基板清洗装置及基板清洗方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够提高清洗后的基板的下表面的清洁度的基板清洗装置及基板清洗方法。基板清洗装置包括：上侧保持装置，对基板的外周端部进行保持；以及下表面刷，与基板的下表面接触来对所述基板的下表面进行清洗。下表面刷在与由上侧保持装置保持的基板的下表面接触的接触位置和与由上侧保持装置保持的基板分离一定距离的分离位置之间移动。在分离位置，下表面刷以第一旋转速度旋转。在接触位置，在下表面刷与基板的下表面接触的时间点及下表面刷与基板的下表面分离的时间点，下表面刷以比第一旋转速度高的第二旋转速度旋转。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种对基板的下表面进行清洗的基板清洗装置及基板清洗方法。

技术介绍

1、为了对液晶显示装置或有机电致发光(electro luminescence，el)显示装置等中使用的平板显示器(flat panel display，fpd)用基板、半导体基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板或太阳能电池用基板等各种基板进行各种处理，而使用基板处理装置。为了对基板进行清洗，而使用基板清洗装置。

2、日本专利特开2022-51029号公报所记载的基板清洗装置包括上侧保持装置、下侧保持装置及下表面清洗装置。

3、上侧保持装置包含一对下卡盘及一对上卡盘。配置于一对下卡盘之间且一对上卡盘之间的基板被一对下卡盘及一对上卡盘夹入。由此，在一对下卡盘及一对上卡盘与基板的外周端部相接的状态下，对作为清洗对象的基板进行保持。下表面清洗装置对由上侧保持装置保持的基板的下表面中央区域进行清洗。

4、下侧保持装置是所谓的旋转卡盘，在对基板的下表面中央区域进行吸附保持的同时使基板以水平姿势旋转。下表面清洗装置进一步对本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基板清洗装置，包括：

2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其中，在所述清洗用具处于所述分离位置时，向所述清洗用具供给清洗液，

3.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其中，所述清洗用具旋转驱动部在所述清洗用具处于所述接触位置且所述清洗用具与所述基板的下表面接触的状态下，使所述清洗用具以比所述第一旋转速度高的第三旋转速度旋转，

4.根据权利要求1至3中任一项所述的基板清洗装置，其中，所述清洗用具旋转驱动部在所述第一时间点之前且所述清洗用具从所述分离位置移动直至到达所述接触位置为止的期间，使所述清洗用具的旋转速度从所述第一旋转速度上升至所述第二...

【技术特征摘要】

1.一种基板清洗装置，包括：

2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其中，在所述清洗用具处于所述分离位置时，向所述清洗用具供给清洗液，

3.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其中，所述清洗用具旋转驱动部在所述清洗用具处于所述接触位置且所述清洗用具与所述基板的下表面接触的状态下，使所述清洗用具以比所述第一旋转速度高的第三旋转速度旋转，

4.根据权利要求1至3中任一项所述的基板清洗装置，其中，所述清洗用具旋转驱动部在所述第一时间点之前且所述清洗用具从所述分离位置移动直至到达所述接触位置为止的期间，使所述清洗用具的旋转速度从所述第一旋转速度上升至所述第二旋转速度。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的基板清洗装置，其中，所述清洗用具旋转驱动部在所述第二时间点之后且所述清洗用具从所述接触位置移动直至到达所述分离位置为止的期间，使所述清洗用具的旋转速度从所述第二旋转速度下降至所述第一旋转速度。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的基板清洗装置，其中，所述清洗用具移动部在所述基板由所述第一基板保持部保持的状态下，使所述清洗用具移动以与所述基板的下表面中央区域接触，由此对所述基板的下表面中央区域进行清洗，

7.根据权利要求1至6中任一项所述的基板清洗...

【专利技术属性】
技术研发人员：中村一树，冈田吉文，冲田展彬，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：