System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种用于测量2Cr13原奥氏体晶粒度的晶界显示方法技术_技高网

一种用于测量2Cr13原奥氏体晶粒度的晶界显示方法技术

技术编号:40775620 阅读:5 留言:0更新日期:2024-03-25 20:21
本发明专利技术公开了一种用于测量2Cr13原奥氏体晶粒度的晶界显示方法。本发明专利技术所述晶界显示方法为:首先在待检试件上预制金相检验平台;然后待含预制金相检验平台的待检试件进行调质热处理,在预制金相检验平台上形成氧化层后,对预制金相检验平台进行二次金相制样,在显微镜下即可观察到黑色网状氧化带沿原奥氏体晶界分布,实现晶界的显示。通过观测晶界,可以晶粒度测定。本发明专利技术通过制备金相检验平台,同时利用热处理过程中产生的氧化层,结合金相制样工艺,获得可观测晶界的图像数据。本发明专利技术所述方法不需要复杂的浸蚀试剂配方,简单易操作、费用低廉,不需要二次受热,提高了晶界显示精度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及晶界显示,尤其涉及一种用于测量2cr13原奥氏体晶粒度的晶界显示方法。


技术介绍

1、调质处理就是指淬火加高温回火的双重热处理方法,其目的是使工件具有良好的综合机械性能。调质处理后得到回火索氏体。回火索氏体是马氏体于回火时形成的,在光学镜相显微镜下放大500~600倍以上才能分辨出来,其为铁素体基体内分布着碳化物(包括渗碳体)球粒的复合组织。常规化学浸蚀剂浸蚀后,在光学显微镜下很难分辨其奥氏体晶界。

2、在实际检测中有采用测量最长马氏体板束来推测原奥氏体晶粒尺寸的操作,这种方法操作简单,但是误差较大,不能满足稳定、准确测定的要求。利用一些专用晶界浸蚀试剂,效果不确定,浸蚀工艺复杂,结果的可再现性不高。根据gb/t36165-2018《金属平均晶粒度的测定电子背散射衍射(ebsd)法》进行ebsd法检测结果精确,但是过程复杂、费用较高。

3、马氏体型不锈钢的晶粒度检测以苦味酸为主要腐蚀介质,其浸蚀效果不易把控,且目前苦味酸获取困难;在实际检测中有采用测量最长马氏体板束来推测原奥氏体晶粒尺寸的操作,这种方法误差较大,不能满足稳定、准确测定的要求。ebsd法过程复杂、费用高。

4、同时,利用蚀刻剂测定是利用晶界活性高于晶内,使用浸蚀剂使被腐蚀,在显微镜下显示为黑色凹槽。但是2cr13的晶界与晶内活性差异微小,常规浸蚀剂难以区分该差异,显示效果不理想。


技术实现思路

1、针对现有技术的不足,本专利技术提供了一种用于测量2cr13原奥氏体晶粒度的晶界显示方法。本专利技术通过在工件表面预制金相检验平台,形成理想金相观察区域,随件进行调质热处理,利用热处理的氧化作用,在预制金相检验平台表面形成氧化层。通过二次金相制样,去除多余氧化层,打磨至仅晶界发生氧化的深度,辅助以适当的浸蚀,可以在金相显微镜下观察到清晰的原奥氏体晶界。本专利技术所述方法使得晶界更清楚的显示,从而更易获得晶粒度,进而提高了晶粒度的检测精度。

2、本专利技术的技术方案如下:

3、本专利技术首先保护一种2cr13原奥氏体晶界显示方法,所述2cr13原奥氏体晶界显示方法如下:

4、s1:在待检试件上预制金相检验平台。

5、s2:将预制金相检验平台随待检试件进行调质热处理,待检试件完成热处理的同时,在预制金相检验平台上形成氧化层。

6、s3:在预制金相检验平台上进行二次金相制样,在显微镜下即可观察到黑色网状氧化带沿原奥氏体晶界分布,从而实现晶界的显示。

7、进一步地,步骤s1中,所述待检试件为2cr13。

8、进一步地,步骤s1中,所述金相检验平台的面积≥1cm2。

9、进一步地,步骤s1中,所述预制金相检验平台的方法为:将待检试件依次经200#、400#、600#、800#、1000#金相砂纸打磨形成预制金相检验平台。

10、进一步地,步骤s3中,所述二次金相制样的具体方法为:将调质处理的待检试件用1000#金相砂纸打磨,直至出现亮白色金属基体,再用1200#金相砂纸转90°继续打磨,此时黑色网状氧化带逐渐变细并肉眼不可见,换绒布配合抛光剂抛至镜面。

11、进一步地,步骤s3中,二次金相制样后还包括浸蚀工艺,具体是将二次金相制样得到的待检试件用4%硝酸酒精浸蚀5s,酒精冲洗后,热风吹干。

12、本专利技术同时保护一种2cr13原奥氏体晶粒测定方法,包括如下步骤:

13、(1)根据所述的方法对2cr13试件进行处理,使晶界显示出来;

14、(2)在显微镜下观察晶界,并按照gb/t6394-2017测定2cr13原奥氏体的晶粒度。

15、本专利技术有益的技术效果在于:

16、本专利技术利用金相检验平台形成理想检测区域,减少工件形状及粗糙度干扰,为后期观测晶粒度形成良好环境;进一步利用工件在热处理过程中产生的氧化层,通过对经过热处理的金相检验平台去除多余氧化层,进行二次金相制样,打磨至仅晶界发生氧化的深度,此时晶界被氧化,可以清楚显示,晶粒不受影响,辅助以适当的浸蚀,可以在金相显微镜下观察到清晰的原奥氏体晶界。

17、本专利技术所述方法使得晶界更清楚的显示,从而更易获得晶粒度,进而提高了晶粒度的检测精度;同时,本专利技术所述方法不需要复杂的浸蚀试剂配方,简单易操作、费用低廉,不需要二次受热,晶粒度与原工件一致,是一种简单、易操作的工艺,适于制造车间、实验室检测调质态2cr13工件的晶粒度检测。

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【技术保护点】

1.一种2Cr13原奥氏体晶界显示方法,其特征在于,所述2Cr13原奥氏体晶界显示方法如下:

2.根据权利要求1所述晶界显示方法,其特征在于,步骤S1中,所述待检试件为2Cr13。

3.根据权利要求1所述晶界显示方法,其特征在于,步骤S1中,所述金相检验平台的面积≥1cm2。

4.根据权利要求1所述晶界显示方法,其特征在于,步骤S1中,所述预制金相检验平台的方法为:将待检试件依次经200#、400#、600#、800#、1000#金相砂纸打磨形成预制金相检验平台。

5.根据权利要求1所述晶界显示方法,其特征在于,步骤S3中,所述二次金相制样的具体方法为:将调质处理的待检试件用1000#金相砂纸打磨,直至出现亮白色金属基体,再用1200#金相砂纸转90°继续打磨,此时黑色网状氧化带逐渐变细并肉眼不可见,换绒布配合抛光剂抛至镜面。

6.根据权利要求1所述晶界显示方法,其特征在于,步骤S3中,二次金相制样后还包括浸蚀工艺,具体是将二次金相制样得到的待检试件用4%硝酸酒精浸蚀5s,酒精冲洗后,热风吹干。

7.一种2Cr13原奥氏体晶粒测定方法,其特征在于,包括如下步骤:

...

【技术特征摘要】

1.一种2cr13原奥氏体晶界显示方法,其特征在于,所述2cr13原奥氏体晶界显示方法如下:

2.根据权利要求1所述晶界显示方法,其特征在于,步骤s1中,所述待检试件为2cr13。

3.根据权利要求1所述晶界显示方法,其特征在于,步骤s1中,所述金相检验平台的面积≥1cm2。

4.根据权利要求1所述晶界显示方法,其特征在于,步骤s1中,所述预制金相检验平台的方法为:将待检试件依次经200#、400#、600#、800#、1000#金相砂纸打磨形成预制金相检验平台。

5.根...

【专利技术属性】
技术研发人员:孟若愚熊立斌孙振国
申请(专利权)人:江苏省特种设备安全监督检验研究院
类型:发明
国别省市:

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