温度测量装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及温度测量装置，公开了一种用于经由包围介质的表面的周围区域中的测量位置上的第一温度和第二温度确定介质的介质温度的温度测量装置，包括用于得出第一温度的第一传感器和用于得出第二温度的第二传感器以及测量值处理机构，其经由第一馈线与第一传感器连接并且经由第二馈线与第二传感器连接，并且在测量间隔中周期性地在时间中提供第一温度和第二温度作为用于确定介质温度的测量值，其中，评估机构设计用于从第一温度和第二温度的差中得出变化率并且取决于其值地提供质量特性，此外设计用于使得质量特性作为介质温度的测量精度的评估与用于介质温度的测量值一起传输至上级系统。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术公开了一种用于经由包围介质的表面的周围区域中的测量位置上的第一温度和第二温度确定介质的介质温度的温度测量装置，其包括用于得出第一温度的第一传感器和用于得出第二温度的第二传感器以及测量值处理机构，其经由第一馈线与第一传感器连接并且经由第二馈线与第二传感器连接，并且在时间上周期性地在测量间隔中提供作为用于确定介质温度的测量值的第一温度和第二温度。

技术介绍

1、这样的方法已经从de 198 00 753a1中已知。在该公开文献中给出了如何能够利用带有所属传感器的温度测量装置实施非侵入式测量技术。这意味着，在de 198 00 753a1中已经介绍了用于尤其在管中流动的液体中的非侵入式的温度测量的传感器。从传感器和外部测量的温度的热流特性dq/dt中得出介质的待测量的温度。

2、namur推荐性规范ne 107“自我监控和场设备诊断”要求温度测量装置进行自我监控并且在此列出待识别的不同类型的故障。

3、尤其在非侵入式温度测量中，未知的外部环境能够影响测量精度。外部环境例如是：

4、1.错误的安装，

5、2本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种温度测量装置(100)，用于在测量位置(MS)处从第一温度(T1)和第二温度(T2)确定介质(M)的介质温度(MT)，所述测量位置在包围所述介质(M)的表面(O)的周围区域中，所述温度测量装置包括用于得出所述第一温度(T1)的第一传感器(S1)、用于得出所述第二温度(T2)的第二传感器(S2)以及测量值处理机构(10)，所述测量值处理机构经由第一馈线(L1)与所述第一传感器(S1)连接并且所述测量值处理机构经由第二馈线(L2)与所述第二传感器(S2)连接，并且所述测量值处理机构在时间(t)上周期性地在测量间隔(ti)中提供作为用于确定所述介质温度(MT)的测量值的所述第一温度(T...

【技术特征摘要】

1.一种温度测量装置(100)，用于在测量位置(ms)处从第一温度(t1)和第二温度(t2)确定介质(m)的介质温度(mt)，所述测量位置在包围所述介质(m)的表面(o)的周围区域中，所述温度测量装置包括用于得出所述第一温度(t1)的第一传感器(s1)、用于得出所述第二温度(t2)的第二传感器(s2)以及测量值处理机构(10)，所述测量值处理机构经由第一馈线(l1)与所述第一传感器(s1)连接并且所述测量值处理机构经由第二馈线(l2)与所述第二传感器(s2)连接，并且所述测量值处理机构在时间(t)上周期性地在测量间隔(ti)中提供作为用于确定所述介质温度(mt)的测量值的所述第一温度(t1)和所述第二温度(t2)，

2.根据权利要求1所述的温度测量装置(100)，还具有分析机构(12)，所述分析机构设计用于将所述变化率(dt/dt)作为时间连续的置信曲线(tl)记录并且存储在存储机构(15)中，为了诊断目的根据需要能够将所述置信曲线(tl)从所述存储机构经由网络接口(16)...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒂姆·舍雷尔，托马斯·比尔魏勒，斯特凡·冯·多斯科，
申请(专利权)人：西门子股份公司，
类型：发明
国别省市：