【技术实现步骤摘要】
本申请涉及电子产品，尤其涉及一种金属件及其加工方法、电子设备。
技术介绍
1、在诸如手机、平板电脑、手表等电子设备中，金属件作为壳体的一部分，比如手机及平板电脑的中框或者手表的表壳，部分表面形成设备的外观面，这样，利用金属件的金属质感，能够提升设备的外观品质。但是，现有技术中，金属件的颜色可调性较低，导致金属件的装饰效果受限。
技术实现思路
1、本申请实施例提供一种金属件及其加工方法、电子设备，用于解决如何提升金属件的颜色可调性的问题。
2、为达到上述目的，本申请的实施例采用如下技术方案：
3、第一方面，提供了一种电子设备，电子设备包括金属件，金属件包括金属件主体、金属实色层和光学复合层。金属件主体包括第一表面。金属实色层至少设置于第一表面所朝向的一侧，且金属实色层呈第一颜色。光学复合层设置于金属实色层背对金属件主体的一侧，光学复合层为透明结构，光学复合层用于调整第一颜色的色度值，以使金属件在第一表面处的外观呈第二颜色，第二颜色和第一颜色为明度不同的同一种颜色。其中，金属件在第一表面处的外观面形成电子设备的外表面的至少部分区域。
4、这样一来，通过光学复合层可以调整金属实色层的颜色的明暗程度，使得金属件在第一表面处的外观颜色不依赖于金属实色层的颜色，从而增大了颜色可调性，能够提升电子设备的外观品质。
5、在第一方面的一种可能的实现方式中，金属件主体的材料中合金元素的含量的质量百分数大于或者等于8％。其中，合金元素是指铝合金中除铝之外的
6、在第一方面的一种可能的实现方式中，光学复合层可以包括依次层叠设置的第一光学层、第二光学层和第三光学层，第一光学层的折射率大于第二光学层的折射率，第二光学层的折射率大于第三光学层的折射率。也即是高中低折射率复合，此结构简单，容易实现。
7、在第一方面的一种可能的实现方式中，光学复合层包括依次层叠并交替设置的第一光学层和第二光学层，第一光学层的折射率大于第二光学层的折射率。这样一来，光线在光学复合层中的入射路径和反射路径上可以产生多次折射和反射。一方面，增大了第一颜色光在光学复合层中传输的光程，在保证第一颜色的光程差满足提升明度的要求的前提下，可以减小光学复合层的厚度。再一方面，可见光在光学复合层中的入射路径和反射路径上的不断折射增大了可见光的光程，因为可见光光程的增加，使用户在视觉上产生了一定的纵深感，视觉上产品表面产生一定类陶瓷的通透性，实现类陶瓷的外观效果。又一方面，相邻的第一光学层与第二光学层之间形成反射面，可见光在该多个反射面中进行多次反射，能够提升可见光的反射率，进一步达到高光的效果。
8、在第一方面的一种可能的实现方式中，光学复合层中，第一光学层的数量比第二光学层的数量多1个，光学复合层的靠近金属实色层的表面以及远离金属实色层的表面均由第一光学层形成。这样一来，第一光学层的数量较多，在保证第一颜色的光程差满足提升或者降低明度的要求的前提下，可以进一步减小光学复合层的厚度，同时可见光的反射率较大，能够进一步提升高光效果。
9、在第一方面的一种可能的实现方式中，第一光学层的折射率大于或者等于1.85，小于或者等于2.4。第二光学层的折射率大于或者等于1.4，小于或者等于1.65。这样一来，第一光学层的材料和第二光学层的材料容易找到，且第一光学层与第二光学层的折射率差异较大，相邻的第一光学层与第二光学层之间的分界面的折射效果越明显，能够进一步增大入射路径和反射路径上光程，在保证第一颜色的光程差满足提升或者降低明度的要求的前提下，可以进一步减小光学复合层的厚度。同时第一光学层的折射率较大，可见光的反射率较大，能够保证高光效果。
10、在第一方面的一种可能的实现方式中，第一光学层的材料包括氮化硅、氮化铝、氧化钛、氧化钽、氧化铌中的至少一种。第二光学层的材料包括氧化硅、氧化铝中的至少一种。这些材料的光学性能较优，且能够满足折射率要求。
11、在第一方面的一种可能的实现方式中，光学复合层的厚度小于或者等于5微米。具体的，光学复合层的厚度可以为5微米、4微米、3微米、2微米、1微米。这样一来，明度提升性能较优。
12、在第一方面的一种可能的实现方式中，光学复合层的可见光吸收率小于或者等于3％。具体的，光学复合层的可见光吸收率可以为3％、2％、1％、0.8％、0.6％、0.4％、0.2％或者0.1％。这样一来，光学复合层吸收的光线较少，可见光主要由光学复合层远离金属实色层的表面以及金属实色层的朝向光学复合层的表面反射，高光效果较优，外观颜色的鲜艳程度较好。
13、在第一方面的一种可能的实现方式中，第二颜色的明度大于或者等于80。这样一来，金属件的外观面的颜色较亮，颜色鲜艳，美观度较高。
14、在第一方面的一种可能的实现方式中，光学复合层和金属实色层的硬度均大于或者等于1100hv。这样一来，光学复合层和金属实色层的硬度较大，能够提升金属件的外观面的耐腐蚀、抗跌落、耐划伤性能。
15、在第一方面的一种可能的实现方式中，金属实色层的材料包括钛、铬、铝和钨中至少一种金属的氮化物或者碳化物。这些材料的硬度较高，能够提升耐划伤能力。
16、在第一方面的一种可能的实现方式中，金属实色层的厚度大于或者等于500纳米，且小于或者等于3000纳米。这样一来，金属实色层的厚度适中，能够保证金属件的外观面的耐腐蚀、抗跌落、耐划伤性能，同时减少金属实色层的用料，降低成型难度及用料成本。当金属实色层的厚度小于500纳米时，厚度较小，对耐腐蚀、抗跌落性能的提升较小，不能满足要求。当金属实色层的厚度大于3000纳米时，厚度较大，成型难度及用料成本较高。
17、在第一方面的一种可能的实现方式中，金属件还包括打底层。打底层设置于金属实色层与金属件主体的第一表面之间。打底层的材料包括钛和铬中的至少一种。打底层用于增加金属件主体与金属实色层之间的附着力，同时为不良品膜层退镀提供截止界面，防止退镀液损伤金属件主体。同时，钛、铬等金属与金属件主体、金属实色层之间的附着力均较优，能够增加金属件主体与金属实色层之间的附着力。
18、在第一方面的一种可能的实现方式中，打底层的厚度大于或者等于10纳米，且小于或者等于200纳米。具体的，打底层的厚度可以为10纳米、20纳米、50纳米、100纳米、120纳米、150纳米、180纳米或者200纳米。这样一来，打底层的厚度适中，能够增加金属实色层与金属件主体之间的附着力，同时避免增大第一表面的膜层厚度。
19、在第一方面的一种可能的实现方式中本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种电子设备，其特征在于，包括金属件，所述金属件包括：
2.根据权利要求1所述的电子设备，其特征在于，所述光学复合层包括依次层叠并交替设置的第一光学层和第二光学层，所述第一光学层的折射率大于所述第二光学层的折射率。
3.根据权利要求2所述的电子设备，其特征在于，所述光学复合层中，所述第一光学层的数量比所述第二光学层的数量多1个，所述光学复合层的靠近所述金属实色层的表面以及远离所述金属实色层的表面均由所述第一光学层形成。
4.根据权利要求2或3所述的电子设备，其特征在于，所述第一光学层的折射率大于或者等于1.85，小于或者等于2.4；
5.根据权利要求2-4任一项所述的电子设备，其特征在于，所述第一光学层的材料包括氮化硅、氮化铝、氧化钛、氧化钽、氧化铌中的至少一种；
6.根据权利要求1-5任一项所述的电子设备，其特征在于，所述光学复合层的厚度小于或者等于5微米。
7.根据权利要求1-6任一项所述的电子设备，其特征在于，所述光学复合层的可见光吸收率小于或者等于3％。
8.根据权利要求1-7任一项所
9.根据权利要求1-8任一项所述的电子设备，其特征在于，所述光学复合层和所述金属实色层的硬度均大于或者等于1100Hv。
10.根据权利要求1-9任一项所述的电子设备，其特征在于，所述金属实色层的材料包括钛、铬、铝和钨中至少一种金属的氮化物或者碳化物。
11.根据权利要求1-10任一项所述的电子设备，其特征在于，所述金属实色层的厚度大于或者等于500纳米，且小于或者等于3000纳米。
12.根据权利要求1-11任一项所述的电子设备，其特征在于，所述金属件还包括：
13.根据权利要求12所述的电子设备，其特征在于，所述打底层的厚度大于或者等于10纳米，且小于或者等于200纳米。
14.根据权利要求1-13任一项所述的电子设备，其特征在于，所述金属件还包括：
15.根据权利要求14所述的电子设备，其特征在于，所述过渡层的厚度大于或者等于20纳米，且小于或者等于200纳米。
16.根据权利要求1-15任一项所述的电子设备，其特征在于，所述金属件还包括：
17.根据权利要求1-16任一项所述的电子设备，其特征在于，所述电子设备为手机或者平板电脑，所述金属件为中框；
18.一种金属件，其特征在于，包括：
19.根据权利要求18所述的金属件，其特征在于，所述光学复合层包括依次交替并层叠设置的第一光学层和第二光学层，所述第一光学层的折射率大于所述第二光学层的折射率。
20.根据权利要求18或19所述的金属件，其特征在于，所述光学复合层和所述金属实色层的硬度均大于或者等于1100Hv。
21.根据权利要求18-20任一项所述的金属件，其特征在于，所述第二颜色的明度大于或者等于80。
22.根据权利要求18-21任一项所述的金属件，其特征在于，所述金属件还包括：
23.根据权利要求18-22任一项所述的金属件，其特征在于，所述金属件还包括：
24.一种金属件的加工方法，其特征在于，包括：
25.根据权利要求24所述的加工方法，其特征在于，至少在金属件主体的第一表面所朝向的一侧设置金属实色层，包括：
26.根据权利要求24或25所述的加工方法，其特征在于，在所述金属实色层远离所述金属件主体的一侧设置光学复合层，包括：
...【技术特征摘要】
1.一种电子设备，其特征在于，包括金属件，所述金属件包括：
2.根据权利要求1所述的电子设备，其特征在于，所述光学复合层包括依次层叠并交替设置的第一光学层和第二光学层，所述第一光学层的折射率大于所述第二光学层的折射率。
3.根据权利要求2所述的电子设备，其特征在于，所述光学复合层中，所述第一光学层的数量比所述第二光学层的数量多1个，所述光学复合层的靠近所述金属实色层的表面以及远离所述金属实色层的表面均由所述第一光学层形成。
4.根据权利要求2或3所述的电子设备，其特征在于，所述第一光学层的折射率大于或者等于1.85，小于或者等于2.4；
5.根据权利要求2-4任一项所述的电子设备，其特征在于，所述第一光学层的材料包括氮化硅、氮化铝、氧化钛、氧化钽、氧化铌中的至少一种；
6.根据权利要求1-5任一项所述的电子设备，其特征在于，所述光学复合层的厚度小于或者等于5微米。
7.根据权利要求1-6任一项所述的电子设备，其特征在于，所述光学复合层的可见光吸收率小于或者等于3％。
8.根据权利要求1-7任一项所述的电子设备，其特征在于，所述第二颜色的明度大于或者等于80。
9.根据权利要求1-8任一项所述的电子设备，其特征在于，所述光学复合层和所述金属实色层的硬度均大于或者等于1100hv。
10.根据权利要求1-9任一项所述的电子设备，其特征在于，所述金属实色层的材料包括钛、铬、铝和钨中至少一种金属的氮化物或者碳化物。
11.根据权利要求1-10任一项所述的电子设备，其特征在于，所述金属实色层的厚度大于或者等于500纳米，且小于或者等于3000纳米。
12.根据权利要求1-11任一项所述的电子设备，其特征在于...
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