【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光刻，更具体地涉及一种快速换样装置及其快速换样方法。
技术介绍
1、极紫外光刻技术作为下一代光刻技术，被半导体行业赋予了拯救摩尔定律的使命。极紫外光刻胶是制造集成电路的关键材料，其性能直接影响到集成电路芯片的性能。极紫外光刻胶的核心曝光性能主要包含三个方面：灵敏度、分辨率和边缘粗糙度。对这些曝光性能的表征是极紫外光刻胶研发的必要条件和实现极紫外光刻胶配方优化的重要环节。
2、x射线干涉光刻(xil)是利用两束或多束相干x光束的干涉条纹对光刻胶进行曝光的新型先进微、纳加工技术，可以开展几十甚至十几个纳米周期的纳米结构加工。干涉光刻的原理是利用掩模光栅把一束光束分成多束相干光束，并在光刻胶处产生干涉条纹使光刻胶曝光，曝光图形即可被记录下来。通过检测曝光图形的质量即可表征光刻胶的性能。目前干涉光刻技术是唯一一种一次曝光即可实现光刻胶三种曝光性能同时检测的实验技术。
3、影响最终曝光条纹分辨率的因素除掩模光栅的周期外，还有曝光系统的稳定性，显影工艺等。为了提高曝光系统的稳定性，目前的方法是：将样品利用真空胶带粘贴在如图2所示的样品架6’上，样品架6’通过三个悬挂孔61’悬挂在如图3所示的样品台11’的三个电磁挂杆12’上。具体地，通过三个固定弹簧13’将样品架6’压紧至样品台11’上。曝光完成后，须先松开三个固定弹簧13’后，才能将样品架6’取出。其中，固定弹簧13’有两个状态：压紧状态与放松状态，需要手动改变这两个状态来实现对样品架6’的挤压或放松。放松状态时，固定弹簧13’被卡在一个固定销上，要
4、由于极紫外光/软x射线的传输特性，需要曝光腔体内处于真空状态，曝光前需要较长的时间来完成曝光腔体的真空获取；完成曝光后再破坏腔体的真空状态，将其恢复至大气状态后，才能手动完成样品的更换。因此在目前的状态下，一个完整的曝光过程中，真空获取及释放所花费的时间往往比实际曝光实验的时间还要长，导致了实验效率低下，曝光资源的浪费。
技术实现思路
1、为了解决上述现有技术中的实验效率低下等问题，本专利技术提供一种快速换样装置及其快速换样方法。
2、根据本专利技术的快速换样装置，其包括曝光腔体、第一换样腔体、第二换样腔体、第一传送杆和第二传送杆，其中，曝光腔体和第一换样腔体之间设置有第一真空阀门，曝光腔体和第二换样腔体之间设置有第二真空阀门，曝光腔体内安装有样品台，可移动的样品架通过电磁吸附装置固定在样品台的电磁挂杆上，第一传送杆设置为在真空状态下在第一换样腔体和曝光腔体之间移动以将样品架从第一换样腔体内的第一位置转移进入曝光腔体内的第二位置，第二传送杆设置为在真空状态下在曝光腔体和第二换样腔体之间移动以将样品架从曝光腔体内的第二位置转移进入第二换样腔体内的第三位置。
3、优选地，第一和第二传送杆与样品架分别可拆卸连接。
4、优选地，样品架为磁性材料。
5、优选地，固定在样品台上的样品架的位置通过第一电机和第二电机进行移动。
6、优选地，第一换样腔体和第二换样腔体分别位于曝光腔体的两侧。
7、根据本专利技术的上述快速换样装置的快速换样方法，其包括如下步骤：s1，关闭第一真空阀门与第二真空阀门，曝光腔体和第二换样腔体分别抽至真空状态使其处于工作状态，第一换样腔体处于大气状态；s2，将第一样品架放入第一换样腔体内，与第一传送杆连接，此时第一样品架处于第一位置；s3，开启第一换样腔体的真空泵抽第一换样腔体的真空，直到第一换样腔体的真空与曝光腔体的真空达到同一水平；s4，打开第一真空阀门，通过第一传送杆将第一样品架传送至曝光腔体内，悬挂至电磁挂杆上，此时第一样品架处于第二位置；s5，给电磁挂杆通电使其具有磁性，将第一样品架吸附在电磁挂杆上；s6，解开第一传送杆与第一样品架之间的连接，将第一传送杆退出曝光腔体，回到第一换样腔体内；s7，关闭第一真空阀门，开始曝光实验；s8，待曝光腔体内的曝光实验完成后，打开第二真空阀门，将第二传送杆与第一样品架连接后将电磁挂杆断电；s9，利用第二传送杆将第一样品架取出至第二换样腔体内，关闭第二真空阀门，此时第一样品架处于第三位置；s10，恢复第二换样腔体的真空至大气状态，将第一样品架取出。
8、优选地，在步骤s7之后，将第一换样腔体恢复至大气状态，将第二样品架放入第一换样腔体内，与第一传送杆连接后，开启第一换样腔体的真空泵抽第一换样腔体的真空，直到第一换样腔体的真空与曝光腔体的真空达到同一水平。
9、优选地，在步骤s9之后，重复步骤s4-s7将第二样品架放入曝光腔体内并将第三样品架放入第一换样腔体内。
10、优选地，在步骤s10将第一样品架取出后，开启第二换样腔体的真空泵抽第二换样腔体的真空，直到第二换样腔体的真空与曝光腔体的真空达到同一水平。
11、根据本专利技术的快速换样装置及其快速换样方法，通过第一换样腔体、第二换样腔体、第一传送杆、第二传送杆和电磁吸附装置，在样品更换时不破坏曝光腔体的真空状态，实现样品的快速更换，提升实验效率。
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1.一种快速换样装置，其特征在于，该快速换样装置包括曝光腔体、第一换样腔体、第二换样腔体、第一传送杆和第二传送杆，其中，曝光腔体和第一换样腔体之间设置有第一真空阀门，曝光腔体和第二换样腔体之间设置有第二真空阀门，曝光腔体内安装有样品台，可移动的样品架通过电磁吸附装置固定在样品台的电磁挂杆上，第一传送杆设置为在真空状态下在第一换样腔体和曝光腔体之间移动以将样品架从第一换样腔体内的第一位置转移进入曝光腔体内的第二位置，第二传送杆设置为在真空状态下在曝光腔体和第二换样腔体之间移动以将样品架从曝光腔体内的第二位置转移进入第二换样腔体内的第三位置。
2.根据权利要求1所述的快速换样装置，其特征在于，第一和第二传送杆与样品架分别可拆卸连接。
3.根据权利要求1所述的快速换样装置，其特征在于，样品架为磁性材料。
4.根据权利要求1所述的快速换样装置，其特征在于，固定在样品台上的样品架的位置通过第一电机和第二电机进行移动。
5.根据权利要求1所述的快速换样装置，其特征在于，第一换样腔体和第二换样腔体分别位于曝光腔体的两侧。
6.根据权利
7.根据权利要求6所述的快速换样方法，其特征在于，在步骤S7之后，将第一换样腔体恢复至大气状态，将第二样品架放入第一换样腔体内，与第一传送杆连接后，开启第一换样腔体的真空泵抽第一换样腔体的真空，直到第一换样腔体的真空与曝光腔体的真空达到同一水平。
8.根据权利要求7所述的快速换样方法，其特征在于，在步骤S9之后，重复步骤S4-S7将第二样品架放入曝光腔体内并将第三样品架放入第一换样腔体内。
9.根据权利要求6所述的快速换样方法，其特征在于，在步骤S10将第一样品架取出后，开启第二换样腔体的真空泵抽第二换样腔体的真空，直到第二换样腔体的真空与曝光腔体的真空达到同一水平。
...【技术特征摘要】
1.一种快速换样装置，其特征在于，该快速换样装置包括曝光腔体、第一换样腔体、第二换样腔体、第一传送杆和第二传送杆，其中，曝光腔体和第一换样腔体之间设置有第一真空阀门，曝光腔体和第二换样腔体之间设置有第二真空阀门，曝光腔体内安装有样品台，可移动的样品架通过电磁吸附装置固定在样品台的电磁挂杆上，第一传送杆设置为在真空状态下在第一换样腔体和曝光腔体之间移动以将样品架从第一换样腔体内的第一位置转移进入曝光腔体内的第二位置，第二传送杆设置为在真空状态下在曝光腔体和第二换样腔体之间移动以将样品架从曝光腔体内的第二位置转移进入第二换样腔体内的第三位置。
2.根据权利要求1所述的快速换样装置，其特征在于，第一和第二传送杆与样品架分别可拆卸连接。
3.根据权利要求1所述的快速换样装置，其特征在于，样品架为磁性材料。
4.根据权利要求1所述的快速换样装置，其特征在于，固定在样品台上的样品架的位置通过第一电机和第二电机进行移...
【专利技术属性】
技术研发人员：薛超凡，杨树敏，赵俊，龙家丽，吴衍青，王勇，邰仁忠，
申请(专利权)人：中国科学院上海高等研究院，
类型：发明
国别省市：
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