【技术实现步骤摘要】
本专利技术的示例性实施方式涉及一种基板处理装置。
技术介绍
1、基板处理装置有时会具备能够控制载置于其上的基板的温度的基板支撑台。日本特开2016-12593号公报中记载的基板处理装置通过向基板支撑台供给调整为第1温度的传热介质和调整为比第1温度高的第2温度的传热介质来控制基板的温度。
技术实现思路
1、本专利技术提供一种控制基板的温度的技术。
2、在一个示例性实施方式中，提供一种基板处理装置。基板处理装置具备处理腔室、基板支撑台、至少一个供给管、至少一个隔壁、至少一个回收管、至少一个流量调整阀及控制部。基板支撑台为设置于处理腔室内的基板支撑台。基板支撑台包括上表面及下表面。上表面支撑载置于其上的基板。下表面为与上表面相反的一侧的面。基板支撑台提供至少一个凹部。至少一个凹部在下方开口。至少一个供给管包括开口端。开口端在至少一个凹部内朝向上方开口。至少一个供给管构成为向至少一个凹部供给传热介质。至少一个隔壁与基板支撑台一并形成至少一个空间。至少一个空间包括至少一个凹部。至少一个回...
【技术保护点】
1.一种基板处理装置，其具备：
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其还具备：
4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其还具备：
5.一种基板处理装置，其具备：
6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中，
7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其还具备：
【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，其具备：
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其还具备：
4.根据权利要求2所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员：矢口彻磨，浅原玄德，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。