【技术实现步骤摘要】
技术介绍
1、本公开涉及流出物监测，更具体地，涉及用于刷子调理的流出物监测的方法和装置。
2、在半导体制造工业和其他工业中，刷子用于从表面去除污染物，例如从半导体晶片去除污染物。从制造商获得的传统的刷子处于不能立即使用的状态。反而，刷子通常在用于预期产品之前被调理(或“磨合”)。在刷子调理期间使用的化学品(称为流出物)可以被收集以供再循环和/或处置。
3、通过将用于调理刷子的流出物监测的常规方法与参照附图在本公开的其余部分中阐述的方法和系统的一些方面进行比较，这些常规方法的限制和缺点对于本领域技术人员将变得显而易见。
技术实现思路
1、提供了用于刷子调理的流出物监测的方法和装置，基本上如至少一幅附图所示和结合至少一幅附图所述，如权利要求书中更完整地阐述。
【技术保护点】
1.一种用于监测离线刷子调理系统的流出物的污染水平的系统，所述系统包括：
2.根据权利要求1所述的系统，进一步包括控制系统，所述控制系统被配置成：
3.根据权利要求2所述的系统，所述控制系统被配置成将所述第一流出物或所述第二流出物的污染水平中的至少一个与时间相关联。
4.根据权利要求1所述的系统，其中用于所述第一组贮存器或所述第二组贮存器中的至少一个贮存器的材料包括石英、全氟烷氧基烷烃(PFA)、聚偏二氟乙烯(PVDF)或聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的系统，其中所述污染水平包括液体...
【技术特征摘要】
1.一种用于监测离线刷子调理系统的流出物的污染水平的系统，所述系统包括：
2.根据权利要求1所述的系统，进一步包括控制系统，所述控制系统被配置成：
3.根据权利要求2所述的系统，所述控制系统被配置成将所述第一流出物或所述第二流出物的污染水平中的至少一个与时间相关联。
4.根据权利要求1所述的系统，其中用于所述第一组贮存器或所述第二组贮存器中的至少一个贮存器的材料包括石英、全氟烷氧基烷烃(pfa)、聚偏二氟乙烯(pvdf)或聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的系统，其中所述污染水平包括液体颗粒计数、ph水平或电阻率中的至少一项。
6.根据权利要求5所述的系统，其中所述流出物污染监测器包括液体颗粒计数器(lpc)，所述液体颗粒计数器(lpc)被配置成测量所述液体颗粒计数。
7.根据权利要求6所述的系统，其中所述液体颗粒计数器(lpc)被配置成使用激光散射测量系统。
8.根据权利要求5所述的系统，进一步包括控制系统，所述控制系统被配置成实时地记录以存储所述第一流出物和所述第二流出物的所述污染水平的至少一部分。
9.根据权利要求1所述的系统，进一步包括泵系统，所述泵系统在所述第一组贮存器和所述第二组贮存器下游，所述泵系统被配置成泵送所述第一流出物和所述第二流出物。<...
【专利技术属性】
技术研发人员：布拉德利·威瑟斯，科里·艾伦·休斯，埃里克·斯科特·纳尔逊，史蒂芬·肯尼斯·克里斯蒂，布伦特·艾伦·贝斯特，
申请(专利权)人：伊利诺斯工具制品有限公司，
类型：发明
国别省市：
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