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【技术实现步骤摘要】
本申请属于电子设计自动化领域,尤其涉及一种基于自适应搜索的mpw(多项目晶圆)版图拼接方法。
技术介绍
1、在集成电路ic的设计、制造等过程中,如果在同一硅片上只试验一种集成电路,这样试样的成本极高。因此,为了节省成本、降低风险,常常采用多项目晶圆(multi projectwafer,简称mpw)技术。多项目晶圆(multi project wafer,简称mpw)就是将多个使用相同工艺的集成电路设计放在同一晶圆片上流片,制造完成后,每个设计可以得到数十片芯片样品,这一数量对于原型(prototype)设计阶段的实验、测试已经足够。而该次制造费用就由所有参加mpw的项目按照芯片面积分摊,成本仅为单独进行原型制造成本的5%-10%,极大地降低了产品开发风险、培养集成电路设计人才的门槛和中小集成电路设计企业在起步时的门槛。
2、在多项目晶圆(mpw)中,将多种芯片版图(模块)拼接,即对于给定数目的多个不同形状和尺寸的芯片版图(模块),根据给定规则,对其进行合理摆放,使得组合而成的矩形区域面积最小。多项目晶圆mpw拼接成一个一次曝光的矩形区域,该矩形区域通常称为一个shot(即光刻机进行一次曝光的面积大小)。
3、多项目晶圆加工服务,是指多个用户同时共用同一个mask以及同一个shot面积。将原来单一用户使用的shot分成多个小格(称为die,即最终得到的芯片chip),每个小格分别由多个用户提供设计图案,整个晶圆以shot为基本单元,重复这多个用户的设计图案,最终多个用户共同承担本次晶圆加工费用。
< ...【技术保护点】
1.一种基于自适应搜索的多项目晶圆版图的拼接方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的拼接方法,其特征在于,若判定通过对所述至少一个多边形芯片进行旋转后获得的包络矩形的面积没有减小,则继续重复步骤S4到步骤S6的迭代优化处理。
3.根据权利要求1所述的拼接方法,其特征在于,基于所述最优的拼接区域的宽度放置多个多边形芯片。
4.一种电子设备,其特征在于,包括:存储器和处理器;
5.一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序指令,其特征在于,所述计算机程序指令被处理器执行时实现权利要求1-3中任一项所述的基于自适应搜索的多项目晶圆版图拼接方法。
【技术特征摘要】
1.一种基于自适应搜索的多项目晶圆版图的拼接方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的拼接方法,其特征在于,若判定通过对所述至少一个多边形芯片进行旋转后获得的包络矩形的面积没有减小,则继续重复步骤s4到步骤s6的迭代优化处理。
3.根据权利要求1所述的拼接方法,其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄耿斌,杨祖声,代超,
申请(专利权)人:深圳华大九天科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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