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用于全场成像装置的原位装置制造方法及图纸

技术编号:40805363 阅读:2 留言:0更新日期:2024-03-28 19:29
本发明专利技术涉及一种用于全场成像装置的原位装置,包括底座和外壳,所述外壳设于所述底座上,所述底座上设有用于支撑样品的支撑台,所述外壳内部中空且底部具有开口,所述底座的支撑台从所述开口伸入所述外壳的内腔中,所述外壳上设有进气管和至少一个窗口,所述进气管用于通入反应气体,所述窗口用于供激光穿过。本发明专利技术的用于全场成像装置的原位装置,结构简单,体积小,可安装在全场成像装置的狭小空间中,使得样品可以进行原位实验,并获取原位实验后的样品的三维结构特征。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及原位实验,更具体地涉及一种用于全场成像装置的原位装置


技术介绍

1、固体氧化物电池在大型集中供电、中型分电和小型家用热电联供等民用领域作为固定电站,以及作为船舶动力电源、交通车辆动力电源等移动电源,都有广阔的应用前景。作为一种复杂多层次的电池系统,还存在一些基础原理尚未清晰。例如:电极材料界面结构演变过程,电极/电解质材料的结构变化和相变/相析出行为等。在诸多研究电池材料的方式中,原位实验能够在材料反应过程中得到实时的结构变化信息,可以深入地认识材料在充放电过程中的电化学行为以及结构演变过程,对电极材料和结构进行进一步优化也具有很大的指导意义。

2、近年来,同步辐射因具有高亮度、宽波段、窄脉冲、高准直和高偏振等特点,可用于材料在不同维度的形貌、微观结构和化学信息的表征,从多方面深入理解能源材料的反应机制与衰减机理。同步辐射全场成像方法突破了扫描电镜、透射电镜和原子力显微镜等只能研究薄样品或者样品表面的限制,可获得样品在纳米尺度上的三维结构,若能与电池的原位实验相结合,则可以开展对电池材料的原位无损三维结构表征,以对电池性能进行深入研究。

3、但是,现有的全场成像装置为封闭空间,样品放入后,整个装置抽真空,此时无法使用原位装置对样品进行原位反应,因此无法通过全场成像装置获取样品在原位实验过程中的三维结构。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种用于全场成像装置的原位装置,使得样品可在全场成像装置的狭小空间内实现原位实验,并通过全场成像装置获取样品在原位实验过程中的三维结构。

2、基于上述目的,本专利技术提供一种用于全场成像装置的原位装置,包括底座和外壳,所述外壳设于所述底座上,所述底座上设有用于支撑样品的支撑台,所述外壳内部中空且底部具有开口,所述底座的支撑台从所述开口伸入所述外壳的内腔中,所述外壳上设有进气管和至少一个窗口,所述进气管用于通入反应气体,所述窗口用于供激光穿过。

3、进一步地,所述底座包括第一支撑座、第二支撑座和连接在所述第一支撑座和所述第二支撑座之间的支撑柱,所述支撑台固定在所述第二支撑座上。

4、进一步地,所述外壳置于所述第二支撑座上。

5、进一步地,所述外壳的底面与所述第二支撑座的顶面贴合。

6、进一步地,所述第二支撑座上设有出气孔,且在所述外壳的底面与所述第二支撑座的顶面贴合后,所述出气孔位于所述外壳的内腔中。

7、进一步地,所述底座由陶瓷制成。

8、进一步地,所述窗口由石英材料制成。

9、进一步地,所述第二支撑座上设有温度传感器。

10、进一步地,所述外壳上设有通孔,所述进气管插入所述通孔中。

11、本专利技术的用于全场成像装置的原位装置,外壳设置在底座上,底座上的支撑台位于外壳的内腔内,以在内腔中进行原位反应,其结构简单,体积小,可以安装在全场成像装置的狭小空间中,使得样品可以进行原位实验,在原位实验完成后,可将外壳拆除,然后由全场成像装置对原位反应后的样品进行三维成像,得到样品的三维结构特征。

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【技术保护点】

1.一种用于全场成像装置的原位装置,其特征在于,包括底座和外壳,所述外壳设于所述底座上,所述底座上设有用于支撑样品的支撑台,所述外壳内部中空且底部具有开口,所述底座的支撑台从所述开口伸入所述外壳的内腔中,所述外壳上设有进气管和至少一个窗口,所述进气管用于通入反应气体,所述窗口用于供激光穿过。

2.根据权利要求1所述的全场成像装置的原位装置,其特征在于,所述底座包括第一支撑座、第二支撑座和连接在所述第一支撑座和所述第二支撑座之间的支撑柱,所述支撑台固定在所述第二支撑座上。

3.根据权利要求2所述的全场成像装置的原位装置,其特征在于,所述外壳置于所述第二支撑座上。

4.根据权利要求3所述的全场成像装置的原位装置,其特征在于,所述外壳的底面与所述第二支撑座的顶面贴合。

5.根据权利要求4所述的全场成像装置的原位装置,其特征在于,所述第二支撑座上设有出气孔,且在所述外壳的底面与所述第二支撑座的顶面贴合后,所述出气孔位于所述外壳的内腔中。

6.根据权利要求1所述的全场成像装置的原位装置,其特征在于,所述底座由陶瓷制成。

>7.根据权利要求1所述的全场成像装置的原位装置,其特征在于,所述窗口由石英材料制成。

8.根据权利要求2所述的全场成像装置的原位装置,其特征在于,所述第二支撑座上设有温度传感器。

9.根据权利要求1所述的全场成像装置的原位装置,其特征在于,所述外壳上设有通孔,所述进气管插入所述通孔中。

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【技术特征摘要】

1.一种用于全场成像装置的原位装置,其特征在于,包括底座和外壳,所述外壳设于所述底座上,所述底座上设有用于支撑样品的支撑台,所述外壳内部中空且底部具有开口,所述底座的支撑台从所述开口伸入所述外壳的内腔中,所述外壳上设有进气管和至少一个窗口,所述进气管用于通入反应气体,所述窗口用于供激光穿过。

2.根据权利要求1所述的全场成像装置的原位装置,其特征在于,所述底座包括第一支撑座、第二支撑座和连接在所述第一支撑座和所述第二支撑座之间的支撑柱,所述支撑台固定在所述第二支撑座上。

3.根据权利要求2所述的全场成像装置的原位装置,其特征在于,所述外壳置于所述第二支撑座上。

4.根据权利要求3所述的全场成像装置的原位装置,其...

【专利技术属性】
技术研发人员:张玲邓彪杜国浩陶芬汪俊
申请(专利权)人:中国科学院上海高等研究院
类型:发明
国别省市:

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