【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本文中的描述涉及图像检查装置的领域，更具体涉及基于异常的缺陷检查。
技术介绍
1、图像检查装置(例如，带电粒子射束装置或光学射束装置)能够通过在由与检查装置相关联的源生成的射束(例如，带电粒子射束或光学射束)撞击后检测来自晶片衬底的表面的粒子(例如，光子、二次电子、背散射电子、镜像电子或其他种类的电子)来产生晶片衬底的二维(2d)图像。在半导体工业中，各种图像检查装置在半导体晶片上用于各种目的，诸如晶片处理(例如，电子射束直写光刻系统)、过程监测(例如，临界尺寸扫描电子显微镜(cd-sem))、晶片检查(例如，电子射束检查系统)或缺陷分析(例如，缺陷检查sem(或被称为dr-sem)和聚焦离子射束系统(或被称为fib))。
2、为了控制晶片衬底上制造的结构的质量，可以分析晶片衬底的2d图像以检测晶片衬底中的潜在缺陷。管芯到数据库(d2db)检查是基于2d图像的缺陷检查技术，其中图像检查装置可以将2d图像与对应于2d图像的(例如，基于设计布局而生成的)数据库表示进行比较，并且基于该比较来检测潜在缺陷。d2db检查对于晶片生产的质量和效率很重要。随着晶片上的节点越来越小并且检查吞吐量越来越快，对d2db检查的改进被检查。
技术实现思路
1、本公开的各实施例提供了用于检测样品上的缺陷的系统和方法。在一些实施例中，一种用于检测样品上的缺陷的方法可以包括：通过包括电路系统的控制器接收第一图像和与第一图像相关联的第二图像。该方法还可以包括：使用聚类技术来确定第一图像中的l个第一像素
2、在一些实施例中，一种系统可以包括图像检查装置，该图像检查装置被配置为扫描样品并且生成样品的检查图像；以及控制器，包括电路系统。控制器可以被配置为用于接收第一图像和与第一图像相关联的第二图像。控制器还可以被配置为使用聚类技术来确定第一图像中的l个第一像素(多个)的n个第一特征描述符(多个)和第二图像中的l个第二像素(多个)的m个第二特征描述符(多个)，其中l个第一像素(多个)中的每个第一像素与l个第二像素(多个)中的一个第二像素同位地定位，并且l、m和n为正整数。控制器还可以被配置为用于确定n个第一特征描述符(多个)中的第一特征描述符与m个第二特征描述符(多个)中的k个第二特征描述符(多个)中的每个第二特征描述符之间的k个映射概率，其中k为正整数。控制器还可以被配置为用于基于确定k个映射概率中的一个映射概率不超过阈值来提供用于确定是否存在表示样品上的候选缺陷的反常像素的输出。
3、在一些实施例中，一种非暂态计算机可读介质可以存储指令集合，该指令集合可由装置的至少一个处理器实行以使得装置执行一种方法。该方法可以包括：接收第一图像和与第一图像相关联的第二图像。该方法还可以包括：使用聚类技术来确定第一图像中的l个第一像素(多个)的n个第一特征描述符(多个)和第二图像中的l个第二像素(多个)的m个第二特征描述符(多个)，其中l个第一像素(多个)中的每个第一像素与l个第二像素(多个)中的一个第二像素同位地定位，并且l、m和n为正整数。该方法还可以包括：确定n个第一特征描述符(多个)中的第一特征描述符与m个第二特征描述符(多个)中的k个第二特征描述符(多个)中的每个第二特征描述符之间的k个映射概率，其中k为正整数。该方法还可以包括：基于确定k个映射概率中的一个映射概率不超过阈值来提供用于确定是否存在表示样品上的候选缺陷的反常像素的输出。
4、在一些实施例中，一种用于检测样品上的缺陷的方法可以包括：通过包括电路系统的控制器接收第一图像和与第一图像相关联的第二图像，该第一图像包括第一区域，而第二图像包括第二区域。该方法还可以包括：使用聚类技术确定表示第一区域中的多个像素的特征的第一描述符和表示第二区域中的多个同位像素的特征的m个第二描述符，其中多个像素中的每个像素与多个同位像素中的一个像素同位地定位，并且m为正整数。该方法还可以包括：确定多个映射关系的频率，其中多个映射关系中的每个映射关系将第一区域中的多个像素中的第一像素与第二区域中的多个同位像素中的第二像素相关联，第一像素与第一描述符相关联，第二像素与m个第二描述符中的一个第二描述符相关联，并且第一像素与第二像素同位地定位。该方法还可以包括：基于确定与反常像素相关联的映射关系的频率不超过频率阈值来提供用于确定是否存在表示样品上的候选缺陷的反常像素的输出。
5、在一些实施例中，一种系统可以包括图像检查装置，被配置为扫描样品并且生成样品的检查图像；以及控制器，包括电路系统。该控制器可以被配置为用于接收第一图像和与第一图像相关联的第二图像，该第一图像包括第一区域，而第二图像包括第二区域。该控制器还可以被配置为用于使用聚类技术来确定表示第一区域中的多个像素的特征的第一描述符和表示第二区域中的多个同位像素的特征的m个第二描述符，其中多个像素中的每个像素与多个同位像素中的一个像素同位地定位，并且m为正整数。控制器还可以被配置为用于确定多个映射关系的频率，其中多个映射关系中的每个映射关系将第一区域中的多个像素中的第一像素与第二区域中的多个同位像素中的第二像素相关联，第一像素与第一描述符相关联，而第二像素与m个第二描述符中的一个第二描述符相关联，并且第一像素与第二像素同位地定位。控制器还可以被配置为用于基于确定与反常像素相关联的映射关系的频率不超过频率阈值来提供用于确定是否存在表示样品上的候选缺陷的反常像素的输出。
6、在一些实施例中，一种非暂态计算机可读介质可以存储指令集合，该指令集合可由装置的至少一个处理器实行以使得装置执行一种方法。该方法可以包括：接收第一图像和与第一图像相关联的第二图像，第一图像包括第一区域，而第二图像包括第二区域。该方法还可以包括：使用聚类技术确定表示第一区域中的多个像素的特征的第一描述符和表示第二区域中的多个同位像素的特征的m个第二描述符，其中多个像素中的每个像素个同位像素中的一个像素定位，并且m为正整数。该方法还可以包括：确定多个映射关系的频率，其中多个映射关系中的每个映射关系将第一区域中的多个像素中的第一像素与第二区域中的多个同位像素中的第二像素相关联，第一像素与第一描述符相关联，而第二像素与m个第二描述符中的一个第二描述符相关联，并且第一像素与第二像素同位地定位。该方法还可以包括：基于确定与反常像素相关联的映射关系的频率不超过频率阈值来提供用于确定是否存在表示样品上的候选缺陷的反常像素的输出。
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1.一种用于检测样品上的缺陷的方法，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其中所述N个第一特征描述符中的每个第一特征描述符表示所述L个第一像素的子集的特征，并且所述M个第二特征描述符中的每个第二特征描述符表示所述L个第二像素的子集的特征。
3.根据权利要求2所述的方法，其中所述反常像素在所述L个第一像素的所述子集中。
4.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一图像是由扫描所述样品的图像检查装置生成的检查图像，所述第二图像是与所述样品相关联的设计布局图像，并且所述反常像素在所述第一图像中。
5.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一图像是与所述样品相关联的设计布局图像，所述第二图像是由扫描所述样品的图像检查装置生成的检查图像，并且所述反常像素在所述第二图像中。
6.根据权利要求4所述的方法，其中所述设计布局图像是基于图形数据库系统格式、图形数据库系统II格式、开放艺术品系统互换标准格式或Caltech中间格式的文件而生成的。
7.根据权利要求4所述的方法，其中所述图像检查装置包括带电粒子射束工具或光学射
8.根据权利要求1所述的方法，其中所述聚类技术包括字典学习技术。
9.根据权利要求8所述的方法，其中确定所述K个映射概率包括：
10.根据权利要求1所述的方法，还包括：
11.根据权利要求1所述的方法，其中所述K个映射概率中的每个映射概率表示如下两个像素之间的映射关系的概率：与所述第一特征描述符相关联的每个像素、以及与所述每个像素同位地定位并且与所述K个第二特征描述符中的一个第二特征描述符相关联的像素。
12.根据权利要求1所述的方法，其中L大于1，并且M、N和K大于或等于1。
13.根据权利要求1所述的方法，还包括：
14.根据权利要求1所述的方法，还包括：
15.一种系统，包括：
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于检测样品上的缺陷的方法，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其中所述n个第一特征描述符中的每个第一特征描述符表示所述l个第一像素的子集的特征，并且所述m个第二特征描述符中的每个第二特征描述符表示所述l个第二像素的子集的特征。
3.根据权利要求2所述的方法，其中所述反常像素在所述l个第一像素的所述子集中。
4.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一图像是由扫描所述样品的图像检查装置生成的检查图像，所述第二图像是与所述样品相关联的设计布局图像，并且所述反常像素在所述第一图像中。
5.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一图像是与所述样品相关联的设计布局图像，所述第二图像是由扫描所述样品的图像检查装置生成的检查图像，并且所述反常像素在所述第二图像中。
6.根据权利要求4所述的方法，其中所述设计布局图像是基于图形数据库系统格式、图形数据库系统ii格式、开放艺术品...
【专利技术属性】
技术研发人员：梁浩毅，陈亚妮，杨名扬，杨扬，黄小霞，陈志超，于良江，王喆，浦凌凌，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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