本发明专利技术的表面处理构件(1),用于在具有旋转构件的表面处理系统中安装在旋转构件上使用。表面处理构件(1)包括:底座(10);打击构件(40),具有环状主体部及从主体部突出的突出部;以及轴构件(50),配置在主体部的内侧区域。在沿应使底座(10)旋转的假想轴(A)观察表面处理构件(1)时,打击构件(40)在表面处理构件(1)旋转时,其一部分能够因离心力而露出至比底座(10)的外缘更靠外侧的位置上,并且与表面处理对象碰撞后,其整体能够退避到臂以假想轴(A)为圆心且通过基台(10)的最外缘的假想圆更靠内侧的位置上。本发明专利技术表面处理构件(1)通过用于具有旋转构件的表面处理系统,在实施坯料调整时可以提高涂料的附着性,且可以轻松实施坯料调整。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及表面处理构件及表面处理系统。
技术介绍
1、以往,在对建材等进行涂装时,优选在涂装前实施坯料调整。所谓坯料调整是指将涂装对象物的表面设为适于涂装的状态的一种处理方式。如果在不实施坯料调整的情况下进行涂装,则有可能会因异物(锈迹或旧涂膜等)的存在而导致涂料的附着力降低,无法充分保护涂装对象物。另外,坯料调整有时也被称为基底处理或清渣等。
2、坯料调整例如可以使用具有盘式或带式的研磨机(打磨机)的磨削工具来实施(例如参照专利文献1)。另外,坯料调整也可以使用具备环状刷的旋转工具来实施(例如参照专利文献2)。另外,坯料调整也可以通过向处理对象喷射粒状物的方法(喷射法)来实施(例如,参照专利文献3)。
3、【先行技术文献】
4、【专利文献1】日本特开2007-307701号公报
5、【专利文献2】日本特开2006-212772号公报
6、【专利文献3】日本特开2005-111628号公报
7、然而,如果使用以往的磨削工具或旋转工具实施坯料调整,则可能在表面处理对象上形成划痕状的图案,与在表面处理对象上形成点状凹凸的喷射法进行的坯料调整相比,存在涂料的附着性低的问题。另一方面,如采用喷砂法的坯料调整则需要大规模的事前准备,由于会产生大量的废弃物,因此存在无法轻松实施的问题。
8、本专利技术是为了解决上述问题而完成的,其目的在于提供一种能够提高涂料的附着性,并且能够轻松地实施坯料调整的表面处理系统以及用于该表面处理系统的表面处理构件。
<
br/>技术实现思路
1、本专利技术的表面处理构件用于在具有旋转构件的表面处理系统中安装在所述旋转构件上使用,其特征在于,包括:底座,能够安装在所述旋转构件上;打击构件,具有环状主体部及从所述主体部突出的突出部,在使用时与表面处理对象碰撞而进行打击;以及轴构件,配置在所述主体部的内侧区域,并固定于所述底座,其中,在沿应使所述底座旋转的假想轴观察所述表面处理构件时,在所述表面处理构件旋转时,所述打击构件的一部分因离心力而露出至比所述底座的外缘更靠外侧的位置上,并且在与所述表面处理对象碰撞后,所述打击构件的整体能够退避到以所述假想轴为圆心且通过所述底座的最外缘的假想圆更靠内侧的位置上。
2、在本专利技术的表面处理构件中,优选在沿所述假想轴观察所述表面处理构件时,所述底座的外缘由以所述假想轴为圆心的圆形形状构成,所述打击构件在与所述表面处理对象碰撞后,其整体能够退避到比所述底座的外缘更靠内侧的位置上。
3、在本专利技术的表面处理构件中,优选所述打击构件具有多个所述突出部,所述突出部等间隔地配置在所述主体部的外缘。
4、在本专利技术的表面处理构件中,优选所述主体部的内缘由与所述突出部的数量相对应的正多边形形状构成。
5、在本专利技术的表面处理构件中,优选在沿所述假想轴观察所述表面处理构件时,所述突出部由以连结所述主体部的中心与所述突出部的前端的假想线为轴的非对称形状构成。
6、本专利技术的表面处理系统,包括:能够通过驱动手段旋转的旋转构件;以及安装在所述旋转构件上的表面处理构件,其特征在于:所述表面处理构件包括:底座,能够安装在所述旋转构件上;打击构件,具有环状主体部及从所述主体部突出的突出部,在使用时与表面处理对象碰撞而进行打击;以及轴构件,配置在所述主体部的内侧区域,并固定于所述底座,其中,在沿所述旋转构件的旋转轴观察时,在所述表面处理构件旋转时,所述打击构件的一部分因离心力而露出至比所述底座的外缘更靠外侧的位置上,并且在与所述表面处理对象碰撞后,所述打击构件的整体能够退避到以所述假想轴为圆心且通过所述底座的最外缘的假想圆更靠内侧的位置上。
7、本专利技术的表面处理系统,包括:能够通过驱动手段旋转的旋转构件;以及安装在所述旋转构件上的表面处理构件,其特征在于:所述表面处理构件包括:底座,能够安装在所述旋转构件上;打击构件,具有环状主体部及从所述主体部突出的突出部,在使用时与表面处理对象碰撞而进行打击;以及轴构件,配置在所述主体部的内侧区域,并固定于所述底座,其中,所述表面处理系统进一步包括在使用时比所述底座更向所述表面处理对象侧伸出的引导构件,在沿着应使所述底座旋转的假想轴观察所述表面处理构件时,在所述表面处理构件旋转时,所述打击构件的一部分因离心力而露出至比所述引导构件的外缘更靠外侧的位置上,并且在与所述表面处理对象碰撞后,所述打击构件的整体能够退避到比所述引导构件的外缘更靠内侧的位置上。
8、专利技术效果
9、在本专利技术的表面处理构件中,由于包括:底座,能够安装在旋转构件上;打击构件,具有环状主体部及从主体部突出的突出部,在使用时与表面处理对象碰撞而进行打击;以及轴构件,配置在主体部的内侧区域,并固定于底座,其中,在沿应使底座旋转的假想轴观察表面处理构件时,在表面处理构件旋转时,打击构件的一部分因离心力而露出至比底座的外缘更靠外侧的位置上,并且在与表面处理对象碰撞后,打击构件的整体能够退避到比以假想轴为圆心且通过底座的最外缘的假想圆更靠内侧的位置上。因此,通过利用具备本专利技术的表面处理构件的表面处理系统实施坯料调整,打击构件在与表面处理对象碰撞后迅速退避,从而在表面处理对象上形成点状的凹凸而不是划痕状的图案。因此,根据本专利技术的表面处理构件,通过作为表面处理系统的一部分使用,在实施坯料调整时可以提高涂料的附着性。另外,根据本专利技术的表面处理构件,通过作为表面处理系统的一部分使用,能够以与以往的旋转工具同样的感觉来使用,从而能够轻易地实施坯料调整。
10、本专利技术表面处理系统由于具有本专利技术的表面处理构件,因此是一种可以提高涂料的附着性,且可以轻松实施坯料调整的表面处理系统。
11、此外,本专利技术的另一个表面处理系统包括:能够通过驱动手段旋转的旋转构件;以及安装在旋转构件上的表面处理构件,其特征在于:表面处理构件包括:底座,能够安装在旋转构件上;打击构件,具有环状主体部及从主体部突出的突出部,在使用时与表面处理对象碰撞而进行打击;以及轴构件,配置在主体部的内侧区域,并固定于底座,其中,表面处理系统进一步包括在使用时比底座更向表面处理对象侧伸出的引导构件,在沿着应使底座旋转的假想轴观察表面处理构件时,在表面处理构件旋转时,打击构件的一部分因离心力而露出至比引导构件的外缘更靠外侧的位置上,并且在与表面处理对象碰撞后,打击构件的整体能够退避到比引导构件的外缘更靠内侧的位置上。因此,通过利用本专利技术的其他表面处理系统实施坯料调整,打击构件在与表面处理对象碰撞后迅速退避,从而在表面处理对象上形成不是划痕状的图案而是点状的凹凸。因此,根据本专利技术的另一表面处理系统,在实施坯料调整时能够提高涂料的附着性。另外,根据本专利技术的另一表面处理系统,能够以与以往的旋转工具相同的感觉使用,因此能够轻松地实施坯料调整。
本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种表面处理构件,用于在具有旋转构件的表面处理系统中安装在所述旋转构件上使用,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的表面处理构件,其特征在于:
3.根据权利要求1或2所述的表面处理构件,其特征在于:
4.根据权利要求3所述的表面处理构件,其特征在于:
5.根据权利要求1至4中任一项所述的表面处理构件,其特征在于:其中,在沿所述假想轴观察所述表面处理构件时,
6.一种表面处理系统,包括:能够通过驱动手段旋转的旋转构件;以及安装在所述旋转构件上的表面处理构件,其特征在于:
7.一种表面处理系统,包括:能够通过驱动手段旋转的旋转构件;以及安装在所述旋转构件上的表面处理构件,其特征在于:
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种表面处理构件,用于在具有旋转构件的表面处理系统中安装在所述旋转构件上使用,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的表面处理构件,其特征在于:
3.根据权利要求1或2所述的表面处理构件,其特征在于:
4.根据权利要求3所述的表面处理构件,其特征在于:
5.根据权利要求1至4中...
【专利技术属性】
技术研发人员:山崎晃资,
申请(专利权)人:日本生贩合同会社,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。