一种光学元件超光滑表面的高抛方法及高抛设备技术

本发明专利技术公开了一种光学元件超光滑表面的高抛方法，属于光学元件抛光技术领域，包括以下步骤：先根据工件的类型，选择与工件待加工表面的形状相适配的抛光模具；然后将粗抛抛光液喷射到材质为聚氨酯的第一抛光皮上，使得粗抛光液在工件与第一抛光皮之间流动，实现工件表面面型精度ΔN≤0.3fr的抛光；接着将精抛抛光液喷射到材质为聚氨酯的第二抛光皮上，使得精抛光液在工件与第二抛光皮之间流动，最终实现工件表面粗糙度RMS≤0.5nm的抛光。本申请可以在各种高抛设备上达到相同的超光滑表面效果、适用范围较广、加工区域较大、抛光效率也较高，同时操作简单、生产成本和人工成本均较低。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学元件抛光，尤其是涉及一种光学元件超光滑表面的高抛方法以及采用上述光学元件超光滑表面的高抛方法实施的高抛设备。

技术介绍

1、近年来，光学元件在航空航天、国防军工、核能工业、天文探测、光电工业等领域应用越来越广泛，特别是在短波紫外光和强激光中应用的光学元件，对光学元件的面型和粗糙度都有很高的要求，如粗糙度指标从传统的光学元件十几个纳米发展到1个纳米以下，也就是光学元件的超光滑表面加工。

2、目前光学元件超光滑表面加工技术主要采用的方法有：浴法抛光、超精密气囊抛光、磁流变抛光、离子束抛光、磨料射流抛光等技术，都已经获得了亚纳米精度的光学元件光滑表面，但是它们都存在一定的局限性。

3、浮法抛光技术中，磨盘是由99.99％以上的金属锡加工而成，同时在磨盘表面车出精细的螺旋线，进行软化处理。工作时，抛光液浸没抛光盘和工件的加工表面，锡盘绕主轴旋转，工件盘绕浮在锡盘上做自身定旋转，抛光液的运动产生的动压力使工件和磨盘间有数微米厚的液膜，微细抛光颗粒在这层液膜中运动，与工件的表面不断碰撞从而实现材料的去除。该方法可以加工出粗糙度本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光学元件超光滑表面的高抛方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的光学元件超光滑表面的高抛方法，其特征在于：在所述对工件进行粗抛光步骤中，所述第一抛光皮的型号为LP66；所述粗抛抛光液的配制方法为：将型号为2815的抛光粉与纯净水按照比重为1.005-1.01配制，并通过逐步添加草酸或者氢氧化钠的方式，直至配置的混合液酸碱度PH值达到6-8。

3.根据权利要求1所述的光学元件超光滑表面的高抛方法，其特征在于：在所述对工件进行精抛光步骤中，所述第二抛光皮的型号为LP57或者LASER；所述精抛抛光液的配制方法为：通过逐步添加硅胶溶液P-80或...

【技术特征摘要】

1.一种光学元件超光滑表面的高抛方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的光学元件超光滑表面的高抛方法，其特征在于：在所述对工件进行粗抛光步骤中，所述第一抛光皮的型号为lp66；所述粗抛抛光液的配制方法为：将型号为2815的抛光粉与纯净水按照比重为1.005-1.01配制，并通过逐步添加草酸或者氢氧化钠的方式，直至配置的混合液酸碱度ph值达到6-8。

3.根据权利要求1所述的光学元件超光滑表面的高抛方法，其特征在于：在所述对工件进行精抛光步骤中，所述第二抛光皮的型号为lp57或者laser；所述精抛抛光液的配制方法为：通过逐步添加硅胶溶液p-80或者硅胶溶液p-50与纯净水按体积1：1.5～2配制，并通过逐步添加草酸液或者氢氧化钠液的方式，直至配置的混合液酸碱度ph值达到7-9。

4.根据权利要求1所述的光学元件超光滑表面的高抛方法，其特征在于：所述光学元件超光滑表面的高抛方法还包括获取工件的初始表面形态步骤，所述获取工件的初始表面形态具体步骤位于所述对工件进行粗抛光步骤之前，具体为：将未抛光的工件置于载物台上，通过图像获取装置获取未抛光工件的初始表面形态，用于与粗抛光后的工件表面形态进行对比分析。

5.根据权利要求4所述的光学元件超光滑表面的高抛方法，其特征在于：所述光学元件超光滑表面的高抛方法还包括表面形态检测步骤，所述表面形态检测步骤位于所述对工件进行粗抛光步骤、所述对工件进行精抛光步骤之间，具体包括以下步骤：

6.根据权利要求1所述的光学元件超光滑表面的高抛方法，其特征在于：...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐仕江，蔡光明，
申请(专利权)人：苏州古莱光学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：