【技术实现步骤摘要】
本技术涉及化学清洗设备领域，具体为一种二氧化碳化学清洗监视管。
技术介绍
1、化学清洗是指利用化学方法及化学药剂达到清洗设备目的的方法，最初的化学清洗试剂普遍采用酸、碱、有机螯合剂、分散剂等化学药剂，达到溶解、清除附在金属表面的污垢、水垢的目的，适用于金属表面处理要求高的设备清洗。而随着科技的发展和进步，半导体行业的蓬勃发展对化学清洗提出了更高的要求，传统的化学清洗设备无法再用于精密、敏感的半导体设备的清洗作业，二氧化碳清洗应运而生，二氧化碳清洗是指利用二氧化碳气体的物理性质进行清洗的技术，因为二氧化碳是一种无毒、无味、无色、不易燃的气体，不会对环境造成污染，因此具有环保效果好的优点。二氧化碳清洗技术的应用范围非常广泛，包括电子、半导体、光学、医疗、食品、化工等领域。
2、在化学清洗设备运行过程中，需要使用监控管来采集化学清洗过程中的各项参数，以便清洗设备和工作人员判断化学清洗进程是否处于正常状态，比如申请号为：cn201310345460.3的中国专利，具体内容为：一种水冷壁化学清洗监视管，包括开口向上的pvc上部管道及竖...
【技术保护点】
1.一种二氧化碳化学清洗监视管，其特征在于：包括二氧化碳供应管一(1)、二氧化碳供应管二(2)和监视管壳体(5)，所述二氧化碳供应管一(1)通过密封法兰盘一(3)与所述监视管壳体(5)密封连接，所述二氧化碳供应管二(2)通过密封法兰盘二(4)与所述监视管壳体(5)密封连接，所述监视管壳体(5)的底部靠近所述密封法兰盘二(4)的位置设置有与所述监视管壳体(5)内部相连接的二氧化碳浓度检测传感器一(6)，所述监视管壳体(5)的顶部靠近所述密封法兰盘一(3)的位置设置有与所述监视管壳体(5)内部相连接的二氧化碳浓度检测传感器二(7)，所述监视管壳体(5)的中部设置有与所述监...
【技术特征摘要】
1.一种二氧化碳化学清洗监视管，其特征在于：包括二氧化碳供应管一(1)、二氧化碳供应管二(2)和监视管壳体(5)，所述二氧化碳供应管一(1)通过密封法兰盘一(3)与所述监视管壳体(5)密封连接，所述二氧化碳供应管二(2)通过密封法兰盘二(4)与所述监视管壳体(5)密封连接，所述监视管壳体(5)的底部靠近所述密封法兰盘二(4)的位置设置有与所述监视管壳体(5)内部相连接的二氧化碳浓度检测传感器一(6)，所述监视管壳体(5)的顶部靠近所述密封法兰盘一(3)的位置设置有与所述监视管壳体(5)内部相连接的二氧化碳浓度检测传感器二(7)，所述监视管壳体(5)的中部设置有与所述监视管壳体(5)内部相连接的流速传感器(8)，所述二氧化碳浓度检测传感器一(6)、所述二氧化碳浓度检测传感器二(7)、所述流速传感器(8)均与电控柜(10)电连接，所述电控柜(10)的壳体上电连接有扩音器(11)，所述扩音器(11)下方设置有与所述电控柜(10)电连接的工作指示灯(12)和开关按钮(13)，所述电控柜(10)的侧边通过电缆接头(14)与外部电力网电连接。
2.根据权利要求1所述的一种二氧化碳化学清洗监视管，其特征在于：所述电控柜(10)通过固定卡环(9)可拆卸的固定在所述监视管壳体(5)外部。
3.根据权利要求1所述的一种二氧化碳化学清洗监视管，其特征在于：所述二氧化碳浓度检测传感器一(6)、所述二氧化碳浓度检测...
【专利技术属性】
技术研发人员：马久剑，沈昌平，
申请(专利权)人：天津市武清区嘉玺气体销售有限公司，
类型：新型
国别省市：
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