System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 保护膜、层叠体制造技术_技高网

保护膜、层叠体制造技术

技术编号:40778938 阅读:7 留言:0更新日期:2024-03-25 20:23
本发明专利技术提供一种与电极的密合性优异且耐湿热性也优异的保护膜及层叠体。本发明专利技术的保护膜是电极用保护膜,保护膜含有具有重复单元A的聚合物A,该重复单元A具有酸基,保护膜的酸值为120mgKOH/g以下,保护膜在波长300~400nm的范围内具有极大吸收波长,将保护膜H在140℃下加热30分钟时,在极大吸收波长下的K(吸收系数)/S(散射系数)的变化率为10%以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及一种保护膜及层叠体。


技术介绍

1、在静电电容型输入装置等具备触摸面板的显示装置(例如,有机电致发光显示装置及液晶显示装置等)中,在触摸面板的内部设置有相当于视觉辨认部的传感器的周边布线部分及引出布线部分的布线等电极图案。

2、为了保护上述电极图案,使用保护膜的情况较多。作为在电极图案上形成保护膜的方法,例如,广泛使用如下方法:使用感光性材料形成感光性层的方法;及由于用于获得图案形状的工序数少而使用具有临时支承体及使用感光性材料形成的感光性层的转印膜的方法。作为使用转印膜形成图案的方法,可以举出如下方法:隔着具有规定的图案形状的掩模,对从转印膜转印到任意基材上的感光性层实施曝光及显影。

3、作为保护膜,例如,在专利文献1中,公开了一种使用“在基材上含有具有酸值为75mgkoh/g以上的羧基的粘合剂聚合物、光聚合性化合物及光聚合引发剂的感光性树脂组合物”及“具备支承膜及设置于上述支承膜上的由上述感光性树脂组合物构成的感光层的感光性元件”形成的保护膜。

4、以往技术文献

5、专利文献

6、专利文献1:国际公开第2013/084886号


技术实现思路

1、专利技术要解决的技术课题

2、对电极用保护膜要求与电极的密合性及耐湿热性两者均优异。耐湿热性优异是指,当使保护膜与电极接触并在恒温恒湿条件下保管一定期间时,电极不易变色。

3、本专利技术人等使用如专利文献1中所记载的感光性材料等在电极上形成保护膜的结果,发现难以实现与电极的密合性及耐湿热性两者。

4、因此,本专利技术的课题在于提供一种与电极的密合性优异且耐湿热性也优异的保护膜。并且,本专利技术的课题还在于提供一种层叠体。

5、用于解决技术课题的手段

6、本专利技术人等为了解决上述课题而进行了深入研究的结果,发现通过以下结构能够解决上述课题,以至完成了本专利技术。

7、(1)一种保护膜,其为电极用保护膜,

8、保护膜含有具有重复单元a的聚合物a,该重复单元a具有酸基,

9、保护膜的酸值为120mgkoh/g以下,

10、保护膜在波长300~400nm的范围内具有极大吸收波长,

11、将保护膜在140℃下加热30分钟时,极大吸收波长下的k(吸收系数)/s(散射系数)的变化率为10%以下。

12、(2)根据(1)所述的保护膜,其中,

13、保护膜的酸值为100mgkoh/g以下。

14、(3)根据(1)或(2)所述的保护膜,其中,

15、保护膜的酸值为80mgkoh/g以下。

16、(4)根据(1)至(3)中任一项所述的保护膜,其中,

17、将保护膜在140℃下加热30分钟之后,极大吸收波长下的k/s为4.0以下。

18、(5)根据(1)至(4)中任一项所述的保护膜,其中,

19、将保护膜在140℃下加热30分钟之后,极大吸收波长下的k/s为0.01以上。

20、(6)根据(1)至(5)中任一项所述的保护膜,其中,

21、聚合物a具有从含氮芳香族化合物去除1个氢原子而形成的基团,

22、含氮芳香族化合物在波长300~400nm范围内具有极大吸收波长。

23、(7)根据(1)至(6)中任一项所述的保护膜,其中,

24、聚合物a具有由后述的式(zb2)表示的基团。

25、(8)根据(1)至(7)中任一项所述的保护膜,其中,

26、重复单元a具有由后述的式(a1)表示的重复单元或由后述的式(a2)表示的重复单元。

27、(9)根据(1)至(8)中任一项所述的保护膜,其中,

28、保护膜的酸值为5mgkoh/g以上。

29、(10)一种层叠体,其依次具有基板、电极及(1)至(9)中任一项所述的保护膜。

30、专利技术效果

31、根据本专利技术能够提供一种与电极的密合性优异且耐湿热性也优异的保护膜。并且,还能够提供层叠体。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种保护膜,其为电极用保护膜,

2.根据权利要求1所述的保护膜,其中,

3.根据权利要求1所述的保护膜,其中,

4.根据权利要求1所述的保护膜,其中,

5.根据权利要求1所述的保护膜,其中,

6.根据权利要求1所述的保护膜,其中,

7.根据权利要求1所述的保护膜,其中,

8.根据权利要求1所述的保护膜,其中,

9.根据权利要求1所述的保护膜,其中,

10.一种层叠体,其依次具有基板、电极及权利要求1至9中任一项所述的保护膜。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种保护膜,其为电极用保护膜,

2.根据权利要求1所述的保护膜,其中,

3.根据权利要求1所述的保护膜,其中,

4.根据权利要求1所述的保护膜,其中,

5.根据权利要求1所述的保护膜,其中,

6.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:山口圭吾儿玉邦彦
申请(专利权)人:富士胶片株式会社
类型:发明
国别省市:

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