气体浓度分析方法及装置制造方法及图纸

本申请提供一种气体浓度分析方法，该方法包括以下步骤：步骤S1、利用紫外分光光度法采集得待测物光谱；步骤S2、根据待测物光谱，计算得第一吸光度谱图；步骤S3、对第一吸光度谱图进行平滑处理，以获得第二吸光度谱图；步骤S4、根据第二吸光度谱图计算目标气体浓度。通过这种方式，可以避免待测物光谱中波动较大的值被忽略，从而可以在监控平台上实现真实污染物预警。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及气体检测，尤其涉及一种气体浓度分析方法及装置。

技术介绍

1、目前，在工艺过程控制行业，比如芯片制造、液晶屏面板制造等行业中，在芯片刻蚀过程中会实时排放cl2等有毒有害气体，对人身安全及环境造成较大的危害，由于对低限值的要求，数据波动较大就会影响整个测量水平；在过程安全行业，比如氯碱行业，会产生naclo3、cl2这样的有毒有害物质、气体，超出一定浓度会导致中毒事件的发生，现有报警仪大都存在测试不灵敏等的问题，异常数据的出现会导致报警仪“谎报”；在应急监测、化工园区安全巡查方面，h2s、nh3、o3等污染性气体的排放量较高，监测过程数据的稳定性至关重要。

2、在相关技术中，针对异常数据的处理方法之一就是校准，通过校准方法，将异常值回归到合理范围内，但其维持时间短，需要多次操作，当进入非线性区域后，校准的作用濒临失效；另外，通过光谱平均的方法来降低异常值在整体数据中的影响，从而保证整体检测浓度数据在某个水平值上下波动，但这种方法对整体的光谱稳定性要求较高。

3、因此，如何在监测平台上真实预警污染物、发现有害气体值超标是当务之本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种气体浓度分析方法，其特征在于，所述气体浓度分析方法包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的气体浓度分析方法，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的气体浓度分析方法，其特征在于，

4.根据权利要求1所述的气体浓度分析方法，其特征在于，

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6.根据权利要求5所述的气体浓度分析方法，其特征在于，所述构建传感器像元温度修正关系式包括以下步骤：

7.根据权利要求1所述的气体浓度分析方法，其特征在于，

8.一种气体浓度分析装置，其特征在于，所述装置包括：<...

【技术特征摘要】

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2.根据权利要求1所述的气体浓度分析方法，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的气体浓度分析方法，其特征在于，

4.根据权利要求1所述的气体浓度分析方法，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的气体浓度分析方法，其特征在于，

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【专利技术属性】
技术研发人员：郭杰，韩晓红，项金冬，于志伟，唐怀武，詹昭，杨禹，万应华，李好，王正贤，王贝贝，
申请(专利权)人：杭州泽天春来科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：