【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于磁体制备，更具体地说，涉及一种磁钢渗镝铽的工艺方法。
技术介绍
1、磁钢，尤其是钕铁硼磁钢，是由含稀土钕、铁和硼的物料经烧结制得的稀土永磁体。目前，业界常采用烧结法制作钕铁硼永磁材料，该类磁体微晶结构包含富钕相，富硼相，nd2fe14b相等，nd2fe14b相越多，磁体性能越优良。
2、在钕铁硼制备过程中，掺杂重稀土元素镝或铽能改善晶体结构，形成dy2fe14b相或tb2fe14b相，提高磁体性能。
3、一般而言，会在配方阶段添加dy、tb等重稀土元素，通过高温熔炼-氢破-气流磨-混粉-高温烧结，可以显著提高磁体内禀矫顽力，但是经过的工艺流程长，磁体剩磁下降幅度大，同时dy、tb等重稀土元素消耗数量大，产品制造成本上升。
4、还可以将烧结好加工后的磁钢通过磁控溅射，在磁钢表面进行渗镝/铽，而后经晶界扩散退火工艺（gbdp），让镝/铽扩散进入磁钢体，以使得烧结钕铁硼产品提升性能、从而降低成本。其缺点在于磁控溅射技术只是使得磁钢体表面形成镝/铽膜，扩散是利用浓度梯度来进行，扩散能力有限（只是在磁钢体表面浅层渗入了镝/铽，对性能的改善有限；而且溅射到磁钢表面的大量镝/铽都被随后的表面处理工艺浪费了。
技术实现思路
1、本专利技术要解决的技术问题在于提供一种磁钢渗镝铽的工艺方法，它可以实现镝铽在磁钢中分布更均匀的目的。
2、本专利技术的一种磁钢渗镝铽的工艺方法，包括以下步骤：
3、将制备磁钢的粉料通过磁控溅射，将镝或
4、作为本专利技术的进一步改进，粉料的磁控溅射在真空低氧、高纯氩气氛条件下的溅射区内进行。
5、作为本专利技术的进一步改进，粉料在磁控溅射前，在真空低氧、高纯氩气氛条件下的分装区内，铺设于粉料舟上，并在真空低氧、高纯氩气氛条件下转运至溅射区；粉料舟内的粉料在磁控溅射后，在真空低氧、高纯氩气氛条件下转运至包装区，并在真空低氧、高纯氩气氛条件下的包装区内，进行密封包装。
6、作为本专利技术的进一步改进，溅射源、弧源均为断续式工作。
7、作为本专利技术的进一步改进，粉料为超细粉。
8、作为本专利技术的进一步改进，粉料铺设在粉料舟的表面后进入溅射区内；在溅射区内固定设置有若干靶材；靶材下侧设置有供粉料舟匀速移动的传送带；靶材的溅射范围与粉料舟的移动路径部分重叠；粉料舟上端面隆起，下端面放置于传送带表面；粉料舟上端面粘附有若干黏膜以粘附粉料舟表面；粉料均匀粘附于黏膜表面；至少两个黏膜上的粉料，经过靶材的溅射范围后，受溅射强度不同。
9、作为本专利技术的进一步改进，粉料舟呈长条的拱型；靶材均匀分布于粉料舟的两侧；粉料舟两侧的靶材的功率不同，同一侧的靶材的功率相同；粉料舟表面分为强区和弱区；强区和弱区对应的粉料舟表面均覆盖至少有一条黏膜；强区和弱区对应的各黏膜沿粉料舟表面从下缘至上缘依序分布。
10、作为本专利技术的进一步改进，粉料舟呈塔型；粉料舟表面覆盖多条黏膜；黏膜沿粉料舟表面从下缘至上缘依序分布；靶材均固定设置于粉料舟上侧，并在传送带的宽度方向上呈弧形均匀分布，以使至少两个靶材的溅射范围重叠。
11、作为本专利技术的进一步改进，粉料舟下缘的外侧固定设置有滚齿；粉料舟的舟身内部中空，且设置有支撑轴；支撑轴上端与舟身内壁顶端转动连接，支撑轴上端固定连接在传送带上表面；传送带边缘固定设置有齿条；齿条与滚齿啮合，以驱使舟身转动；靶材均固定设置于粉料舟上侧，并在传送带的宽度方向上呈弧形均匀分布，以使至少两个靶材的溅射范围重叠。
12、相比于现有技术，本专利技术的有益效果在于：
13、磁钢在粉料阶段就通过磁控溅射获取了镝或铽元素，可以直接烧结成块，无需高温熔炼-氢破-气流磨-混粉等步骤，节约了工艺成本；此外，在粉料阶段就添加镝或铽，保证磁钢中镝或铽深入程度更深，且更均匀，提高磁钢性能。
14、除此之外，将粉料舟设置成具有隆起的上表面，而靶材的数量具有若干个，使得粉料舟表面的不同区域受溅射的程度不同，原因是靶材的溅射范围会具有重叠，或靶材的强度不一致；在这种前提下，靶材表面不同区域的粉料溅射的厚度就不同，而不同区域的粉料舟表面，黏附有对应的黏膜，将黏膜撕下后即可获取到不同溅射厚度的粉料，可以产出不同性能要求的粉料，适应各种不同的生产标准和要求。
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1.一种磁钢渗镝铽的工艺方法，其特征在于：包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种磁钢渗镝铽的工艺方法，其特征在于：粉料的磁控溅射在真空低氧、高纯氩气氛条件下的溅射区内进行。
3.根据权利要求2所述的一种磁钢渗镝铽的工艺方法，其特征在于：粉料在磁控溅射前，在真空低氧、高纯氩气氛条件下的分装区内，铺设于粉料舟上，并在真空低氧、高纯氩气氛条件下转运至溅射区；粉料舟内的粉料在磁控溅射后，在真空低氧、高纯氩气氛条件下转运至包装区，并在真空低氧、高纯氩气氛条件下的包装区内，进行密封包装。
4.根据权利要求1所述的一种磁钢渗镝铽的工艺方法，其特征在于：溅射源、弧源均为断续式工作。
5.根据权利要求1所述的一种磁钢渗镝铽的工艺方法，其特征在于：粉料为超细粉。
6.根据权利要求1所述的一种磁钢渗镝铽的工艺方法，其特征在于：粉料铺设在粉料舟（2）的表面后进入溅射区内；在溅射区内固定设置有若干靶材（3）；靶材（3）下侧设置有供粉料舟（2）匀速移动的传送带（1）；靶材（3）的溅射范围与粉料舟（2）的移动路径部分重叠；粉料舟（2）上端面隆起
7.根据权利要求6所述的一种磁钢渗镝铽的工艺方法，其特征在于：粉料舟（2）呈长条的拱型；靶材（3）均匀分布于粉料舟（2）的两侧；粉料舟（2）两侧的靶材（3）的功率不同，同一侧的靶材（3）的功率相同；粉料舟（2）表面分为强区和弱区；强区和弱区对应的粉料舟（2）表面均覆盖至少有一条黏膜（22）；强区和弱区对应的各黏膜（22）沿粉料舟（2）表面从下缘至上缘依序分布。
8.根据权利要求6所述的一种磁钢渗镝铽的工艺方法，其特征在于：粉料舟（2）呈塔型；粉料舟（2）表面覆盖多条黏膜（22）；黏膜（22）沿粉料舟（2）表面从下缘至上缘依序分布；靶材（3）均固定设置于粉料舟（2）上侧，并在传送带（1）的宽度方向上呈弧形均匀分布，以使至少两个靶材（3）的溅射范围重叠。
9.根据权利要求8所述的一种磁钢渗镝铽的工艺方法，其特征在于：粉料舟（2）下缘的外侧固定设置有滚齿（24）；粉料舟（2）的舟身（21）内部中空，且设置有支撑轴（23）；支撑轴（23）上端与舟身（21）内壁顶端转动连接，支撑轴（23）上端固定连接在传送带（1）上表面；传送带（1）边缘固定设置有齿条；齿条与滚齿（24）啮合，以驱使舟身（21）转动；靶材（3）均固定设置于粉料舟（2）上侧，并在传送带（1）的宽度方向上呈弧形均匀分布，以使至少两个靶材（3）的溅射范围重叠。
...【技术特征摘要】
1.一种磁钢渗镝铽的工艺方法，其特征在于：包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种磁钢渗镝铽的工艺方法，其特征在于：粉料的磁控溅射在真空低氧、高纯氩气氛条件下的溅射区内进行。
3.根据权利要求2所述的一种磁钢渗镝铽的工艺方法，其特征在于：粉料在磁控溅射前，在真空低氧、高纯氩气氛条件下的分装区内，铺设于粉料舟上，并在真空低氧、高纯氩气氛条件下转运至溅射区；粉料舟内的粉料在磁控溅射后，在真空低氧、高纯氩气氛条件下转运至包装区，并在真空低氧、高纯氩气氛条件下的包装区内，进行密封包装。
4.根据权利要求1所述的一种磁钢渗镝铽的工艺方法，其特征在于：溅射源、弧源均为断续式工作。
5.根据权利要求1所述的一种磁钢渗镝铽的工艺方法，其特征在于：粉料为超细粉。
6.根据权利要求1所述的一种磁钢渗镝铽的工艺方法，其特征在于：粉料铺设在粉料舟（2）的表面后进入溅射区内；在溅射区内固定设置有若干靶材（3）；靶材（3）下侧设置有供粉料舟（2）匀速移动的传送带（1）；靶材（3）的溅射范围与粉料舟（2）的移动路径部分重叠；粉料舟（2）上端面隆起，下端面放置于传送带（1）表面；粉料舟（2）上端面粘附有若干黏膜（22）以粘附粉料舟（2）表面；粉料均匀粘附于黏膜（22）表面；至少两个黏膜（22）上的粉料，经过靶材（3）的溅射范围后，受...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵昌苗，陈伍龙，黄苹丽，
申请(专利权)人：诸暨意创磁性技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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