【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及一种气体供给系统、气体控制系统、等离子体处理装置以及气体控制方法。
技术介绍
1、在专利文献1中公开了一种使用了设置于气体供给线路的压力控制式流量计、设置于所述气体供给线路的比所述压力控制式流量计靠上游侧的位置的第一阀、以及设置于所述气体供给线路的比所述压力控制式流量计靠下游侧的位置的第二阀进行的气体供给控制方法。另外，作为一例，专利文献1所记载的压力控制式流量计具有与第一阀及第二阀连接的控制阀、以及设置于控制阀与第二阀之间的节流孔。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本特开2016-201530号公报
技术实现思路
1、专利技术要解决的问题
2、本公开所涉及的技术从控制向处理腔室内供给的气体的流量的流量控制器的内部适当地将气体排气。
3、用于解决问题的方案
4、本公开的一个方式是向处理腔室内供给气体的气体供给系统，所述气体供给系统具有：多个气体供给流路，所述多个气体供给流路构成为能够各自独立地向所述处理腔室供给气体；流量控制器，在多个所述气体供给流路的各所述气体供给流路配置所述流量控制器；一次侧阀，其配置于所述气体供给流路中的比所述流量控制器靠上游侧的位置；一次侧气体排气流路，其在所述气体供给流路中的所述流量控制器与所述一次侧阀之间分支出来并连接于一次侧排气机构；一次侧排气阀，其配置于所述一次侧气体排气流路；二次侧阀，其配置于所述气体供给流路中的比所述流量控制器靠下游侧的位置；二次侧
5、专利技术的效果
6、根据本公开，能够适当地将气体从用于控制向处理腔室内供给的气体的流量的流量控制器的内部进行排气。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种气体供给系统，向处理腔室内供给气体，所述气体供给系统具有：
2.根据权利要求1所述的气体供给系统，还具有：
3.根据权利要求2所述的气体供给系统，其中，
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的气体供给系统，其中，
5.根据权利要求1至4中的任一项所述的气体供给系统，其中，
6.根据权利要求5所述的气体供给系统，其中，
7.根据权利要求5或6所述的气体供给系统，其中，
8.一种等离子体处理装置，对基板进行处理，所述等离子体处理装置具备：
9.一种气体控制系统，控制气体向处理腔室内的供给，所述气体控制系统具有：
10.根据权利要求9所述的气体控制系统，其中，
11.根据权利要求9或10所述的气体控制系统，其中，
12.根据权利要求11所述的气体控制系统，其中，
13.根据权利要求9至12中的任一项所述的气体控制系统，其中，
14.根据权利要求9至13中的任一项所述的气体控制系统，其中，
15.根据权利要求9至1
16.一种气体控制方法，是使用了气体控制系统的气体控制方法，
17.根据权利要求16所述的气体控制方法，其中，
18.一种气体控制系统，控制气体向处理腔室内的供给，所述气体控制系统具有：
19.根据权利要求18所述的气体控制系统，其中，
20.根据权利要求19所述的气体控制系统，其中，
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种气体供给系统，向处理腔室内供给气体，所述气体供给系统具有：
2.根据权利要求1所述的气体供给系统，还具有：
3.根据权利要求2所述的气体供给系统，其中，
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的气体供给系统，其中，
5.根据权利要求1至4中的任一项所述的气体供给系统，其中，
6.根据权利要求5所述的气体供给系统，其中，
7.根据权利要求5或6所述的气体供给系统，其中，
8.一种等离子体处理装置，对基板进行处理，所述等离子体处理装置具备：
9.一种气体控制系统，控制气体向处理腔室内的供给，所述气体控制系统具有：
10.根据权利要求9所述的气体控制系统，其中，
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【专利技术属性】
技术研发人员：泽地淳，石原田幸太，药师寺秀明，佐藤好保，森北信也，吉村正太，鹤田俊宽，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：
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