System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind()
【技术实现步骤摘要】
本专利技术实施例涉及饮用水,尤其涉及具有清洗消毒功能的净水系统的控制方法。
技术介绍
1、目前,净水系统通常安装于原水净化过程中的末端,用于将水中污染物拦截于其滤芯表面使原水得到净化,但是,长时间过滤达到一定累积后膜表面会滋生细菌与结垢,前者会产生异味和在膜表面形成生物膜阻碍水的过滤,后者会将膜孔堵死,如果放任膜的污染不作任何清洗最终会出现过滤后的水流变小或不出水,出水有异味等现象。
技术实现思路
1、有鉴于此,本专利技术实施例提供的具有清洗消毒功能的净水系统的控制方法,可以改善净水系统使用与储存过程中滋生细菌最终导致出水异味问题,同时可以清除ro膜滤芯表面结垢类与形成的生物膜等污染物,可以提高净水系统的使用周期。
2、本专利技术实施例提供了一种具有清洗消毒功能的净水系统的控制方法,该净水系统包括温控模块和加热模块;所述净水系统包括控制模块、供水模块、制水模块和清洗消毒模块;所述净水系统包括控制模块、制水模块、清洗消毒模块;所述控制模块分别与所述制水模块和所述清洗消毒模块电连接,所述控制方法包括:
3、获取净水系统的清洗消毒指令;
4、根据所述清洗消毒指令,检测所述清洗消毒模块的消毒水量;
5、当所述消毒水量满足清洗消毒条件,启动所述清洗消毒模块对所述制水模块的水路进行清洗消毒。
6、可选的,还包括供水模块和排污模块,所述控制模块还与所述供水模块和所述排污模块电连接;在启动所述清洗消毒模块对所述制水模块的水路进行清洗消毒之
7、控制所述清洗消毒模块制备氧化性溶液;
8、控制所述清洗消毒模块和所述制水模块的水路管道连通,所述排污模块和所述制水模块的废水排放管道连通;
9、启动所述清洗消毒模块对所述制水模块的水路进行清洗消毒,包括:
10、控制所述氧化性溶液清洗所述制水模块的水路管道和所述废水排放单元排放使用后的所述氧化性溶液。
11、可选的,所述清洗消毒模块包括储水箱、氧化试剂添加装置和电解发生装置;清洗消毒时,在控制清洗消毒模块制备氧化性溶液之前,所述控制方法还包括:
12、判断所述储水箱中的溶液是否为制备氧化性溶液的电解溶液:
13、若为是,控制所述清洗消毒模块制备氧化性溶液,包括:
14、控制所述电解发生装置电解所述储水箱内的电解溶液,制备氧化性溶液;
15、若为否,控制所述供水模块向所述储水箱供水以及控制所述氧化试剂添加装置向所述储水箱投放氧化试剂,制备氧化性溶液的电解溶液。
16、可选的,在控制所述清洗消毒模块制备氧化性溶液的过程中,所述控制方法还包括:
17、获取所述储水箱内预设气体的气体浓度值;
18、判断所述预设气体的气体浓度值是否达到标定气体浓度值,若为是,控制述清洗消毒模块停止电解,获得氧化性溶液。
19、可选的,所述氧化试剂添加装置包括氧化试剂和稳定剂,所述稳定剂和所述氧化试剂的材料相同;
20、在制备获得氧化性溶液后,所述控制方法还包括:
21、控制所述氧化试剂添加装置向所述储水箱投放稳定剂。
22、可选的,在控制所述氧化性溶液清洗所述制水模块的水路管道和所述排污模块排放使用后的所述氧化性溶液之前,所述控制方法还包括:
23、获取当前时刻所述储水箱的水位值和所述预设气体的气体浓度值;
24、判断当前所述水位值是否达到第一标定水位和判断当前所述预设气体的气体浓度值是否大于所述标定气体浓度值;
25、若均为是,控制所述氧化性溶液清洗所述制水模块的水路管道和所述排污模块排放使用后的所述氧化性溶液;
26、若均为否,继续制备氧化性溶液。
27、可选的,所述储水箱包括第一标定水位和第二标定水位;其中,所述第一标定水位高于所述第一标定水位;
28、在控制所述氧化性溶液清洗所述制水模块的水路管道和所述排污模块排放使用后的所述氧化性溶液的过程中,所述控制方法还包括:
29、实时获取所述储水箱的水位值;
30、判断当前所述水位值是否低于第二标定水位;
31、若为是,控制所述清洗消毒模块与所述制水模块的水路管道断开;
32、若为否,继续控制述清洗消毒模块与所述制水模块的水路管道连通。
33、可选的,所述清洗消毒模块还包括排气单元;所述气体单元排气口延伸至水箱内;
34、当清洗消毒模块电解开启时,控制所述排气单元打开,用于排放所述储水箱内的气体;当清洗消毒模块电解关闭时,控制所述排气单元关闭。
35、可选的,所述制水模块包括出水单元,所述出水单元包括制水键;确定净水系统的工作程序,包括:
36、获取制水键的纯水制备指令;
37、根据所述纯水制备指令,启动净水系统的工作程序为纯水制备。
38、可选的,其特征在于,所述出水单元还包括清洗消毒键,确定净水系统的工作程序,包括:
39、获取清洗消毒键的清洗消毒指令;
40、根据所清洗消毒指令,启动净水系统的工作程序为清洗消毒。
41、可选的,所述制水模块还包括纯水过滤单元;所述纯水过滤单元设置在所述制水模块的水路管道中;
42、在纯水制备过程中,所述控制方法还包括:
43、获取流经所述纯水过滤单元的纯水出水口的纯水流量;
44、计算当前纯水流量相对标称流量的减小量;
45、当所述减小量大于或者等于预设减小量,控制净水系统的工作程序由纯水制备转为清洗消毒。
46、综上,本申请实施例提供的净水系统的控制方法,净水系统的纯水制备水路管道和清洗消毒水路管道相互独立、互不干扰,在控制净水系统清洗消毒时,通过电控控制使得净水系统的相应管道内可以利用机器本身制备的高氧化性溶液对水路管道及滤芯表面进行清洗消毒,改善净水系统使用与储存过程中滋生细菌最终导致出水异味问题,同时可以清除过滤滤芯表面结垢类与形成的生物膜等污染物,从而提高净水系统的使用周期和纯水净化质量。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种具有清洗消毒功能的净水系统的控制方法,所述净水系统包括控制模块、制水模块、清洗消毒模块;所述控制模块分别与所述制水模块和所述清洗消毒模块电连接,其特征在于,所述控制方法包括:
2.根据权利要求1所述的控制方法,其特征在于,还包括供水模块和排污模块,所述控制模块还与所述供水模块和所述排污模块电连接;在启动所述清洗消毒模块对所述制水模块的水路进行清洗消毒之前,还包括:
3.根据权利要求2所述的控制方法,其特征在于,所述清洗消毒模块包括储水箱、氧化试剂添加装置和电解发生装置;清洗消毒时,在控制清洗消毒模块制备氧化性溶液之前,所述控制方法还包括:
4.根据权利要求3所述的控制方法,其特征在于,在控制所述清洗消毒模块制备氧化性溶液的过程中,所述控制方法还包括:
5.根据权利要求4所述的控制方法,其特征在于,所述氧化试剂添加装置包括氧化试剂和稳定剂,所述稳定剂和所述氧化试剂的材料相同;
6.根据权利要求4所述的控制方法,其特征在于,在控制所述氧化性溶液清洗所述制水模块的水路管道和所述排污模块排放使用后的所述氧化性溶液之前,所
7.根据权利要求4所述的控制方法,其特征在于,所述储水箱包括第一标定水位和第二标定水位;其中,所述第一标定水位高于所述第一标定水位;
8.根据权利要求4所述的控制方法,其特征在于,所述清洗消毒模块还包括排气单元;所述排气单元排气口延伸至水箱内;
9.根据权利要求2所述的控制方法,其特征在于,还包括供水模块和排污模块,所述控制模块还与所述供水模块和所述排污模块电连接,所述控制方法包括:
10.根据权利要求9所述的控制方法,其特征在于,所述制水模块还包括纯水过滤单元和流量检测单元;所述纯水过滤单元设置在所述制水模块的水路管道中;
...【技术特征摘要】
1.一种具有清洗消毒功能的净水系统的控制方法,所述净水系统包括控制模块、制水模块、清洗消毒模块;所述控制模块分别与所述制水模块和所述清洗消毒模块电连接,其特征在于,所述控制方法包括:
2.根据权利要求1所述的控制方法,其特征在于,还包括供水模块和排污模块,所述控制模块还与所述供水模块和所述排污模块电连接;在启动所述清洗消毒模块对所述制水模块的水路进行清洗消毒之前,还包括:
3.根据权利要求2所述的控制方法,其特征在于,所述清洗消毒模块包括储水箱、氧化试剂添加装置和电解发生装置;清洗消毒时,在控制清洗消毒模块制备氧化性溶液之前,所述控制方法还包括:
4.根据权利要求3所述的控制方法,其特征在于,在控制所述清洗消毒模块制备氧化性溶液的过程中,所述控制方法还包括:
5.根据权利要求4所述的控制方法,其特征在于,所述氧化试剂添加装置包括氧化试剂和...
【专利技术属性】
技术研发人员:任富佳,涂小斌,陈天,王轩,
申请(专利权)人:杭州老板电器股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。