【技术实现步骤摘要】
本公开内容涉及一种用于空接面显示器的盖制品，并且更具体地涉及车辆内部系统，所述车辆内部系统包括具有半透明和抗反射属性的空接面盖制品。
技术介绍
1、在涉及显示器的各种应用中，期望具有含空接面外观的显示器表面或功能表面。一般来说，空接面外观是一种隐藏显示或功能表面的方式，使得在显示区域与非显示区域之间或在制品的空接面区域与非空接面区域或其他表面之间存在无缝转换。例如，在具有玻璃或塑料盖表面的典型显示器中，即使当显示器被关断时也有可能看到显示器的边缘(或从显示区域到非显示区域的转换)。然而，从美学或设计角度通常期望具有空接面外观，使得当显示器关闭时，显示区域和非显示区域呈现为彼此难以区别，并且盖表面呈现为一致的外观。
2、其中期望空接面外观的一个应用是在汽车内部，包括车辆内显示器或电容式触摸界面，以及消费者移动或家用电子设备包括移动装置和家用电器中的其他应用。然而，难以实现良好空接面外观并且在显示器打开时实现高质量显示。
3、实现空接面外观的常规方法包括将非导电黑色墨水沉积在透明基板的一个主表面上，并且将抗反射(ar)涂层沉积在基板的相对主表面上。丝网或喷墨印刷工艺和设备可用于黑色墨水层，并且真空沉积工艺和设备可用于ar涂层。最终，常规方法是昂贵的，因为其需要利用不同沉积设备的至少两种单独的沉积工艺。
4、因此，需要用于空接面显示器、并且更具体地用于电容式触摸屏应用诸如车辆内部系统的盖制品，包括具有可利用产生低制造成本的工艺和设备实现的半透明和抗反射属性的空接面盖制品。
1、根据本公开内容的方面，提供一种用于显示面板的盖制品，所述盖制品包括：基板，所述基板包括50μm至5000μm的厚度、外主表面和内主表面，其中所述外主表面和所述内主表面与彼此相对并且基板包含玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷材料；内层膜，所述内层膜设置在基板的外主表面上；和外层膜，所述外层膜设置在内层膜上。内层膜和外层膜中的一者或两者包括一个或多个吸收层。外层膜包括多个交替的高折射率层和低折射率层。高折射率层中的每个高折射率层的折射率大于低折射率层中的每个低折射率层的折射率。每个吸收层表现出至少105ohms/sq的薄层电阻。此外，制品针对0°至90°的入射测量角表现出小于4.0的空接面色移(δe)，如相对于对照制品所测量，所述对照制品包含基板的玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷材料和设置在玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷材料上的标准黑色基体。
2、根据本公开内容的另一方面，提供一种用于显示面板的盖制品，所述盖制品包括：基板，所述基板包括50μm至5000μm的厚度、外主表面和内主表面，其中所述外主表面和所述内主表面与彼此相对并且基板包含玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷材料；内层膜，所述内层膜设置在基板的外主表面上；和外层膜，所述外层膜设置在内层膜上。内层膜包括多个低折射率层和吸收层。外层膜包括多个交替的高折射率层和低折射率层。高折射率层中的每个高折射率层的折射率大于低折射率层中的每个低折射率层的折射率。另外，每个吸收层包含金属或金属合金。每个吸收层在400nm至700nm的可见光谱中表现出至少105ohms/sq的薄层电阻和大于0.05的消光系数。
3、根据本公开内容的另外的方面，提供一种用于显示面板的盖制品，所述盖制品包括：基板，所述基板包括50μm至5000μm的厚度、外主表面和内主表面，其中所述外主表面和所述内主表面与彼此相对并且基板包含玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷材料；内层膜，所述内层膜设置在基板的外主表面上；和外层膜，所述外层膜设置在内层膜上。内层膜和外层膜中的一者或两者包括一个或多个吸收层。外层膜包括多个交替的高折射率层和低折射率层。高折射率层中的每个高折射率层的折射率大于低折射率层中的每个低折射率层的折射率。另外，每个吸收层包含类金刚石碳(dlc)材料。每个吸收层在400nm至700nm的可见光谱中表现出至少105ohms/sq的薄层电阻和约0.05至约0.4的消光系数。
4、根据本公开内容的另一方面，提供一种用于显示面板的盖制品，所述盖制品包括：基板，所述基板包括50μm至5000μm的厚度、外主表面和内主表面，其中所述外主表面和所述内主表面与彼此相对并且基板包含玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷材料；内层膜，所述内层膜设置在基板的外主表面上；和内层膜，所述内层膜设置在内层膜上。内层膜包括多个低折射率层和一个或多个吸收层。外层膜包括多个交替的高折射率层和低折射率层。高折射率层中的每个高折射率层的折射率大于低折射率层中的每个低折射率层的折射率。另外，每个吸收层是包含si-al、si-sn、si-zn或其组合的金属硅合金。每个吸收层在400nm至700nm的可见光谱中表现出至少105ohms/sq的薄层电阻和大于1.0的消光系数。
5、附加的特征和优点将在以下详细描述中进行陈述，并且本领域技术人员根据所述描述很容易理解或通过实践如本文所述的实施方式(包括以下详细描述、权利要求以及附图)将很容易认识其部分内容。
6、应理解，上述一般描述和以下详细描述均仅是示例性的，并且旨在为理解权利要求的本质和特征提供概要或框架。附图被包括以便提供进一步理解，并且被结合在本说明书中并构成本说明书的一部分。图式说明一个或多个实施方式，并且与所述描述一起用于解释各种实施方式的原理和操作。
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1.一种用于显示面板的盖制品，包括：
2.如权利要求1所述的盖制品，其中所述盖制品在400nm至700nm的可见光谱中表现出40％至80％的平均双表面透射率。
3.如权利要求1或权利要求2所述的盖制品，其中所述盖制品表现出小于4％的平均第一表面适光反射率。
4.如权利要求1或权利要求2所述的盖制品，其中所述外层膜中的所述高折射率层中的每个高折射率层包含Si3N4、SiNx、SiOxNy、AlNx、AlOxNy、SiAlxOyNz、TiO2、HfO2、ZrO2、Nb2O5或Ta2O5，并且其中所述外层膜中的所述低折射率层中的每个低折射率层包含含硅氧化物。
5.如权利要求1或权利要求2所述的盖制品，其中所述内层膜包括所述一个或多个吸收层。
6.如权利要求1或权利要求2所述的盖制品，其中每个吸收层在400nm至700nm的所述可见光谱中表现出1％至60％的平均反射率。
7.一种用于显示面板的盖制品，包括：
8.如权利要求7所述的盖制品，其中每个吸收层包含Ni、Cr、含Ni合金、含Cr合金或Ni/Cr合金
9.如权利要求8所述的盖制品，其中每个吸收层包含Cr并且具有小于2nm的厚度。
10.如权利要求8所述的盖制品，其中每个吸收层包含Ni并且具有小于1nm的厚度。
11.如权利要求7-10中任一项所述的盖制品，其中所述内层膜包括两个(2)至二十个(20)吸收层。
12.如权利要求7-10中任一项所述的盖制品，其中所述外层膜中的所述高折射率层中的每个高折射率层包含Si3N4、SiNx、SiOxNy、AlNx、AlOxNy、SiAlxOyNz、TiO2、HfO2、ZrO2、Nb2O5或Ta2O5，并且其中所述外层膜和所述内层膜中的所述低折射率层中的每个低折射率层包含含硅氧化物。
13.如权利要求7-10中任一项所述的盖制品，其中所述盖制品在400nm至700nm的可见光谱中表现出40％至80％的平均双表面透射率，以及小于4％的平均第一表面适光反射率。
14.一种用于显示面板的盖制品，包括：
15.如权利要求14所述的盖制品，其中每个吸收层包含约5nm至约500nm的厚度。
16.如权利要求14或权利要求15所述的盖制品，其中所述内层膜和所述外层膜中的一者或两者包括一个(1)至十个(10)吸收层。
17.如权利要求14或15任一项所述的盖制品，其中所述吸收层的总厚度为约25nm至500nm。
18.如权利要求14或权利要求15所述的盖制品，其中所述外层膜中的所述高折射率层中的每个高折射率层包含Si3N4、SiNx、SiOxNy、AlNx、AlOxNy、SiAlxOyNz、TiO2、HfO2、ZrO2、Nb2O5或Ta2O5，并且其中所述外层膜和所述内层膜中的所述低折射率层中的每个低折射率层包含含硅氧化物。
19.如权利要求14或权利要求15所述的盖制品，其中所述盖制品在400nm至700nm的可见光谱中表现出40％至80％的平均双表面透射率，以及小于4％的平均第一表面适光反射率。
20.如权利要求14或权利要求15所述的盖制品，其中所述制品针对0°至90°的入射测量角表现出小于4.0的空接面色移(ΔE)，如相对于对照制品所测量，所述对照制品包含所述基板的玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷材料和设置在所述玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷材料上的标准黑色基体。
21.一种用于显示面板的盖制品，其包括：
22.如权利要求21所述的盖制品，其中所述硅金属合金不含任何硅化物。
23.如权利要求21或权利要求22所述的盖制品，其中每个吸收层具有小于150nm的厚度。
24.如权利要求21或权利要求22所述的盖制品，其中所述硅金属合金是具有至少69％的硅(按体积计)的Si-Al。
25.如权利要求21或权利要求22所述的盖制品，其中所述硅金属合金是具有至少60％的硅(按体积计)的Si-Sn。
26.如权利要求21或权利要求22所述的盖制品，其中所述硅金属合金是具有至少80％的硅(按体积计)的Si-Zn。
...【技术特征摘要】
1.一种用于显示面板的盖制品，包括：
2.如权利要求1所述的盖制品，其中所述盖制品在400nm至700nm的可见光谱中表现出40％至80％的平均双表面透射率。
3.如权利要求1或权利要求2所述的盖制品，其中所述盖制品表现出小于4％的平均第一表面适光反射率。
4.如权利要求1或权利要求2所述的盖制品，其中所述外层膜中的所述高折射率层中的每个高折射率层包含si3n4、sinx、sioxny、alnx、aloxny、sialxoynz、tio2、hfo2、zro2、nb2o5或ta2o5，并且其中所述外层膜中的所述低折射率层中的每个低折射率层包含含硅氧化物。
5.如权利要求1或权利要求2所述的盖制品，其中所述内层膜包括所述一个或多个吸收层。
6.如权利要求1或权利要求2所述的盖制品，其中每个吸收层在400nm至700nm的所述可见光谱中表现出1％至60％的平均反射率。
7.一种用于显示面板的盖制品，包括：
8.如权利要求7所述的盖制品，其中每个吸收层包含ni、cr、含ni合金、含cr合金或ni/cr合金。
9.如权利要求8所述的盖制品，其中每个吸收层包含cr并且具有小于2nm的厚度。
10.如权利要求8所述的盖制品，其中每个吸收层包含ni并且具有小于1nm的厚度。
11.如权利要求7-10中任一项所述的盖制品，其中所述内层膜包括两个(2)至二十个(20)吸收层。
12.如权利要求7-10中任一项所述的盖制品，其中所述外层膜中的所述高折射率层中的每个高折射率层包含si3n4、sinx、sioxny、alnx、aloxny、sialxoynz、tio2、hfo2、zro2、nb2o5或ta2o5，并且其中所述外层膜和所述内层膜中的所述低折射率层中的每个低折射率层包含含硅氧化物。
13.如权利要求7-10中任一项所述的盖制品，其中所述盖制品在400nm至700nm的可见光谱中表现出40％至80％的平均双表面透射率，以及小于4％的平均第一表面适光反...
【专利技术属性】
技术研发人员：罗伯特·艾伦·贝尔曼，陈海星，高贵明，欧阳煦，孙亚伟，
申请(专利权)人：康宁公司，
类型：发明
国别省市：
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