【技术实现步骤摘要】
本申请涉及显示，尤其涉及一种曝光组件、光配向方法、显示面板及显示装置。
技术介绍
1、目前，其中一种常见的液晶显示面板光配向方法为紫外线垂直排列(ultraviolet vertical alignment，uv2a)技术，uv2a技术采用一定角度的紫外光通过掩膜板进行扫描式配向使得照射到光配向膜层上，使得光配向膜层发生配向反应而使得液晶分子成一定夹角排列。然而，uv2a技术使用的掩膜板尺寸小于液晶显示面板的尺寸，因此，需要多块掩膜板拼接。考虑到光源照射范围以及掩膜板尺寸，通常需要设置重复曝光区，但是，重复曝光等原因，重复曝光区对应的区域常伴随显示不均现象。
技术实现思路
1、本申请实施例提供了一种曝光组件、光配向方法、显示面板及显示装置，用以提高显示均一性。
2、本申请实施例提供的一种曝光组件，曝光组件包括：第一光配向掩膜组件以及第二光配向掩膜组件；
3、第一光配向掩膜组件以及第二光配向组件均包括多个光配向掩膜板；光配向掩膜板包括：在第一方向上排列的多种透光图案；
4、透光图案包括：在第二方向排列的多个透光区；第二方向与第一方向交叉；透光图案划分为：第一部分，以及在第二方向上分别位于第一部分两侧的第二部分；
5、第一光配向掩组件的第一部分与第二光配向掩膜组件的第一部分相对于同一曝光区的正投影互不交叠，第一光配向掩膜组件的第二部分与第二光配向掩膜组件的第二部分相对于同一曝光区的正投影具有交叠；
6、第一光配向掩膜组件中，在
7、第二光配向掩膜组件中，在远离第一部分一侧，第二部分的多个透光区在第一方向上的长度先减小再增大。
8、在一些实施例中，第一部分的多个透光区在第一方向上的长度均相等；
9、第二部分的透光区在第一方向上的长度小于第一部分的透光区在第一方向上的长度。
10、在一些实施例中，光配向掩膜板包括的多个透光区在第二方向上的宽度均相等；
11、第一光配向掩膜组件的透光区在第二方向上的宽度与第二光配向掩膜组件的透光区在第二方向上的宽度相等。
12、在一些实施例中，透光图案还包括：在第二方向排列的多个遮光区；透光区与遮光区交替设置；
13、透光区在第二方向上的宽度与遮光区在第二方向上的宽度相等。
14、在一些实施例中，光配向掩膜板包括：在第一方向上排列的第一透光图案和第二透光图案；
15、第一透光图案的遮光区与第二透光图案的遮光区相对于同一曝光区的正投影互不交叠；
16、第一透光图案的透光区与第二透光图案的透光区相对于同一曝光区的正投影互不交叠；
17、第一透光图案的遮光区与第二透光图案的透光区相对于同一曝光区的正投影具有交叠，第一透光图案的透光区与第二透光图案的遮光区相对于同一曝光区的正投影具有交叠。
18、在一些实施例中，第二部分包括：多个第一透光区，以及在第二方向上位于多个第一透光区一侧的多个第二透光区；
19、在第一部分指向第二部分的方向上，多个第一透光区在第一方向上的长度逐渐增大，多个第二透光区在第一方向上的长度逐渐减小；
20、曝光区包括多个重复曝光区，在第二方向上，重复曝光区的宽度与第二部分的宽度相等；
21、相对于同一重复曝光区，第一光配向掩膜组件的多个第一透光区的正投影与第二光配向掩膜组件的多个第二透光区的正投影，在第一方向上的长度逐渐减小或逐渐增大；
22、相对于同一重复曝光区，第一光配向掩膜组件的多个第二透光区的正投影与第二光配向掩膜组件的多个第一透光区的正投影，在第一方向上的长度逐渐减小或逐渐增大。
23、在一些实施例中，第二部分中，多个第一透光区在第一方向上延伸的其中一端的连线对应第一曲线，多个第一透光区在第一方向上延伸的另一端的连线对应第二曲线，多个第二透光区在第一方向上延伸的其中一端的连线对应第三曲线，多个第二透光区在第一方向上延伸的另一端的连线对应第四曲线；
24、第一曲线、第二曲线、第三曲线以及第四曲线均为y＝sin2x曲线。
25、在一些实施例中，透光图案中，位于第一部分两侧的第二部分分别为：在第二方向的正向位于第一部分一侧的正向第二部分，以及在第二方向的负向位于第一部分一侧的负向第二部分；
26、第一光配向掩膜组件的正向第二部分与第二光配向掩膜组件的负向第二部分相对于同一曝光区的正投影具有交叠；第一光配向掩膜组件的负向第二部分与第二光配向掩膜组件的正向第二部分相对于同一曝光区的正投影具有交叠。
27、本申请实施例提供的一种光配向方法，包括：
28、提供待配向基板以及本申请实施例提供的曝光组件；
29、分别使用曝光组件的第一光配向掩膜组件以及第二光配向掩膜组件对待配向基板进行光配向。
30、在一些实施例中，第一光配向掩膜组件以及第二光配向掩膜组件的光配向掩膜板包括第一透光图案和第二透光图案；分别使用第一光配向掩膜组件以及第二光配向掩膜组件对待配向基板进行光配向，具体包括：
31、控制光配向光源沿第一扫描方向，分别利用第一光配向掩膜组件的第一透光图案以及第二光配向掩膜组件的第一透光图案对待配向基板进行扫描；
32、控制光配向光源沿第二扫描方向，分别利用第一光配向掩膜组件的第二透光图案以及第二光配向掩膜组件的第二透光图案对待配向基板进行扫描；第二扫描方向与第一扫描方向相反。
33、在一些实施例中，分别使用第一光配向掩膜组件以及第二光配向掩膜组件对待配向基板进行光配向，具体包括：
34、对每一透光图案，依次使用第一光配向掩膜组件、第二光配向掩膜组件对待配向基板进行光配向。
35、在一些实施例中，分别使用第一光配向掩膜组件以及第二光配向掩膜组件对待配向基板进行光配向，具体包括：
36、对每一透光图案，依次使用第二光配向掩膜组件、第一光配向掩膜组件对待配向基板进行光配向。
37、本申请实施例提供的种显示面板，显示面板包括：相对设置的阵列基板和对向基板，以及位于阵列基板和对向基板之间的液晶层；阵列基板包括配向膜层，和/或，对向基板包括配向膜层；
38、采用本申请实施例提供的光配向方法对阵列基板的配向膜层，和/或，对向基板的配向膜层进行光配向。
39、在一些实施例中，对向基板包括公共电极。
40、本申请实施例提供的一种显示装置，包括本申请实施例提供的显示面板。
41、本申请实施例提供的曝光组件、光配向方法、显示面板、显示装置，曝光组件中，在远离第一部分一侧，第一光配向掩膜板的第二部分包括的多个透光区在第一方向y上的长度先增大再减小，第二光配向掩膜板的第二部分包括的多个透光区在第一方向y上的长度先减小再增大，即第一光配向组件包括的第二部分的透本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种曝光组件，其特征在于，所述曝光组件包括：第一光配向掩膜组件以及第二光配向掩膜组件；
2.根据权利要求1所述的曝光组件，其特征在于，所述第一部分的多个所述透光区在所述第一方向上的长度均相等；
3.根据权利要求2所述的曝光组件，其特征在于，所述光配向掩膜板包括的多个所述透光区在所述第二方向上的宽度均相等；
4.根据权利要求3所述的曝光组件，其特征在于，所述透光图案还包括：在第二方向排列的多个遮光区；所述透光区与所述遮光区交替设置；
5.根据权利要求4所述的曝光组件，其特征在于，所述光配向掩膜板包括：在第一方向上排列的第一透光图案和第二透光图案；
6.根据权利要求1～5任一项所述的曝光组件，其特征在于，所述第二部分包括：多个第一透光区，以及在所述第二方向上位于所述多个第一透光区一侧的多个第二透光区；
7.根据权利要求6所述的曝光组件，其特征在于，所述第二部分中，多个所述第一透光区在所述第一方向上延伸的其中一端的连线对应第一曲线，多个所述第一透光区在所述第一方向上延伸的另一端的连线对应第二曲线，多个所述第二透
8.根据权利要求1～5、7任一项所述的曝光组件，其特征在于，所述透光图案中，位于所述第一部分两侧的所述第二部分分别为：在所述第二方向的正向位于所述第一部分一侧的正向第二部分，以及在所述第二方向的负向位于所述第一部分一侧的负向第二部分；
9.一种光配向方法，其特征在于，所述方法包括：
10.根据权利要求9所述的光配向方法，其特征在于，所述第一光配向掩膜组件以及所述第二光配向掩膜组件的光配向掩膜板包括第一透光图案和第二透光图案；分别使用第一光配向掩膜组件以及所述第二光配向掩膜组件对待配向基板进行光配向，具体包括：
11.根据权利要求9或10所述的光配向方法，其特征在于，分别使用第一光配向掩膜组件以及所述第二光配向掩膜组件对待配向基板进行光配向，具体包括：
12.根据权利要求9或10所述的光配向方法，其特征在于，分别使用第一光配向掩膜组件以及所述第二光配向掩膜组件对待配向基板进行光配向，具体包括：
13.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：相对设置的阵列基板和对向基板，以及位于所述阵列基板和所述对向基板之间的液晶层；所述阵列基板包括配向膜层，和/或，所述对向基板包括配向膜层；
14.根据权利要求13所述的显示面板，其特征在于，所述对向基板包括公共电极。
15.一种显示装置，其特征在于，包括根据权利要求13或14所述的显示面板。
...【技术特征摘要】
1.一种曝光组件，其特征在于，所述曝光组件包括：第一光配向掩膜组件以及第二光配向掩膜组件；
2.根据权利要求1所述的曝光组件，其特征在于，所述第一部分的多个所述透光区在所述第一方向上的长度均相等；
3.根据权利要求2所述的曝光组件，其特征在于，所述光配向掩膜板包括的多个所述透光区在所述第二方向上的宽度均相等；
4.根据权利要求3所述的曝光组件，其特征在于，所述透光图案还包括：在第二方向排列的多个遮光区；所述透光区与所述遮光区交替设置；
5.根据权利要求4所述的曝光组件，其特征在于，所述光配向掩膜板包括：在第一方向上排列的第一透光图案和第二透光图案；
6.根据权利要求1～5任一项所述的曝光组件，其特征在于，所述第二部分包括：多个第一透光区，以及在所述第二方向上位于所述多个第一透光区一侧的多个第二透光区；
7.根据权利要求6所述的曝光组件，其特征在于，所述第二部分中，多个所述第一透光区在所述第一方向上延伸的其中一端的连线对应第一曲线，多个所述第一透光区在所述第一方向上延伸的另一端的连线对应第二曲线，多个所述第二透光区在所述第一方向上延伸的其中一端的连线对应第三曲线，多个所述第二透光区在所述第一方向上延伸的另一端的连线对应第四曲线；
8.根据权利要求1～5、7任一项所述的曝光组件，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：张少平，雒斌，李梁梁，张荡，张聪，李凡，宋勇志，吴潘强，李林，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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