【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及保护帽、电子装置以及保护帽的制造方法。
技术介绍
1、具备led等电子部件的电子装置出于长寿命、节能等理由，以至于被利用到照明、通信等各种领域中。
2、在这种电子装置中，为了保护电子部件，有时在搭载电子部件的基材以将电子部件收容于内部的方式盖上保护帽。例如如专利文献1所公开那样，保护帽具备：框部(第二构件)，其包围电子部件的周围；以及盖部(罩构件)，其覆盖框部的一端开口。
3、保护帽通过将框部与盖部接合从而一体地构成。作为将框部与盖部接合方法，例如可以举出向框部与盖部接触的接触部分照射激光从而使框部的一部分与盖部的一部分熔接的方法。作为利用激光将两个构件接合的技术，例如在专利文献2中公开有使第一基板与第二基板重合并在它们的界面区域形成基于激光的照射的熔接部(融合部)的方法。
4、现有技术文献
5、专利文献
6、专利文献1：国际公开第2015/190242号公报
7、专利文献2：日本特开2021-88468号公报
技术实现思路
1、专利技术要解决的课题
2、另外，在电子部件为led等发光元件的情况下，为了使光的取出效率提高，考虑在盖部形成防反射膜。例如，在盖部的表背整面形成有防反射膜的情况下，当将框部与盖部为了接合而重合时，防反射膜的一部分与框部接触。
3、在该状态下，当进行基于激光的接合时，由于在框部与盖部之间夹设有防反射膜，而可能框部与盖部的熔接不充分。
4、
5、用于解决课题的方案
6、本专利技术是用于解决上述的课题的一种保护帽，用于保护电子部件，其特征在于，所述保护帽具备：框部；盖部，其覆盖所述框部的一端部；以及接合部，其将所述框部与所述盖部接合，所述盖部具有经由所述接合部而与所述框部的所述一端部接触的第一表面，所述第一表面具有第一防反射膜，所述第一防反射膜具有与所述框部接触的接触部，所述接触部的表面粗糙度sa为0.1～1.0nm。
7、根据该结构，通过将第一防反射膜的接触部的表面粗糙度sa设为0.1～1.0nm，从而能够使接触部与框部接触的接触部分的紧贴性提高。因而，通过将激光向该接触部分照射，从而能够形成具有充分的接合强度的接合部。另外，即使在对保护帽要求气密性的情况下，也能够确保接合部的充分的气密性。
8、也可以是，所述盖部具有位于所述第一表面的相反侧的第二表面，所述第二表面具有第二防反射膜。由此，在使用保护帽制作出射光的电子装置的情况下，能够使光的取出效率进一步提高。
9、本专利技术的电子装置的特征在于，所述电子装置具备：电子部件；基材，其搭载所述电子部件；以及上述的保护帽，其以将所述电子部件收容于内部的方式与所述基材接合。如此一来，能够享有与已说明的保护帽的对应的结构相同的作用效果。
10、本专利技术是制造上述的保护帽的方法，其特征在于，所述保护帽的制造方法包括：成膜工序，利用进行物理蒸镀法的成膜装置在所述盖部的所述第一表面形成所述第一防反射膜；以及接合工序，将所述盖部的所述第一表面与所述框部的所述一端部接合，所述成膜装置具备：保持工具，其保持所述盖部，并且能够沿规定的方向移动；靶，其使成为所述第一防反射膜的材料的粒子飞散；以及遮蔽构件，其限制从所述靶飞散的所述粒子的飞散方向，在所述成膜工序中，在利用所述遮蔽构件遮蔽从所述靶飞散的所述粒子的一部分的同时，使不与所述遮蔽构件接触而飞散的粒子附着于以保持于所述保持工具的状态移动的所述盖部的所述第一表面。
11、根据该结构，通过利用遮蔽构件遮蔽从靶飞散的粒子的一部分，从而能够使粒子均匀地附着于盖部的第一表面。由此，能够尽量减小第一防反射膜的表面粗糙度。
12、在本方法中，也可以是，所述靶包括并列设置的第一靶以及第二靶，所述遮蔽构件配置于所述第一靶与所述第二靶之间。
13、根据该结构，利用遮蔽构件限制从第一靶飞散的粒子以及从第二靶飞散的粒子的飞散方向，从而能够尽量减小第一防反射膜的表面粗糙度。
14、在本方法中，也可以是，所述遮蔽构件设置于所述保持工具。利用设置于保持工具的遮蔽构件遮蔽从靶飞散的粒子的一部分，从而能够尽量减小第一防反射膜的表面粗糙度。
15、也可以是，在本方法中的所述接合工序中，使所述盖部的所述第一表面与所述框部的所述一端部接触，并向该接触的部分照射激光，从而将所述盖部的所述第一表面与所述框部的所述一端部直接接合。由此，能够制造气密性优异且接合强度较高的保护帽。
16、专利技术效果
17、根据本专利技术，即使在框部与盖部之间夹设有防反射膜的情况下，也能够适当地将框部与盖部接合。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种保护帽，用于保护电子部件，
2.根据权利要求1所述的保护帽，其中，
3.一种电子装置，其特征在于，
4.一种保护帽的制造方法，制造权利要求1或2所述的保护帽，
5.根据权利要求4所述的保护帽的制造方法，其中，
6.根据权利要求4所述的保护帽的制造方法，其中，
7.根据权利要求4至6中任一项所述的保护帽的制造方法，其中，
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种保护帽，用于保护电子部件，
2.根据权利要求1所述的保护帽，其中，
3.一种电子装置，其特征在于，
4.一种保护帽的制造方法，制造权利要求1或2所述的保护帽...
【专利技术属性】
技术研发人员：间岛亮太，
申请(专利权)人：日本电气硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：
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