一种MXene/天然高分子复合材料及其制备方法和应用技术

本发明专利技术公开了一种MXene/天然高分子复合材料及其制备方法和应用，涉及复合材料技术领域。该制备方法包括以下步骤：将MAX粉末采用刻蚀液刻蚀，得到MXene分散液；加入氨基酸溶液，得到氨基酸改性MXene分散液；天然高分子溶液中加入氨基酸溶液，得到氨基酸改性天然高分子溶液；将氨基酸改性MXene分散液和氨基酸改性天然高分子溶液混合均匀，抽滤，制得MXene/天然高分子复合材料。本发明专利技术通过提高MXene与天然高分子材料之间的界面相互作用，从而提高了复合材料的强度和韧性，并赋予复合材料优秀的电磁屏蔽性能，有效解决了现有技术中MXene基复合材料力学性能与电磁屏蔽性能之间的矛盾，适用于工业化生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及复合材料，具体涉及一种mxene/天然高分子复合材料及其制备方法和应用。

技术介绍

1、随着现代信息技术的快速发展，无线通信和电子设备的使用不断提高我们的生活水平，同时也产生了电磁干扰和污染问题，不仅影响电子设备的正常工作，而且对人体健康构成严重威胁，因此，迫切需要开发高性能的电磁屏蔽材料来解决电磁干扰和污染问题。mxene是一类二维过渡金属碳化物和氮化物，具有高导电性、良好的亲水性和丰富的表面官能团，是理想的电磁屏蔽材料，然而，mxene在自然环境中容易发生氧化降解，且mxene片层间相互作用弱，纯mxene薄膜的力学性能不理想，限制了其实际应用。

2、高分子材料具有价格低廉以及功能可调等优点，将mxene与高分子材料复合不仅能有效提高mxene的环境稳定性，而且能够进一步提高mxene的力学性能，有望实现mxene材料在工业生产中的大规模运用，目前，常采用聚苯乙烯(ps)、聚偏氟乙烯(pvdf)、聚氨酯(pu)等合成高分子材料来制备mxene基电磁屏蔽复合薄膜，然而，它们在自然环境中不易降解，造成了严重的污染问题。相较于合成高本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种MXene/天然高分子复合材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的MXene/天然高分子复合材料的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，MXene分散液的浓度为3-5mg/mL。

3.根据权利要求1所述的MXene/天然高分子复合材料的制备方法，其特征在于，步骤(2)和(3)中，氨基酸为色氨酸、酪氨酸、苯丙氨酸、组氨酸、精氨酸、脯氨酸、丝氨酸、谷氨酸或赖氨酸。

4.根据权利要求1所述的MXene/天然高分子复合材料的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，MXene分散液中MXene和氨基酸溶液中氨基酸的质量比为1-10：...

【技术特征摘要】

1.一种mxene/天然高分子复合材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的mxene/天然高分子复合材料的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，mxene分散液的浓度为3-5mg/ml。

3.根据权利要求1所述的mxene/天然高分子复合材料的制备方法，其特征在于，步骤(2)和(3)中，氨基酸为色氨酸、酪氨酸、苯丙氨酸、组氨酸、精氨酸、脯氨酸、丝氨酸、谷氨酸或赖氨酸。

4.根据权利要求1所述的mxene/天然高分子复合材料的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，mxene分散液中mxene和氨基酸溶液中氨基酸的质量比为1-10：1。

5.根据权利要求1所述的mxene/天然高分子复合材料的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，天然高分子溶液中天然高分子和氨基酸溶液中氨基酸的质量比为10-1...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄英，张婷，常冠军，杨莉，李小波，袁瑞，马腾宁，丁圣源，李淼，
申请(专利权)人：西南科技大学，
类型：发明
国别省市：