少与现有技术相关联的一个或更多个问题的设备。
技术实现思路
1、根据本专利技术的第一方面，提供一种表膜附接设备，包括：支撑结构，被配置成支...
【技术保护点】
1.一种螺柱附接设备，包括被配置成保持图案形成装置的支撑结构和被配置成使螺柱接触所述图案形成装置的螺柱操纵器，其中所述螺柱操纵器由分隔区而与容纳图案形成装置的受控环境分离，所述分隔区包括所述螺柱可突出穿过以便与所述图案形成装置接触的孔。
2.根据权利要求1所述的螺柱附接设备，其中所述螺柱操纵器是多个螺柱操纵器中之一，且所述分隔区中的所述孔是多个孔中之一。
3.根据权利要求1所述的螺柱附接设备，其中所述螺柱附接设备包括在所述受控环境中的气体出口，所述气体出口被配置成在高于所述分隔区的相对侧上的气体压力的压力下供应气体。
4.根据权利要...
【技术特征摘要】
1.一种螺柱附接设备，包括被配置成保持图案形成装置的支撑结构和被配置成使螺柱接触所述图案形成装置的螺柱操纵器，其中所述螺柱操纵器由分隔区而与容纳图案形成装置的受控环境分离，所述分隔区包括所述螺柱可突出穿过以便与所述图案形成装置接触的孔。
2.根据权利要求1所述的螺柱附接设备，其中所述螺柱操纵器是多个螺柱操纵器中之一，且所述分隔区中的所述孔是多个孔中之一。
3.根据权利要求1所述的螺柱附接设备，其中所述螺柱附接设备包括在所述受控环境中的气体出口，所述气体出口被配置成在高于所述分隔区的相对侧上的气体压力的压力下供应气体。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的螺柱附接设备，其中围绕所述螺柱操纵器设置密封件，所述密封件在使用中提供相对于所述图案形成装置的密封以使所述图案形成装置的螺柱容纳部分与所述图案形成装置的其他部分隔离。
5.根据权利要求4所述的螺柱附接设备，其中提供至少一个气体传递通道和至少一个气体提取通道，经由至少一个气体传递通道和至少一个气体提取通道向所述图案形成装置的所述螺柱容纳部分提供气体流以及从所述图案形成装置的所述螺柱容纳部分提供气体流。
6.根据权利要求4所述的螺柱附接设备，其中所述密封件是泄漏式密封件。
7.根据权利要求1至3中任一项所述的螺柱附接设备，其中所述螺柱操纵器包括加热器。
8.根据权利要求1至3中任一项所述的螺柱附接设备，其中所述分隔区包括被定位以允许所述图案形成装置上的对准标记从所述分隔区的相对侧可见的窗。
9.根据权利要求8所述的螺柱附接设备，其中成像传感器被设置于所述窗的一侧上，且被配置成透视所述窗来观察所述图案形成装置上的所述对准标记。
10.根据权利要求1至3中任一项所述的螺柱附接设备，其中运动学连接件被设置于所述螺柱操纵器与所述支撑结构之间。
11.一种螺柱移除设备，包括：支撑结构，被配置成保持图案形成装置；螺柱夹持器，被配置成容纳和固持从所述图案形成装置突出的螺柱的远端头部；致动器，被配置成相对于所述螺柱和所述图案形成装置来移动所述螺柱夹持器；和加热器。
12.根据权利要求11所述的螺柱移除设备，其中所述螺柱夹持器包括具有间隔的一对凸缘，所述间隔比所述螺柱的颈部更宽且比所述螺柱的远端头部更窄。
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【专利技术属性】
技术研发人员：F·范德穆伦，马尔滕·M·M·詹森，约根·M·阿泽雷L，德克·S·G·布龙，马克·布鲁因，J·德克尔斯，保罗·詹森，R·H·G·克莱默，M·克鲁兹恩卡，R·G·M·兰斯勃根，M·H·A·李德斯，埃里克·洛劳夫·鲁普斯卓，G·范德博世，J·F·S·V·范罗，B·L·MJ·K·韦伯罗根，安吉洛·恺撒·皮特·德克勒克，J·M·丁斯，M·L·J·杨森，R·J·J·克尔斯滕斯，M·J·M·克斯特斯，M·卢斯，G·米德尔，S·M·赖纳德斯，F·J·C·托伊尔蔡特，A·J·W·范利芬根，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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