【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于柔性电子制备相关,更具体地,涉及一种pi仿生纳米结构及其制备方法与应用。
技术介绍
1、仿生微纳表面往往具有特殊粘附、结构色、陷光、疏水、抗菌等特性,通过在柔性电子器件材料表面制造相应的微结构,可以使该器件表面具备超疏水、陷光、抗菌、粘附等高强特性,这些特性对于提升柔性电子器件的性能,解决多场景应用等问题提供了新思路和新方法,如应用于光伏产品可提高光电转换效率,应用于医用植入物可实现杀菌、降低人体感染,应用于传感器件可提高其灵敏度及响应特性。
2、然而目前传统仿生微纳结构制备工艺如纳米压印、等离子刻蚀、模板法、气相沉积等,往往存在成本高昂、难以大批量生产、无法兼容柔性薄膜基板等缺点,且人工仿生制备的纳米结构表面往往难以达到与生物本身相媲美的性能。因此有必要寻找一种经济高效、可批量制造、且兼容柔性薄膜基板的微纳结构的制备方法。
技术实现思路
1、针对现有技术的以上缺陷或改进需求,本专利技术提供了一种pi仿生纳米结构及其制备方法与应用,其无需借助生物模版,可实现大面积
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【技术保护点】
1.一种PI仿生纳米结构的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
2.如权利要求1所述的PI仿生纳米结构的制备方法,其特征在于:PI膜的厚度为1μm~20μm。
3.如权利要求1所述的PI仿生纳米结构的制备方法,其特征在于:激光中心波长为308nm;激光能量密度为70mj/cm2-120mj/cm2,重复照射次数为10次-900次。
4.如权利要求3所述的PI仿生纳米结构的制备方法,其特征在于:重复照射次数为50次。
5.如权利要求1所述的PI仿生纳米结构的制备方法,其特征在于:在110℃下对热释放胶带进行加热,完成
...【技术特征摘要】
1.一种pi仿生纳米结构的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
2.如权利要求1所述的pi仿生纳米结构的制备方法,其特征在于:pi膜的厚度为1μm~20μm。
3.如权利要求1所述的pi仿生纳米结构的制备方法,其特征在于:激光中心波长为308nm;激光能量密度为70mj/cm2-120mj/cm2,重复照射次数为10次-900次。
4.如权利要求3所述的pi仿生纳米结构的制备方法,其特征在于:重复照射次数为50次。
5.如权利要求1所述的pi仿生纳米结构的制备方法,其特征在于:在110℃下对热释放胶带进行加热,完成pi膜的热释放过程。
6.如...
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