【技术实现步骤摘要】
以下涉及包括覆盖在芯体的一部分上的涂层的磨料颗粒、包括该磨料颗粒的研磨制品以及形成方法。
技术介绍
1、研磨制品用于材料去除操作中，诸如对各种材料进行切割、研磨或成形。固着研磨制品包括保持在粘结材料中的磨料颗粒。粘结材料可以包括有机材料和/或无机材料。有机粘结研磨制品通常在湿磨条件下表现不佳。具体而言，在湿磨操作中。本行业持续要求改善的研磨制品。
技术实现思路
1、本申请提一种磨料颗粒，包含：主体，所述主体包括：芯体，和涂层，所述涂层覆盖在所述芯体的至少一部分上，其中所述涂层包含以下中的至少一者：a)在至少0.01％至不大于25％的范围内的锂/硅百分比；b)在至少0.01％至不大于40％的范围内的钾/硅百分比；c)在至少0.01％至不大于40％的范围内的钠/硅百分比；或d)它们的任意组合。
2、本申请还提供一种固着研磨制品，其包含上述磨料颗粒。
3、本申请进一步提供一种磨料颗粒，包含：主体，所述主体包括：芯体，和涂层，所述涂层覆盖在所述芯体的至少一部分上，其中所述涂...
【技术保护点】
1.一种磨料颗粒，包含：
2.根据权利要求1所述的磨料颗粒，其中所述锂包括氧化锂。
3.根据权利要求1所述的磨料颗粒，其中所述硅包括二氧化硅。
4.根据权利要求1所述的磨料颗粒，其中所述钾包括氧化钾。
5.根据权利要求1所述的磨料颗粒，其中所述钠包括氧化钠。
6.根据权利要求1所述的磨料颗粒，其中所述涂层包含占所述涂层的总体积的不大于1vol％的总晶体含量。
7.根据权利要求1所述的磨料颗粒，其中所述涂层进一步包含至少一种含硅烷组合物。
8.一种固着研磨制品，其包含根据权利要求1所述的
<...【技术特征摘要】
1.一种磨料颗粒，包含：
2.根据权利要求1所述的磨料颗粒，其中所述锂包括氧化锂。
3.根据权利要求1所述的磨料颗粒，其中所述硅包括二氧化硅。
4.根据权利要求1所述的磨料颗粒，其中所述钾包括氧化钾。
5.根据权利要求1所述的磨料颗粒，其中所述钠包括氧化钠。
6.根据权利要求1所述的磨料颗粒，其中所述涂层包含占所述涂层的总体积的不大于1vol％的总晶体含量。
7.根据权利要求1所述的磨料颗粒...
【专利技术属性】
技术研发人员：施泽华，李大铭，宋晓超，张剑锋，牛浩然，
申请(专利权)人：圣戈班磨料磨具有限公司，
类型：发明
国别省市：
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