【技术实现步骤摘要】
本申请涉及二维材料转移，具体而言，涉及一种膜层结构、二维材料转移方法及装置。
技术介绍
1、目前学术界多数二维材料转移方法存在硬质衬底上难以实现晶圆级二维材料转移、转移过程相对复杂、转移耗材难以循环使用、转移后二维材料表面残胶难以去除等问题。
2、现有的二维材料转移方法中，有的将不同分子量的聚甲基丙烯酸甲酯混合形成聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)溶液，从而提高在二维材料表面旋涂后形成的pmma支撑层的韧性以及厚度，以解决晶圆级二维材料在转移过程中存在的力学支撑问题，避免转移破损；同时还通过紫外光辐照降解的方法，使pmma厚膜降解减薄，最终结合溶剂溶解去除pmma薄膜，实现晶圆级二维材料的洁净转移。但是，该难以完全去除pmma；且该方法通过紫外光辐照来减薄支撑层需要一定响应时间，因此转移效率相对低。
技术实现思路
1、为了至少克服现有技术中的上述不足，本申请的目的在于提供一种膜层结构、二维材料转移方法及装置。
2、第一方面，本申请实施例提供一种膜层结构，包括顺序设置的第一...
【技术保护点】
1.一种膜层结构，其特征在于：包括顺序设置的第一介质层、抗反射层、第二介质层和能量转换层，
2.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于：
3.根据权利要求2所述的膜层结构，其特征在于：
4.根据权利要求3所述的膜层结构，其特征在于：
5.一种二维材料转移方法，其特征在于，包括如下步骤：
6.根据权利要求5所述的二维材料转移方法，其特征在于，在所述使第一衬底与第二衬底贴合得到第一结构体之前，还包括步骤：
7.根据权利要求6所述的二维材料转移方法，其特征在于，所述牺牲层材料液为聚邻苯二甲酰胺溶液，所...
【技术特征摘要】
1.一种膜层结构，其特征在于：包括顺序设置的第一介质层、抗反射层、第二介质层和能量转换层，
2.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于：
3.根据权利要求2所述的膜层结构，其特征在于：
4.根据权利要求3所述的膜层结构，其特征在于：
5.一种二维材料转移方法，其特征在于，包括如下步骤：
6.根据权利要求5所述的二维材料转移方法，其特征在于，在所述使第一衬底与第二衬底贴合得到第一结构体之前，还包括步骤：
7.根据权利要求6所述的二维材料转移方法，其特征在于，所述牺牲层材料液为聚邻苯二甲酰胺溶液，所述聚邻苯二甲酰胺溶液由以下方法制得：
8.根据权利要求7所述的二维材料转移方法，其特征在于，所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：罗先刚，李维杰，李雄，张仁彦，
申请(专利权)人：天府兴隆湖实验室，
类型：发明
国别省市：
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