【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及波板，且更明确来说，本公开涉及使用波板来抑制来自检验目标(例如半导体晶片)的表面散射。
技术介绍
1、波板(其提供相位延迟来使光通过其)可使用例如晶体石英的双折射材料制成。具有90度相位延迟的波板(即，四分之一波板)或具有180度相位延迟的波板(即，半波板)通常可从光学组件供货商取得。这些类型的波板是单片的且在组件的整个通光孔径上具有均匀相位延迟。
2、然而，对于晶片检验应用，期望跨组件的通光孔径具有变化相位延迟，使得可更高效抑制晶片表面散射。已提出各种方法来通过使用分段石英或具有变化石英厚度的自由形式表面形状实现相位延迟的任意控制来制造具有在空间上变化的相位延迟的波板。
3、表面散射的强抑制(即，强雾抑制)涉及相位延迟的精确控制。较高散射角的表面散射的偏振是椭圆的。表面散射偏振应经均匀线性化以实现高度抑制。常规波板难以实现此精确相位延迟控制。例如，使用自由形式抛光的表面轮廓难以实现波前误差的高精度控制。使用常规双折射材料作为波板的另一挑战在于光轴角是固定的，使得多个段用于变换偏振椭圆率及偏振定向两者。...
【技术保护点】
1.一种光学检验系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述目标是半导体晶片。
3.根据权利要求2所述的系统，其中所述半导体晶片未经图案化。
4.根据权利要求3所述的系统，其中所述未图案化半导体晶片经抛光。
5.根据权利要求1所述的系统，其中所述光是紫外线。
6.根据权利要求1所述的系统，其中：
7.根据权利要求6所述的系统，其中：
8.根据权利要求7所述的系统，其中：
9.根据权利要求6所述的系统，其中：
10.根据权利要求6所述的系统，其中：>
11.根据权...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种光学检验系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述目标是半导体晶片。
3.根据权利要求2所述的系统，其中所述半导体晶片未经图案化。
4.根据权利要求3所述的系统，其中所述未图案化半导体晶片经抛光。
5.根据权利要求1所述的系统，其中所述光是紫外线。
6.根据权利要求1所述的系统，其中：
7.根据权利要求6所述的系统，其中：
8.根据权利要求7所述的系统，其中：
9.根据权利要求6所述的系统，其中：
10.根据权利要求6所述的系统，其中：
11.根据权利要求6所述的系统，其中：
12.根据权利要求6所述的系统，其中所述第一光栅及所述第二光栅具有相同布局。
13.根据权利要求6所述的系统，其中：
14.根据权利要求6所述的系统，其进一步包括用于为从所述目标散射的所述光提供均匀相位延迟的均匀波板。
15.根据权利要求14所述的系统，其中所述第一光栅及所述第二光栅安置于所述均匀波板与所述线性偏振器之间。
16.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个单材料光栅包括选自由熔融硅石衬底、蓝宝石衬底及氟化钙(caf2)衬底组成的群组的衬底上的光栅。
17.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个单材料光栅包括二维光栅。
18.一种方法，其包括：
19.根据权利要求18所述的方法，其中所述目标是半导体晶片。
20.根据权利要求19所述的方法，其中所述半导体晶片未经图案化。
21.根据权利要求20所述的方法，其中所述未图案化半导体晶片经抛光。
22.根据权利要求18所述的方法，其中所述光是紫外线。
23.根据权利要求18所述的方法...
【专利技术属性】
技术研发人员：沈憧，国衡·赵，B·怀特塞德，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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