【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及对电子器件用的图案进行曝光的图案曝光装置、使用这种图案曝光装置的电子器件的器件制造方法及曝光装置。本申请基于在2021年7月5日提出的日本特愿2021-111450号主张优先权，将其内容引用在此。
技术介绍
1、以往，在制造使用液晶或有机el的显示面板、半导体元件(集成电路等)等的电子器件(微型器件)的光刻工序中，使用步进重复方式的投影曝光装置(所谓的步进光刻机)或步进扫描方式的投影曝光装置(所谓的扫描/步进光刻机(也被称为扫描仪))等。这种曝光装置在对玻璃基板、半导体晶片、印刷布线基板、树脂膜等的被曝光基板(以下也简称为基板)的表面涂敷的感光层上投影曝光电子器件用的掩模图案。
2、已知由于固定地形成该掩膜图案的掩膜基板的产生需要时间和费用，所以取代掩膜基板，而使用了规则性地排列了微小位移的多个微镜的数字反射镜器件(dmd)等的空间光调制元件(可变掩膜图案生成器)的曝光装置(例如，参照专利文献1)。在专利文献1公开的曝光装置中，使来自由波长405nm或365nm的半导体激光形成的光源3的光经由照射光学系统6以入射角22～26°倾斜照射至作为空间光调制器4的数字微镜器件(dmd)，将来自空间光调制器4(dmd)的多个像素镜中的打开状态的像素镜的反射光经由投影光学系统5投影曝光到对象物w的曝光区中。
3、在专利文献1的情况下，dmd的像素镜(微镜)的倾斜角度被设定为照明光的入射角22～26°的1/2的角度。由于多个像素镜(微镜)以一定间距配置为矩阵状，所以也具备作为光学衍射光栅(闪耀衍射光栅)的
4、现有技术文献
5、专利文献
6、专利文献1：国际公开第2018/088550号
技术实现思路
1、本专利技术的第1方面提供一种图案曝光装置，其包括：空间光调制元件，其具有基于描绘数据被选择性驱动的多个微镜；照明单元，其以规定的入射角向所述空间光调制元件照射照明光；以及投影单元，其将来自所述空间光调制元件的被选择的打开状态的微镜的反射光入射并投影到基板上，所述图案曝光装置将与所述描绘数据对应的图案投影曝光到所述基板上，所述图案曝光装置的特征在于，所述照明单元包括：聚光光学构件，其使来自成为所述照明光的光源的规定形状的面光源的光聚光并倾斜照射到所述空间光调制元件上，并且，沿着相对于所述投影单元的光轴以所述入射角倾斜的光轴配置，使所述面光源与所述投影单元的光瞳光学共轭；修正光学构件，其使所述面光源的轮廓的形状变形，以对由来自所述空间光调制元件的所述打开状态的微镜的反射光在所述投影单元的光瞳上形成的所述面光源的像的轮廓根据所述入射角而变形为椭圆状的情况进行修正。
2、本专利技术的第2方面提供一种器件制造方法，利用来自照明单元的照明光对具有基于电子器件用的图案的描绘数据被选择性驱动的多个微镜的空间光调制元件进行照明，将来自所述空间光调制元件的被选择的打开状态的微镜的反射光经由投影单元投影曝光在基板上，由此在所述基板上形成所述电子器件的图案，所述器件制造方法的特征在于，包含如下的阶段：将来自在所述照明单元内生成的规定形状的面光源的光聚光为所述照明光，以规定的入射角倾斜照射到所述空间光调制元件上；以及使所述面光源的轮廓的形状变形，以对由来自所述空间光调制元件的所述打开状态的微镜的反射光在所述投影单元的光瞳上形成的所述面光源的像的轮廓根据所述入射角而变形为椭圆状的情况进行修正。
3、本专利技术的第3方面提供一种曝光装置，其包括：空间光调制元件，其具有多个微镜；照明单元，其向所述空间光调制元件照射照明光；以及投影单元，其投影来自所述空间光调制元件的打开状态的微镜的反射光，所述照明单元包括：柱面透镜；以及聚光光学构件，其使通过所述柱面透镜的光聚光并照射所述空间光调制元件。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种图案曝光装置，其包括：
2.根据权利要求1所述的图案曝光装置，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的图案曝光装置，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的图案曝光装置，其特征在于，
5.根据权利要求2所述的图案曝光装置，其特征在于，
6.根据权利要求5所述的图案曝光装置，其特征在于，
7.根据权利要求1～6中任一项所述的图案曝光装置，其特征在于，
8.一种器件制造方法，利用来自照明单元的照明光对具有基于电子器件用的图案的描绘数据被选择性驱动的多个微镜的空间光调制元件进行倾斜照明，将来自所述空间光调制元件的被选择的打开状态的微镜的反射光经由投影单元投影曝光在基板上，由此在所述基板上形成所述电子器件的图案，
9.一种曝光装置，其特征在于，包括：
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种图案曝光装置，其包括：
2.根据权利要求1所述的图案曝光装置，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的图案曝光装置，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的图案曝光装置，其特征在于，
5.根据权利要求2所述的图案曝光装置，其特征在于，
6.根据权利要求5所述的图案曝光装置，其特征在于，
7.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员：加藤正纪，水野恭志，中岛利治，川户聪，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：
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