【技术实现步骤摘要】
本技术涉及自动化设备，更具体地说，涉及一种旋涂系统。
技术介绍
1、旋涂装置是旋涂器件制备中常用到的核心设备之一，其通过在基板上滴注成膜溶液，利用离心力使滴在基片上的溶液均匀地涂覆在基板上的设备。膜层的厚度取决于匀胶机的转速和溶胶的黏度。以旋涂装置制备量子点发光器件为例，当前制备量子点发光器件的旋涂装置大多都是单体设备，需要人工手动操作以将基板放入旋涂装置的旋涂工位上，存在生产效率低，以及因人工操作失误导致的器件性能降低或报废等情况。
技术实现思路
1、本技术提供一种旋涂系统，旨在解决现有技术中器件生产效率和良品率低的技术问题。
2、一方面，本申请提供一种旋涂系统，包括基板转移装置和旋涂装置；
3、所述旋涂装置设有用于容置基板的旋涂工位，所述旋涂装置配置为在所述旋涂工位上的所述基板上旋涂胶液；
4、所述基板转移装置包括抓取机构和移动机构，所述抓取机构包括基板吸盘以及定位机构，所述基板吸盘用于抓取所述基板，所述定位机构设置在所述基板吸盘的外周，用于调整所述...
【技术保护点】
1.一种旋涂系统，其特征在于，包括基板转移装置和旋涂装置；
2.如权利要求1所述的旋涂系统，其特征在于，所述抓取机构包括沿第一方向延伸的第一滑轨、滑动设置于所述第一滑轨的第一滑块，所述第一滑块的一端设有所述基板吸盘；所述定位机构包括安装板和定位杆，所述安装板靠近所述基板吸盘设置，所述定位杆与所述安装板活动连接，所述定位杆靠近或远离所述基板吸盘以调整所述基板的位置。
3.如权利要求1所述的旋涂系统，其特征在于，所述移动机构包括第一直线运动机构和第二直线运动机构；所述第一直线运动机构滑动设置在所述第二直线运动机构上；所述抓取机构滑动设置在第一直线运
<...【技术特征摘要】
1.一种旋涂系统，其特征在于，包括基板转移装置和旋涂装置；
2.如权利要求1所述的旋涂系统，其特征在于，所述抓取机构包括沿第一方向延伸的第一滑轨、滑动设置于所述第一滑轨的第一滑块，所述第一滑块的一端设有所述基板吸盘；所述定位机构包括安装板和定位杆，所述安装板靠近所述基板吸盘设置，所述定位杆与所述安装板活动连接，所述定位杆靠近或远离所述基板吸盘以调整所述基板的位置。
3.如权利要求1所述的旋涂系统，其特征在于，所述移动机构包括第一直线运动机构和第二直线运动机构；所述第一直线运动机构滑动设置在所述第二直线运动机构上；所述抓取机构滑动设置在第一直线运动机构上。
4.如权利要求2所述的旋涂系统，其特征在于，所述第一滑轨的一侧设有连接板，所述连接板设有避让孔，所述基板吸盘通过所述避让孔沿所述第一方向移动；所述安装板设于所述连接板背离所述第一滑轨的一侧，且朝向背离所述第一滑轨的方向延伸；和/或，所述定位杆的数量为多个，多个所述定位杆环绕所述避让孔设置。
5.如权利要求1所述的旋涂系统，其特征在于，所述基板吸盘包括盘体以及位于盘体上的外边框；所述外边框内设有真空气孔...
【专利技术属性】
技术研发人员：郭海东，
申请(专利权)人：TCL科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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