基于异常的缺陷检查方法和系统技术方案

用于检测样品上的缺陷的系统和方法包括：接收第一图像和与第一图像相关联的第二图像；使用聚类技术，确定第一图像中的L个第一像素(多个)的N个第一特征描述符(多个)和第二图像中的L个第二像素(多个)的M个第二特征描述符(多个)，其中L个第一像素(多个)中的每个第一像素与L个第二像素(多个)中的一个第二像素同位地定位，并且L、M和N为正整数；确定N个第一特征描述符(多个)中的第一特征描述符与M个第二特征描述符(多个)中的K个第二特征描述符(多个)中的每个第二特征描述符之间的K个映射概率，其中K为正整数；以及基于确定K个映射概率中的一个映射概率不超过阈值，来提供用于确定是否存在表示样品上的候选缺陷的反常像素的输出。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本文中的描述涉及图像检查装置的领域，更具体涉及基于异常的缺陷检查。

技术介绍

1、图像检查装置(例如，带电粒子射束装置或光学射束装置)能够通过在由与检查装置相关联的源生成的射束(例如，带电粒子射束或光学射束)撞击后检测来自晶片衬底的表面的粒子(例如，光子、二次电子、背散射电子、镜像电子或其他种类的电子)来产生晶片衬底的二维(2d)图像。在半导体工业中，各种图像检查装置在半导体晶片上用于各种目的，诸如晶片处理(例如，电子射束直写光刻系统)、过程监测(例如，临界尺寸扫描电子显微镜(cd-sem))、晶片检查(例如，电子射束检查系统)或缺陷分析(例如，缺陷检查sem(或被称为dr-sem)和聚焦离子射束系统(或被称为fib))。

2、为了控制晶片衬底上制造的结构的质量，可以分析晶片衬底的2d图像以检测晶片衬底中的潜在缺陷。管芯到数据库(d2db)检查是基于2d图像的缺陷检查技术，其中图像检查装置可以将2d图像与对应于2d图像的(例如，基于设计布局而生成的)数据库表示进行比较，并且基于该比较来检测潜在缺陷。d2db检查对于晶片生产的质量和效率很重要。随本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于检测样品上的缺陷的方法，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述N个第一特征描述符中的每个第一特征描述符表示所述L个第一像素的子集的特征，并且所述M个第二特征描述符中的每个第二特征描述符表示所述L个第二像素的子集的特征。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述反常像素在所述L个第一像素的所述子集中。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一图像是由扫描所述样品的图像检查装置生成的检查图像，所述第二图像是与所述样品相关联的设计布局图像，并且所述反常像素在所述第一图像中。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一图...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种用于检测样品上的缺陷的方法，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述n个第一特征描述符中的每个第一特征描述符表示所述l个第一像素的子集的特征，并且所述m个第二特征描述符中的每个第二特征描述符表示所述l个第二像素的子集的特征。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述反常像素在所述l个第一像素的所述子集中。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一图像是由扫描所述样品的图像检查装置生成的检查图像，所述第二图像是与所述样品相关联的设计布局图像，并且所述反常像素在所述第一图像中。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一图像是与所述样品相关联的设计布局图像，所述第二图像是由扫描所述样品的图像检查装置生成的检查图像，并且所述反常像素在所述第二图像中。

6.根据权利要求4所述的方法，其中所述设计布局图像是基于图形数据库系统格式、图形数据库系统ii格式、开放艺术品...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁浩毅，陈亚妮，杨名扬，杨扬，黄小霞，陈志超，于良江，王喆，浦凌凌，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：