【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于真空蒸镀粉体材料的蒸镀方法及在该蒸镀方法中使用的蒸镀用容器。
技术介绍
1、通常，在真空蒸镀中对装入有材料的容器进行加热，并适当地调节该温度，由此使材料气化所希望的量并沉积在基板上。
2、在此，在真空蒸镀中，为了形成适当的膜，需要适当地控制每单位时间的材料向基板侧的沉积量即所谓的沉积速率，并以恒定的沉积速率稳定地进行蒸镀。
3、例如，在有机el(electro luminescence：电致发光)显示的制造中，在透明的基板上形成有机el薄膜。
4、在此，当形成有机el薄膜时，有时同时蒸镀沸点(升华点)不同的多个材料。此时，若1种材料的沉积速率发生变动，则导致所形成的有机el薄膜的成分发生变动，从而无法形成适当的有机el薄膜。
5、据此，为了在真空蒸镀中恒定地保持沉积速率，提出了各种方案。
6、例如，专利文献1中记载了一种蒸发源及使用该蒸发源的蒸镀装置，该蒸发源具备：容器，收容蒸发材料或升华材料；开口部，配置于容器的上部，控制在容器内蒸发或升华的材料排出到该容器外的量；突沸物遮蔽板，配置于开口部下方，进行遮蔽以免容器内的蒸发材料或升华材料突沸而形成的突沸物排出到容器外；及加热器，加热突沸物遮蔽板。
7、专利文献1：国际公开第2006/075401号
8、通过使用专利文献1中记载的蒸发源，即使在材料突沸时，也能够抑制材料从蒸发源被排出。
9、材料的突沸引起的向蒸发源外部的排出是沉积速率变动的原因之一。因此，通过使用专
10、然而，真空蒸镀中的沉积速率的变动因素除了突沸以外还有各种因素，希望出现进一步恒定地保持沉积速率的真空蒸镀方法。
技术实现思路
1、本专利技术的目的为解決这种以往技术的问题点，并提供一种在蒸镀粉体材料的真空蒸镀中，能够恒定地保持沉积速率，而且也能够抑制用于提高沉积速率的容器温度的上升，即使是容易热分解的粉体材料也能够以所希望的沉积速率进行蒸镀的蒸镀方法。
2、为了解决该课题，本专利技术具有以下构成。
3、[1]一种蒸镀方法，其在真空蒸镀粉体材料时，使用下述容器作为用于收容粉体材料并加热的容器并通过加热该容器来进行粉体材料的真空蒸镀，所述容器具有：
4、收容部，收容粉体材料；及1个以上的开口，用于将粉体材料的蒸气从收容部排出，
5、当所将收容部的内表面的面积设为s，将开口的总面积设为o时，以o/s的百分比计，内表面的面积s与开口的总面积o的比例为0.06～2％。
6、[2]根据[1]所述的蒸镀方法，其中，
7、容器具有多个开口。
8、[3]根据[1]或[2]所述的蒸镀方法，其中，
9、开口的面积为1mm2以下。
10、[4]根据[1]至[3]中任一项所述的蒸镀方法，其中，
11、开口彼此间隔1mm以上。
12、[5]根据[1]至[4]中任一项所述的蒸镀方法，其中，
13、开口为圆形。
14、[6]根据[1]至[5]中任一项所述的蒸镀方法，其中，
15、当将收容部的底面积设为sb时，以sb/s的百分比计，容器的内表面的面积s与底面积sb的比例为20％以上。
16、[7]根据[1]至[6]中任一项所述的蒸镀方法，其中，
17、粉体材料的气化温度与分解温度之差为70℃以下。
18、[8]根据[1]至[7]中任一项所述的蒸镀方法，其中，
19、粉体材料具有升华性。
20、[9]根据[1]至[8]中任一项所述的蒸镀方法，其中，
21、容器具有：容器主体，构成收容部的至少一部分；及盖体，具有开口且与容器主体卡合，
22、容器主体及盖体由通过通电而发热的材料形成。
23、[10]根据[1]至[9]中任一项所述的蒸镀方法，其中，
24、将粉体材料的体积保持在收容部的容积的50～5％的范围内，而进行粉体材料的蒸镀。
25、[11]一种蒸镀用容器，其在进行真空蒸镀时，收容所要蒸镀的材料并加热，所述蒸镀用容器具有：
26、收容部，收容材料；及1个以上的开口，用于将材料的蒸气从收容部排出，
27、当将收容部的内表面的面积设为s，将开口的总面积设为o时，以o/s的百分比计，内表面的面积s与开口的总面积o的比例为0.06～2％。
28、专利技术效果
29、根据本专利技术，在蒸镀粉体材料的真空蒸镀中，能够恒定地保持沉积速率，而且也能够抑制用于提高沉积速率的容器温度的上升，即使为容易热分解的粉体材料也能够以所希望的沉积速率进行真空蒸镀。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种蒸镀方法，其在真空蒸镀粉体材料时，使用下述容器作为用于收容所述粉体材料并加热的容器并通过加热所述容器来进行所述粉体材料的真空蒸镀，
2.根据权利要求1所述的蒸镀方法，其中，
3.根据权利要求2所述的蒸镀方法，其中，
4.根据权利要求2或3所述的蒸镀方法，其中，
5.根据权利要求1或2所述的蒸镀方法，其中，
6.根据权利要求1或2所述的蒸镀方法，其中，
7.根据权利要求1或2所述的蒸镀方法，其中，
8.根据权利要求1或2所述的蒸镀方法，其中，
9.根据权利要求1或2所述的蒸镀方法，其中，
10.根据权利要求1或2所述的蒸镀方法，其中，
11.一种蒸镀用容器，其在进行真空蒸镀时，收容所要蒸镀的材料并加热，所述蒸镀用容器具有：
【技术特征摘要】
1.一种蒸镀方法，其在真空蒸镀粉体材料时，使用下述容器作为用于收容所述粉体材料并加热的容器并通过加热所述容器来进行所述粉体材料的真空蒸镀，
2.根据权利要求1所述的蒸镀方法，其中，
3.根据权利要求2所述的蒸镀方法，其中，
4.根据权利要求2或3所述的蒸镀方法，其中，
5.根据权利要求1或2所述的蒸镀方法，其中，
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【专利技术属性】
技术研发人员：望月佳彦，岩田充，米久田康智，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：
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