【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体废气处理,尤其涉及一种废气处理系统。
技术介绍
1、半导体行业在清洗、光刻、去胶、烘干等工艺中需使用大量的酸、碱及有机溶剂和多种特殊气体,整个生产过程三废产量大、种类多。
2、其中有机废气主要来源于清洗、cvd、光刻、湿法刻蚀、去胶及扩散等工艺。有机废气种类主要包括异丙醇、丙酮、丙二醇单甲醚乙酸酯、乳酸乙酯、乙酸丁酯、重芳烃。半导体行业排放的vocs(volatile organic compounds,挥发性有机物)废气具有风量大,浓度低的特点,其风量通常大于11000m3/h,浓度在50~1000mg/m3之间(以非甲烷总烃计)。常用的处理技术以沸石浓缩转轮结合焚烧技术处理为主。
3、半导体行业对系统压力有严格的控制,末端废气处理系统压力的波动会引起工艺端正常运行,现有技术无法很好的控制废气处理系统在运行期间的压力波动问题。
技术实现思路
1、本技术提供一种废气处理系统,用以解决现有技术中无法很好的控制废气处理系统在运行期间的压力波动的缺陷,实现
...【技术保护点】
1.一种废气处理系统,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的废气处理系统,其特征在于,所述废气浓缩装置还包括氮气源,所述氮气源与所述处理腔连通,所述氮气源的出口设有第一阀体,所述第一温度传感器与所述第一阀体通信连接,以根据所述第一温度传感器检测的温度与第二预警温度的比较结果控制所述第一阀体的开度,所述第二预警温度大于所述第一预警温度。
3.根据权利要求2所述的废气处理系统,其特征在于,所述废气浓缩装置还包括水源,所述水源与所述处理腔连通,所述水源的出口设有第二阀体,所述第一温度传感器与所述第二阀体通信连接,以根据所述第一温度传感器检测的温
...【技术特征摘要】
1.一种废气处理系统,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的废气处理系统,其特征在于,所述废气浓缩装置还包括氮气源,所述氮气源与所述处理腔连通,所述氮气源的出口设有第一阀体,所述第一温度传感器与所述第一阀体通信连接,以根据所述第一温度传感器检测的温度与第二预警温度的比较结果控制所述第一阀体的开度,所述第二预警温度大于所述第一预警温度。
3.根据权利要求2所述的废气处理系统,其特征在于,所述废气浓缩装置还包括水源,所述水源与所述处理腔连通,所述水源的出口设有第二阀体,所述第一温度传感器与所述第二阀体通信连接,以根据所述第一温度传感器检测的温度与第三预警温度的比较结果控制所述第二阀体的开度,所述第三预警温度大于所述第二预警温度。
4.根据权利要求1至3任意一项所述的废气处理系统,其特征在于,所述焚烧炉设有第二温度传感器,所述第二温度传感器与所述焚烧装置通信连接,以根据所述第二温度传感器检测的温度与第一报警温度的比较结果控制所述焚烧装置的启停。
5.根据权利要求4所述的废气处理系统,其特征在于,所述焚烧炉设有第三温度传感器,所述第三温度传感器和所述第二温度传感器均与所述点火器通信连接,以根据所述第二温度传感器检测的温度与第二报警温度的比较结果以及所述第三温度传感器检测的温度与所述第二报警温度的比较结果控制所述点火器的启停,所述第二报警温度大于所述第一报警温度...
【专利技术属性】
技术研发人员:戴恩平,乔南利,李彬,刘新海,李萌,喻正保,
申请(专利权)人:格林斯达北京环保科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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