【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种干手器。
技术介绍
1、在公共浴室和其他许多不同的人洗手的地方，安装某种类型的干手设备供人们干燥他们湿的手是非常常见的。这种干手器设备的重要设计考虑是尽量减少可能从一个用户传染给另一个用户的细菌和其他微生物的数量。例如，毛巾分配器被设计成用户只需触摸毛巾就可以干燥他的手。通常，毛巾可以在使用之后扔掉或自动卷进毛巾分配器的内部。为了避免使用毛巾，市场上有许多不同类型的使用鼓风机的干手器。虽然较旧的型号倾向于具有用于启动鼓风机的大按钮，但是较新的鼓风机通常使用用于检测用户手的存在的接近传感器来启动。
2、然而，即使这样，污染仍然会发生，并且需要定期清洁干手器以避免其用户的健康风险。不幸的是，清洁这种干手器通常涉及使用湿布，而湿布已经用于清洁其他表面。通常，这种清洁方法可以成功地去除可见的污垢，但可能在表面添加比其去除的更多或不同的微生物。
3、因此，需要一种方法来更好地保护干手器的用户在干燥他们的手时不接触有害的微生物。
技术实现思路
1、根据本专利技术的一方面，提供了一种干手器，干手器包括在被触摸时易受污染的至少一个部件，以及用于发射电磁光谱的远uvc部分中的光的至少一个光源，至少一个光源布置为在发射光时照射至少一个部件以对其进行去污。
2、可见光谱的紫外部分通常被定义为跨越约180至400nm的范围。具体地，uvc或远uvc范围从180-280nm。已知这些波长的光可以非常有效地杀死任何可能聚集在被照射表面上的微生物。尽管已知这
3、需要注意的是，作为去污过程的一部分，发射可见光谱的远uvc部分中的光意味着发射的光包含电磁光谱的该部分中的显著部分光，并且该显著部分的强度足以具有有用的抗微生物和去污效果。发射的光不需要完全在电磁光谱的远uvc部分。只要在光谱的该部分中有足够的光强度，并且优选地在222nm波长处或附近，用于实现去污效果，电磁光谱的其他部分的光也可以被发射。进一步注意到，作为去污过程的一部分，发射的光的强度可以随时间变化。这种变化可以是渐进的和连续的，或者是光脉冲图案的形式。如果使用脉冲光，脉冲的频率、持续时间和强度可以是恒定的或变化的。
4、发射的光优选地与光源联接，用于至少照射干手器的那些容易吸引大量微生物污染或者很可能将这种污染传递给用户的部件。因此，在优选的实施例中，至少一个部件包括用于吹出干手气流的喷嘴。在使用期间，这些喷嘴可能接收来自用户的手的微生物污染，这些微生物污染可能非常接近喷嘴或者甚至直接与喷嘴接触。相反，位于喷嘴处或附近的微生物污染很容易被吹到下一个用户的手上。当用湿布清洁干手器时，很可能至少擦拭喷嘴。通过用远uvc光清洁喷嘴，可以显著地减少微生物污染通过喷嘴的传播。
5、优选地，干手器还包括控制器，控制器可操作地联接到至少一个光源并配置用于对至少一个光源进行定时控制。例如，在每次使用干手器之后，光源可以被启用一段设定的时间。替代地，每当房间照明关闭并且房间中没有人时，光源可以被启用。然后，光源可以保持启用一段设定的时间，或者直到房间照明再次打开。
6、另一种选择是在用手清洁干手器之后直接开始清洁循环。为此目的，干手器可以包括可操作地联接到控制器的去污按钮，控制器配置为响应于去污按钮的启用而启用至少一个光源。
7、大多数微生物污染将在至少一个部件被触摸时发生，这可能发生在使用期间或清洁期间。因此，干手器可以进一步包括用于检测至少一个部件的触摸的至少一个触摸传感器，触摸传感器可操作地联接到控制器，控制器配置为响应于检测到至少一个部件的触摸而启用至少一个光源。这种触摸传感器可以是例如机械传感器或电子传感器，例如电容式或电阻式触摸传感器。可选地，触摸传感器配置为检测至少一个部件的一部分的触摸，控制器配置为启用至少一个光源以选择性地照射被触摸的部分。这将使得有可能只照射至少一个部件中实际被触摸并且具有最高被污染风险的那些部分，从而提高清洁操作的能量效率。
8、此外，干手器可以包括污染检测器，污染检测器可操作地联接到控制器，用于检测至少一个部件的被污染部分上的污染，控制器配置为选择性地照射被污染部分。污染检测器可以使用光学传感器来测量特定波长的光在至少一个部件的表面处的反射率。用于该反射测量的光可以是来自至少一个光源的光，但也可以由单独的光源提供，光源可能发射不同波长的光。
9、在优选的实施例中，干手器包括可操作地联接到控制器的风扇，用于产生干手气流。当光源发射用于清洁至少一个部件的光时，控制器可以暂时禁用风扇以避免干手器在清洁过程完成之前被使用和再次污染。然而，在其他的实施例或操作模式中，可以在至少一个光源发射其远uvc光时使用干手器。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种干手器，包括易受污染的至少一个部件以及至少一个光源，该至少一个光源用于发射电磁光谱的远UVC部分中的光，所述至少一个光源布置为使得在发射光时照射所述至少一个部件以对其去污。
2.根据权利要求1所述的干手器，其中所述至少一个光源配置为发射波长约为222nm的光。
3.根据权利要求1或2所述的干手器，其中所述至少一个部件包括用于吹出干手气流的喷嘴。
4.根据前述权利要求中任一项所述的干手器，还包括控制器，所述控制器可操作地联接到所述至少一个光源并配置为对所述至少一个光源进行定时控制。
5.根据权利要求4所述的干手器，还包括可操作地连接到所述控制器的去污按钮，所述控制器配置为响应于所述去污按钮的启用而启用所述至少一个光源。
6.根据权利要求4或5所述的干手器，进一步包括至少一个触摸传感器，用于检测所述至少一个部件的触摸，所述触摸传感器可操作地联接到所述控制器，所述控制器配置为响应于检测到所述至少一个部件的触摸而启用所述至少一个光源。
7.根据权利要求6所述的干手器，其中所述触摸传感器配置为检测所述至少一个部
8.根据权利要求4至7中任一项所述的干手器，还包括污染检测器，所述污染检测器可操作地联接到所述控制器，用于检测所述至少一个部件的被污染部分上的污染，所述控制器配置为选择性地照射所述被污染部分。
9.根据权利要求4至8中任一项所述的干手器，其中所述干手器包括风扇，所述风扇可操作地联接到所述控制器，用于产生干手气流，所述控制器配置为在发射光时暂时禁用所述风扇。
10.根据前述权利要求中任一项所述的干手器，其中所述至少一个部件包括空气过滤器或滴水盘。
11.根据前述权利要求中任一项所述的干手器，其中所述至少一个光源布置为使得在发射光时照射所述干手器所附接到的壁的至少一部分，以对其去污。
12.根据前述权利要求中任一项所述的干手器，其中所述至少一个光源布置为使得在发射光时照射所述干手器下方的地板表面的至少一部分，以对其去污。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种干手器，包括易受污染的至少一个部件以及至少一个光源，该至少一个光源用于发射电磁光谱的远uvc部分中的光，所述至少一个光源布置为使得在发射光时照射所述至少一个部件以对其去污。
2.根据权利要求1所述的干手器，其中所述至少一个光源配置为发射波长约为222nm的光。
3.根据权利要求1或2所述的干手器，其中所述至少一个部件包括用于吹出干手气流的喷嘴。
4.根据前述权利要求中任一项所述的干手器，还包括控制器，所述控制器可操作地联接到所述至少一个光源并配置为对所述至少一个光源进行定时控制。
5.根据权利要求4所述的干手器，还包括可操作地连接到所述控制器的去污按钮，所述控制器配置为响应于所述去污按钮的启用而启用所述至少一个光源。
6.根据权利要求4或5所述的干手器，进一步包括至少一个触摸传感器，用于检测所述至少一个部件的触摸，所述触摸传感器可操作地联接到所述控制器，所述控制器配置为响应于检测到所述至少一个部件的触摸而启用所述至少一个光源。
7.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员：G·麦克卢基，D·佐基夫卡，
申请(专利权)人：戴森技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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