【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本文的描述涉及带电粒子束系统的领域，更具体地涉及用于稳定带电粒子束检查系统中的电子源的系统。
技术介绍
1、在集成电路(ic)的制造过程中，检查未完成或完成的电路部件以确保其根据设计制造且无缺陷。利用光学显微镜的检查系统通常具有低至几百纳米的分辨率；并且分辨率受到光波长的限制。由于ic部件的物理尺寸持续减小到亚100纳米或甚至亚10纳米，因此需要比利用光学显微镜的检查系统具有更高分辨率的检查系统。
2、带电粒子(例如，电子)束显微镜，诸如扫描电子显微镜(sem)或透射电子显微镜(tem)，能够使分辨率低至小于纳米，用作用于检查具有亚100纳米的特征尺寸的ic部件的实用工具。利用sem，单个初级电子束的电子或多个初级电子束的电子可以聚焦在被检查的晶片的感兴趣的位置处。初级电子与晶片相互作用，并且可以反向散射或者可以使晶片发射次级电子。包括背散射电子和次级电子的电子束的强度可以基于晶片的内部和外部结构的特性而变化，从而可以指示晶片是否具有缺陷。
技术实现思路
1、本公开的实施例提供了用于稳定带电粒子束检查系统中的电子源的装置和系统。在一些实施例中，系统可以包括电子源，该电子源包括：电连接到两个电极并且被配置为发射电子的发射尖端；以及基座，其耦合到发射尖端，其中基座被配置为经由耦合来稳定发射尖端。
2、在一些实施例中，电子源可以包括：发射尖端，该发射尖端电连接到两个电极并且被配置为发射电子；以及基座，其耦合到发射尖端，其中基座被配置为经由耦合来稳定发射尖端。>
3、在一些实施例中，系统可以包括电子源，该电子源包括：电连接到两个电极并且被配置为发射电子的发射尖端；以及包括孔的基座；以及朝向孔的中心延伸的多个延伸部，其中多个延伸部耦合到发射尖端，其中基座被配置为经由耦合稳定发射尖端。
4、在一些实施例中，一种系统可包括电子源，电子源包括：耦合到两个灯丝管脚的发射尖端，其中发射尖端以及两个灯丝管脚形成“w”形状，两个灯丝管脚中的每个灯丝管脚耦合到电极，并且发射尖端被配置为发射电子；以及基座，其耦合到发射尖端，其中基座被配置为经由耦合来稳定发射尖端。
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1.一种电子束系统，包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述发射尖端包括钨。
3.根据权利要求1所述的系统，其中所述基座包括非导电材料。
4.根据权利要求3所述的系统，其中所述非导电材料是陶瓷。
5.根据权利要求1所述的系统，其中所述基座包括被配置为接触所述发射尖端的多个突出部。
6.根据权利要求5所述的系统，其中所述基座包括保持器，所述保持器被配置为保持所述多个突出部与所述发射尖端接触。
7.根据权利要求5所述的系统，其中当从所述多个突出部的上方观察时，所述多个突出部中的每个突出部为三角形。
8.根据权利要求7所述的系统，其中所述多个突出部中的每个三角形突出部的顶点被配置为接触所述发射尖端。
9.根据权利要求5所述的系统，其中当从所述多个突出部的上方观察时，所述多个突出部中的每个突出部为四边形。
10.根据权利要求9所述的系统，其中所述多个突出部中的每个四边形突出部的最短边缘被配置为接触所述发射尖端。
11.根据权利要求5所述的系统，其中所述多个突出部中
12.根据权利要求11所述的系统，其中所述多个突出部中的每个突出部的所述基座的横截面面积大于所述突出部的接触所述发射尖端的部分的横截面面积。
13.根据权利要求5所述的系统，其中所述基座包括孔，并且所述多个突出部中的每个突出部朝向所述孔的中心延伸。
14.根据权利要求13所述的系统，其中所述发射尖端被配置为定位在所述孔的所述中心。
15.一种电子源，包括：
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种电子束系统，包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述发射尖端包括钨。
3.根据权利要求1所述的系统，其中所述基座包括非导电材料。
4.根据权利要求3所述的系统，其中所述非导电材料是陶瓷。
5.根据权利要求1所述的系统，其中所述基座包括被配置为接触所述发射尖端的多个突出部。
6.根据权利要求5所述的系统，其中所述基座包括保持器，所述保持器被配置为保持所述多个突出部与所述发射尖端接触。
7.根据权利要求5所述的系统，其中当从所述多个突出部的上方观察时，所述多个突出部中的每个突出部为三角形。
8.根据权利要求7所述的系统，其中所述多个突出部中的每个三角形突出部的顶点被配置为接触所述发射尖端。
9.根据权利要求5...
【专利技术属性】
技术研发人员：B·拉方丹，窦菊英，杜志东，郭哲嘉，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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