【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及一种基板处理系统和基板处理方法。
技术介绍
1、专利文献1所记载的基板处理装置具备调整液供给部、溶解部、处理腔室以及送液部。调整液供给部供给呈规定的氢离子浓度的调整液。溶解部使臭氧气体溶解于调整液来生成臭氧水。在处理腔室中，利用臭氧水对基板进行清洗处理。送液部通过送液线路将臭氧水从溶解部输送到至少一个处理腔室。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：国际公开第2020/100661号
技术实现思路
1、专利技术要解决的问题
2、本公开的一个方式提供一种提高利用臭氧水对基板进行处理的处理效率并且提高被利用臭氧水进行了处理的基板的清洁度的技术。
3、用于解决问题的方案
4、本公开的一个方式所涉及的基板处理系统具备批量处理部、单片处理部以及搬送部。所述批量处理部通过将多张基板浸在贮存于处理槽的臭氧水中，来对多张所述基板一并进行处理。所述单片处理部利用药液对所述基板逐张地进行处理。所述搬送部将所述基板保持湿润的状态从所述批量处理部搬送到所述单片处理部。
5、专利技术的效果
6、根据本公开的一个方式，能够提高利用臭氧水对基板进行处理的处理效率并且提高被利用臭氧水进行了处理的基板的清洁度。
【技术保护点】
1.一种基板处理系统，具备：
2.根据权利要求1所述的基板处理系统，还具备：
3.根据权利要求1所述的基板处理系统，还具备：
4.根据权利要求2或3所述的基板处理系统，
5.根据权利要求2或3所述的基板处理系统，还具备：
6.根据权利要求1所述的基板处理系统，其中，
7.根据权利要求1～3和6中的任一项所述的基板处理系统，其中，
8.一种基板处理方法，包括：
9.根据权利要求8所述的基板处理方法，还包括：
10.根据权利要求8所述的基板处理方法，还包括：
11.根据权利要求8所述的基板处理方法，其中，
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种基板处理系统，具备：
2.根据权利要求1所述的基板处理系统，还具备：
3.根据权利要求1所述的基板处理系统，还具备：
4.根据权利要求2或3所述的基板处理系统，
5.根据权利要求2或3所述的基板处理系统，还具备：
6.根据权利要求1所述的基板处理...
【专利技术属性】
技术研发人员：八谷洋介，中森光则，香川兴司，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：
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