涂覆装置制造方法及图纸

本申请提供了一种涂覆装置，包括用于支承载体的基座、限位组件、定位组件以及涂覆组件；涂覆组件位于所述基座的上方；定位组件包括挡块以及用于调节挡块位置的调节单元；限位组件包括限位部；涂覆装置具有涂覆状态，在涂覆状态下，在所述涂覆装置的长度方向或宽度方向上，所述挡块与所述限位部分别位于所述载体的两侧，所述限位部和所述挡块均与所述载体抵接。本申请中包括限位组件和定位组件，定位组件包括挡块以及用于调节挡块位置的调节单元；通过调节单元对挡块的调节进而配合限位组件对载体进行限位固定，从而提高载体再涂覆过程中的稳定性，进而提高磁体的稳定性并能提高生产的有效性。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及磁体制备领域，尤其涉及一种涂覆装置。

技术介绍

1、相关技术中，涂覆装置包括基座和涂覆组件。涂覆时，承载有待涂覆物的载体位于基座，涂覆组件对待涂覆物进行涂覆。由于载体不能与涂覆组件准确对位，复合材料不能被准确地涂覆到待涂覆物表面。因此，需要对涂覆装置的结构进行改进。

技术实现思路

1、本申请的目的在于提供一种涂覆装置，能够使承载有待涂覆物的载体与涂覆组件准确对位。

2、一种涂覆装置，包括用于支承载体的基座、限位组件和定位组件，所述载体用于承载待涂覆物；

3、所述定位组件包括挡块以及用于调节所述挡块位置的调节单元，所述挡块与所述基座滑动连接，所述挡块至少部分凸出于所述基座设置；

4、所述限位组件包括限位部，所述限位部与所述基座固定连接或限位连接，所述限位部至少部分凸出于所述基座设置；

5、所述涂覆装置具有用于放置所述载体的放置空间，所述限位部与所述挡块分别位于所述放置空间相对的两侧。

6、本申请提供的涂覆装置包括定位组件和限位组件，定位组件包本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种涂覆装置，其特征在于，所述涂覆装置包括用于支承载体(1)的基座(2)、限位组件(3)和定位组件(4)，所述载体(1)用于承载待涂覆物；

2.根据权利要求1所述的涂覆装置，其特征在于，所述涂覆装置具有涂覆状态，在所述涂覆状态下，沿所述涂覆装置的长度方向或宽度方向，所述挡块(401、403)与所述限位部(301、302)分别位于所述载体(1)的两侧，所述限位部(301、302)和所述挡块(401、403)分别与所述载体(1)抵接。

3.根据权利要求2所述的涂覆装置，其特征在于，所述基座(2)具有滑槽(201、202)，所述基座(2)具有顶面(203)，所述滑槽...

【技术特征摘要】

1.一种涂覆装置，其特征在于，所述涂覆装置包括用于支承载体(1)的基座(2)、限位组件(3)和定位组件(4)，所述载体(1)用于承载待涂覆物；

2.根据权利要求1所述的涂覆装置，其特征在于，所述涂覆装置具有涂覆状态，在所述涂覆状态下，沿所述涂覆装置的长度方向或宽度方向，所述挡块(401、403)与所述限位部(301、302)分别位于所述载体(1)的两侧，所述限位部(301、302)和所述挡块(401、403)分别与所述载体(1)抵接。

3.根据权利要求2所述的涂覆装置，其特征在于，所述基座(2)具有滑槽(201、202)，所述基座(2)具有顶面(203)，所述滑槽(201、202)自所述顶面(203)向所述基座(2)内部凹陷形成，或者，所述滑槽(201、202)贯穿所述顶面(203)设置；

4.根据权利要求3所述的涂覆装置，其特征在于，所述调节单元(402、404)包括第一调节单元(402)和第二调节单元(404)，所述第一调节单元(402)包括第一连杆(405)，所述第一连杆(405)具有第一输入端(406)，所述第二调节单元(404)具有第二连杆(407)，所述第二连杆具有第二输入端(408)；

5.根据权利要求2所述的涂覆装置，其特征在于，所述限位部(301、302)为板状结构、柱形结构或者异形结构，在所述涂覆状态下，所述限位部(301、302)与所述载体(1)线接触或面接触；

6.根据权利要求1所述的涂覆装置，...

【专利技术属性】
技术研发人员：张雪峰，赵利忠，李建恒，
申请(专利权)人：杭州电子科技大学，
类型：新型
国别省市：