【技术实现步骤摘要】
本专利技术有关于一种半导体制程的气体供应设备，特别是指一种将液态气体快速气化来达到稳定压力值的供应加热设备。
技术介绍
1、在半导体领域(如：晶圆、面板或发光二极管)的产品制造过程中，都需要在加工过程中使用一些特殊气体(如：nh3、sih4、n2o…)。其中，有一部分是液态气体(如：nh3)，因此，传统方式就是购买一储存有液态气体的供气瓶体，并将供气瓶体安装在气体输送管路上，使用时必须对供气瓶体加热将液态气体气化，才能将气体传输至供应系统终端来进行使用。
2、请参阅图1所示，传统液态气体供应是在一供气瓶体10外部安装一加热器11，并仅搭配一设置在所述供气瓶体10外部的温度传感器12来进行加热程序，由所述加热器11直接加热所述供气瓶体10，再由所述供气瓶体10导热给内部液态气体。然而，这样的加热设计无法取得让供气瓶体10内部气体的真实温度，就会造成供气瓶体10所供应的气压状态不稳定，并且间接加热方式的反应时间过慢，将会在需要增加气体用量时造成气体压力不足，反之，若要减少气体用量或是停止气体供应时，会造成供气瓶体10仍被加热而有
【技术保护点】
1.一种稳定的液态气体供应加热设备，其特征在于，包含，
2.根据权利要求1所述的稳定的液态气体供应加热设备，其特征在于：当所述气压数值超过所述压力警示值时，所述压力控制模块将产生一压力提醒警示。
3.根据权利要求1所述的稳定的液态气体供应加热设备，其特征在于：当所述温度数值超过所述温度参数的一温度设定值时，所述温度控制模块将产生所述停止控制信号；当所述温度数值超过所述温度参数的一温度警示值时，所述断电控制信号将被所述温度控制模块产生来传输至所述加热装置，使得所述加热装置停止加热。
4.根据权利要求3所述的稳定的液态气体供应加热设备，...
【技术特征摘要】
1.一种稳定的液态气体供应加热设备，其特征在于，包含，
2.根据权利要求1所述的稳定的液态气体供应加热设备，其特征在于：当所述气压数值超过所述压力警示值时，所述压力控制模块将产生一压力提醒警示。
3.根据权利要求1所述的稳定的液态气体供应加热设备，其特征在于：当所述温度数值超过所述温度参数的一温度设定值时，所述温度控制模块将产生所述停止控制信号；当所述温度数值超过所述温度参数的一温度警示值时，所述断电控制信号将被所述温度控制模块产生来传输至所述加热装置，使得所述加热装置停止加热。
4.根据权利要求3所述的稳定的液态气体供应加热设备，其特征在于：所述温度设定值、温度警示值、所述压力设定值以及压力警示值皆通过所述控制系统的一人机界面来重复设定。
5.根据权利要求3所述的稳定的液态气体供应加热设备，其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员：丁汉杰，丁圣轩，庄证喨，
申请(专利权)人：名人系统科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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