涂布工作台及狭缝涂布装置制造方法及图纸

技术编号:40859340 阅读:4 留言:0更新日期:2024-04-01 15:58
本申请公开了一种涂布工作台及狭缝涂布装置;涂布工作台包括载台和升降支撑柱;载台包括水平涂布区,水平涂布区沿涂布方向依次包括预涂区、匀涂区和收尾区;匀涂区分别与预涂区、收尾区隔断;升降支撑柱设于匀涂区的一侧;升降支撑柱包括承载面,承载面用于承载待涂布件,升降支撑柱带动待涂布件在匀涂区垂直升降。使用上述提供的涂布工作台进行涂布,涂布作业在预涂区起刀,涂布作业在收尾区收刀,使得待涂布件表面的膜层厚度不受起刀和落刀液量的影响,明显改善了涂布膜层厚度的均一性。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及加工,具体涉及一种涂布工作台及狭缝涂布装置


技术介绍

1、狭缝涂布是形成薄膜常用的一种涂布方式。而采用狭缝涂布工艺形成薄膜的过程中,在起刀位置和收刀位置形成的膜层的厚度与中心区域的的膜层的厚度不一致。


技术实现思路

1、本申请提供的涂布工作台及狭缝涂布装置,以改善涂布膜层厚度的均一性。

2、为了解决上述技术问题,本申请提供的第一个技术方案为:提供一种涂布工作台,包括载台和升降支撑柱;所述载台包括水平涂布区,所述水平涂布区沿涂布方向依次包括预涂区、匀涂区和收尾区;所述匀涂区分别与所述预涂区、所述收尾区隔断;所述升降支撑柱设于所述匀涂区的一侧,所述升降支撑柱包括承载面,所述承载面用于承载待涂布件,所述升降支撑柱带动所述待涂布件在所述匀涂区垂直升降。

3、在一实施方式中,所述匀涂区设有容置槽;所述升降支撑柱设置在所述容置槽的底壁,且沿着所述容置槽的深度方向垂直升降;优选地,所述容置槽的槽口面为所述匀涂区,所述匀涂区在所述涂布方向上的宽度占所述水平涂布区的总宽度的50%以上;优选地,所述匀涂区在所述涂布方向上的宽度占所述水平涂布区的总宽度的60%以上;优选地,所述匀涂区在所述涂布方向上的宽度占所述水平涂布区的总宽度的70%以上;优选地,所述匀涂区在所述涂布方向上的宽度占所述水平涂布区的总宽度的80%。

4、在一实施方式中,所述容置槽的槽口面面积与所述水平涂布区面积的比值大于等于80%;优选地,所述预涂区沿所述涂布方向的宽度为10mm-15mm,和/或所述收尾区沿所述涂布方向的宽度为5mm-20mm。

5、在一实施方式中,还包括基座;所述载台可拆卸安装于所述基座;优选地,所述基座靠近所述载台的一侧表面设有安装槽;所述载台还包括与所述水平涂布区相对设置的安装面,所述安装面设有避让槽;所述安装槽侧壁置于所述避让槽内。

6、为了解决上述技术问题,本申请提供的第二个技术方案为:提供一种狭缝涂布装置,包括:上述任一项所述的涂布工作台和狭缝组件;所述狭缝组件被配置为能够相对于所述涂布工作台的水平涂布区滑动,所述狭缝组件用于对置于所述涂布工作台的承载面上的待涂布件的涂布面进行涂布。

7、在一实施方式中,还包括清洁组件;所述清洁组件包括吸嘴,所述吸嘴用于吸除所述狭缝组件涂布作业后所述水平涂布区上的残留液体;所述吸嘴被配置为能够相对于所述涂布工作台相对滑动;优选地,所述清洁组件还包括集液槽,所述吸嘴与所述集液槽连通。

8、在一实施方式中,所述清洁组件还包括吸附件,所述吸附件被配置为能够相对于所述涂布工作台滑动;所述吸附件用于在所述吸嘴吸除所述水平涂布区上的残留液体之后对所述水平涂布区进行擦拭。

9、在一实施方式中,还包括找平组件,所述找平组件安装于所述基座和/或所述载台;所述找平组件用于确认所述待涂布件的涂布面与所述水平涂布区是否齐平;优选地,所述找平组件包括激光发射器,所述激光发射器用于发射激光。

10、在一实施方式中,还包括加热组件,用于对经过所述狭缝组件涂布的待涂布件进行烘烤退火。

11、在一实施方式中,所述狭缝组件用于对置于所述涂布工作台的承载面上的待涂布件表面涂布钙钛矿薄膜或空穴传输薄膜或电子传输薄膜。

12、本申请的有益效果:区别于现有技术,本申请公开了一种涂布工作台及狭缝涂布装置;涂布工作台包括载台和升降支撑柱;载台包括水平涂布区,水平涂布区沿涂布方向依次包括预涂区、匀涂区和收尾区,匀涂区分别与预涂区、收尾区隔断;升降支撑柱设于匀涂区的一侧,升降支撑柱包括承载面,承载面用于承载待涂布件,升降支撑柱带动待涂布件在匀涂区垂直升降。使用上述提供的涂布工作台进行涂布,涂布作业在预涂区起刀,涂布作业在收尾区收刀,使得待涂布件表面的膜层厚度不受起刀和落刀液量的影响,明显改善了涂布膜层厚度的均一性。

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【技术保护点】

1.一种涂布工作台,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的涂布工作台,其特征在于,所述匀涂区设有容置槽;所述升降支撑柱设置在所述容置槽的底壁,且沿着所述容置槽的深度方向垂直升降。

3.根据权利要求2所述的涂布工作台,其特征在于,所述容置槽的槽口面为所述匀涂区,所述匀涂区在所述涂布方向上的宽度占所述水平涂布区的总宽度的50%以上。

4.根据权利要求2所述的涂布工作台,其特征在于,所述匀涂区在所述涂布方向上的宽度占所述水平涂布区的总宽度的60%以上。

5.根据权利要求2所述的涂布工作台,其特征在于,所述匀涂区在所述涂布方向上的宽度占所述水平涂布区的总宽度的70%以上。

6.根据权利要求2所述的涂布工作台,其特征在于,所述匀涂区在所述涂布方向上的宽度占所述水平涂布区的总宽度的80%。

7.根据权利要求2所述的涂布工作台,其特征在于,所述容置槽的槽口面面积与所述水平涂布区面积的比值大于等于80%。

8.根据权利要求7所述的涂布工作台,其特征在于,所述预涂区沿所述涂布方向的宽度为10mm-15mm,和/或所述收尾区沿所述涂布方向的宽度为5mm-20mm。

9.根据权利要求1所述的涂布工作台,其特征在于,还包括基座;所述载台可拆卸安装于所述基座。

10.根据权利要求9所述的涂布工作台,其特征在于,所述基座靠近所述载台的一侧表面设有安装槽;所述载台还包括与所述水平涂布区相对设置的安装面,所述安装面设有避让槽;所述安装槽侧壁置于所述避让槽内。

11.一种狭缝涂布装置,其特征在于,包括:

12.根据权利要求11所述的狭缝涂布装置,其特征在于,还包括清洁组件;所述清洁组件包括吸嘴,所述吸嘴用于吸除所述狭缝组件涂布作业后所述水平涂布区上的残留液体;所述吸嘴被配置为能够相对于所述涂布工作台相对滑动。

13.根据权利要求12所述的狭缝涂布装置,其特征在于,所述清洁组件还包括集液槽,所述吸嘴与所述集液槽连通。

14.根据权利要求12所述的狭缝涂布装置,其特征在于,所述清洁组件还包括吸附件,所述吸附件被配置为能够相对于所述涂布工作台滑动;所述吸附件用于在所述吸嘴吸除所述水平涂布区上的残留液体之后对所述水平涂布区进行擦拭。

15.根据权利要求11所述的狭缝涂布装置,其特征在于,所述狭缝涂布装置还包括找平组件;所述涂布工作台包括基座;所述找平组件安装于所述基座和/或所述载台;所述找平组件用于确认所述待涂布件的涂布面与所述水平涂布区是否齐平。

16.根据权利要求15所述的狭缝涂布装置,其特征在于,所述找平组件包括激光发射器,所述激光发射器用于发射激光。

17.根据权利要求11所述的狭缝涂布装置,其特征在于,还包括加热组件,用于对经过所述狭缝组件涂布的待涂布件进行烘烤退火。

18.根据权利要求11所述的狭缝涂布装置,其特征在于,所述狭缝组件用于对置于所述涂布工作台的承载面上的待涂布件表面涂布钙钛矿薄膜或空穴传输薄膜或电子传输薄膜。

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【技术特征摘要】

1.一种涂布工作台,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的涂布工作台,其特征在于,所述匀涂区设有容置槽;所述升降支撑柱设置在所述容置槽的底壁,且沿着所述容置槽的深度方向垂直升降。

3.根据权利要求2所述的涂布工作台,其特征在于,所述容置槽的槽口面为所述匀涂区,所述匀涂区在所述涂布方向上的宽度占所述水平涂布区的总宽度的50%以上。

4.根据权利要求2所述的涂布工作台,其特征在于,所述匀涂区在所述涂布方向上的宽度占所述水平涂布区的总宽度的60%以上。

5.根据权利要求2所述的涂布工作台,其特征在于,所述匀涂区在所述涂布方向上的宽度占所述水平涂布区的总宽度的70%以上。

6.根据权利要求2所述的涂布工作台,其特征在于,所述匀涂区在所述涂布方向上的宽度占所述水平涂布区的总宽度的80%。

7.根据权利要求2所述的涂布工作台,其特征在于,所述容置槽的槽口面面积与所述水平涂布区面积的比值大于等于80%。

8.根据权利要求7所述的涂布工作台,其特征在于,所述预涂区沿所述涂布方向的宽度为10mm-15mm,和/或所述收尾区沿所述涂布方向的宽度为5mm-20mm。

9.根据权利要求1所述的涂布工作台,其特征在于,还包括基座;所述载台可拆卸安装于所述基座。

10.根据权利要求9所述的涂布工作台,其特征在于,所述基座靠近所述载台的一侧表面设有安装槽;所述载台还包括与所述水平涂布区相对设置的安装面,所述安装面设有避让...

【专利技术属性】
技术研发人员:高薇吕奎
申请(专利权)人:合肥维信诺科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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