System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种低反射膜系结构及制造其的方法技术_技高网

一种低反射膜系结构及制造其的方法技术

技术编号:40563140 阅读:13 留言:0更新日期:2024-03-05 19:26
本申请提供一种低反射膜系结构及制造其的方法。低反射膜系结构包括基材以及交替功能层。交替功能层设置在基材的一侧,交替功能层包括交替叠置的高折射率膜层和低折射率膜层,高折射率膜层的折射率大于低折射率膜层的折射率。低反射膜系结构的等效光程为λ/4的奇数倍,其中,λ为入射光的波长。本申请通过在基材表面沿低反射膜系结构的厚度方向设置交替叠置的高折射率膜层和低折射率膜层,并且低反射膜系结构的整膜层的等效光程为λ/4奇数倍,使得低反射膜系结构具有较低的反射率。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及光学,更具体地,涉及一种低反射膜系结构及制造其的方法


技术介绍

1、目前,很多光学设备上都有减少反射光和/或提高透射光光强的需求。例如,在显示
,为提高显示画面的对比度,需要在显示装置的出光侧设置减少反射光的减反膜。以及,在光学透镜领域,为提高入射至镜头内的光强,减少镜头表面的反射光的强度,也需要在光学透镜表面设置减少反射光光强提高透射光光强的减反增透膜。另外,在光伏发电领域,为提高入射至光伏组件的光强,提高光伏组件的光电转化效率,需要在光伏组件的表面设置减反增透膜。但是,目前已有的减反膜依然存在反射率较高的问题。


技术实现思路

1、本申请提供了一种可至少部分解决相关技术中存在的上述问题的低反射膜系结构及其制备方法。

2、本申请一方面提供一种低反射膜系结构,包括基材以及交替功能层。交替功能层设置在基材的一侧,交替功能层包括交替叠置的高折射率膜层和低折射率膜层,高折射率膜层的折射率大于低折射率膜层的折射率。低反射膜系结构的等效光程为λ/4的奇数倍,其中,λ为入射光的波长。

3、在一些实施方式中,高折射率膜层的材料的折射率nh满足:2.9≤nh≤3.5;以及低折射率膜层的材料的折射率nl满足:1.2≤nl≤2.1。

4、在一些实施方式中,高折射率膜层的材料包括sih;以及低折射率膜层的材料包括sio2、al2o3、si3n4中的至少一种。

5、在一些实施方式中,交替功能层中,高折射率膜层和低折射率膜层交替叠置的层数的范围为2~40层。

6、在一些实施方式中,高折射率膜层的厚度dh满足:10nm≤dh≤150nm;以及低折射率膜层的厚度dl满足:10nm≤dl≤150nm。

7、在一些实施方式中,交替功能层远离基材的表面配置为低折射率膜层。

8、在一些实施方式中,交替功能层朝向基材的一侧和/或交替功能层背向基材的一侧设置有交替介质层,交替介质层为以至少两种不同材料的介质层交替叠置形成的结构;其中,介质层的折射率小于高折射率膜层的折射率。

9、在一些实施方式中,介质层的折射率nj满足:1.2≤nj≤2.1。

10、在一些实施方式中,介质层的材料包括sio2、al2o3、si3n4中的至少一种。

11、在一些实施方式中,交替介质层中,介质层交替叠置的层数的范围为2~10层。

12、在一些实施方式中,介质层的厚度dj满足:5nm≤dj≤180nm。

13、在一些实施方式中,当交替功能层朝向所述基材的一侧设置有交替介质层时,交替功能层远离基材的表面配置为低折射率膜层。

14、本申请的另一方面提供一种制造低反射膜系结构的方法,包括:在基材的一侧形成交替功能层,交替功能层包括交替叠置的高折射率膜层和低折射率膜层。高折射率膜层的折射率大于低折射率膜层的折射率。低反射膜系结构的等效光程为λ/4的奇数倍,其中,λ为入射光的波长。

15、在一些实施方式中,高折射率膜层的材料的折射率nh满足:2.9≤nh≤3.5;以及低折射率膜层的材料的折射率nl满足:1.2≤nl≤2.1。

16、在一些实施方式中,高折射率膜层的材料包括sih;以及低折射率膜层的材料包括sio2、al2o3、si3n4中的至少一种。

17、在一些实施方式中,形成高折射率膜层的方法包括:通过磁控溅射的方式发射si单质膜料;以及通过等离子脉冲辅助的方式通入氢气,以使氢气与si单质膜料反应,生成高折射率膜层。

18、在一些实施方式中,氢气的通入流量的范围为15sccm~60sccm。

19、在一些实施方式中,在形成交替功能层时,高折射率膜层和低折射率膜层交替叠置的层数的范围为2~40层。

20、在一些实施方式中,高折射率膜层的厚度dh满足:10nm≤dh≤150nm;以及低折射率膜层的厚度dl满足:10nm≤dl≤150nm。

21、在一些实施方式中,在形成交替功能层的过程中,使交替功能层远离基材的表面为低折射率膜层。

22、在一些实施方式中,在基材的一侧形成交替功能层之前,所述方法还包括:在基材的表面形成第一交替介质层;其中,在基材的一侧形成交替功能层包括:在第一交替介质层的表面形成交替功能层。和/或,在基材的一侧形成交替功能层之后,所述方法还包括:在所述交替功能层的表面形成第二交替介质层。第一交替介质层和第二交替介质层为以至少两种不同材料的介质层交替叠置形成的结构,介质层的折射率小于高折射率膜层的折射率。

23、在一些实施方式中,介质层的折射率nj满足:1.2≤nj≤2.1。

24、在一些实施方式中,介质层的材料包括sio2、al2o3、si3n4中的至少一种。

25、在一些实施方式中,介质层交替叠置的层数的范围为2~10层。

26、在一些实施方式中,介质层的厚度dj满足:5nm≤dj≤180nm。

27、在一些实施方式中,当交替功能层朝向所述基材的一侧形成有交替介质层时,使交替功能层远离基材的表面配置为低折射率膜层。

28、本申请至少一个实施方式提供的低反射膜系结构中,通过在基材表面沿低反射膜系结构的厚度方向设置交替叠置的高折射率膜层和低折射率膜层,并且低反射膜系结构整膜系的等效光程为λ/4奇数倍,使得低反射膜系结构具有较低的反射率。

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【技术保护点】

1.一种低反射膜系结构,其特征在于,所述低反射膜系结构的等效光程为λ/4的奇数倍,λ为入射光的波长;

2.根据权利要求1所述的低反射膜系结构,其特征在于,

3.根据权利要求2所述的低反射膜系结构,其特征在于,

4.根据权利要求1所述的低反射膜系结构,其特征在于,

5.根据权利要求4所述的低反射膜系结构,其特征在于,

6.根据权利要求1至5中任一项所述的低反射膜系结构,其特征在于,

7.根据权利要求1至5中任一项所述的低反射膜系结构,其特征在于,

8.根据权利要求7所述的低反射膜系结构,其特征在于,

9.根据权利要求8所述的低反射膜系结构,其特征在于,

10.一种制造低反射膜系结构的方法,其特征在于,包括:

【技术特征摘要】

1.一种低反射膜系结构,其特征在于,所述低反射膜系结构的等效光程为λ/4的奇数倍,λ为入射光的波长;

2.根据权利要求1所述的低反射膜系结构,其特征在于,

3.根据权利要求2所述的低反射膜系结构,其特征在于,

4.根据权利要求1所述的低反射膜系结构,其特征在于,

5.根据权利要求4所述的低反射膜系结构,其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员:姚峥峥石枭朱鹏程刘阳
申请(专利权)人:宁波舜宇车载光学技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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