【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体领域，特别涉及一种半导体清洗设备。
技术介绍
1、目前，公开号为cn206059355u的中国专利公开了一种半导体清洗设备，包括清洗液槽、自动定量补液装置、恒温加热器、密封壳、超声波清洗室、除雾室、控制面板、过载保护器、污水出口、油水分离器、底座、传送台、出入料自动门、清洗室、喷液口、密封条、滑动门和固定门，所述底座上方安装有传送台，所述超声波清洗室内部安装有密封壳，且超声波清洗室右侧安置有除雾室，所述除雾室下方底座内部安装有过载保护器，且过载保护器右侧底座表面安装有控制面板。该半导体清洗设备安装有可拆卸的喷液口设置有十八个，而且喷液口设置有十八个，这样可以同时清洗多片半导体器件，另外，该设备还安装有入料自动门，实现了清洗过程的全自动，节省了劳动力，降低了成本；虽然该装置解决了以上缺陷，但是该装置并没有解决以下缺陷：1、现有的半导体清洗设备没有安装水质过滤装置，因此在清洗半导体的过程中，悬浮于水质内的污染物还会重新附着半导体表面，从而产生二次污染问题，导致清洗效果差，只能重复多次清洗，大大降低工作效率；2、现有的半导体清洗设备没有安装冲洗装置，因此仅靠超声波进行清洗，无法保证清洗的效率和效果，大大降低了半导体清洗设备的工作效率和清洗效果。
技术实现思路
1、本技术要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种半导体清洗设备。
2、为了解决上述技术问题，本技术提供了如下的技术方案：
3、本技术一种半导体清洗设备，包括清洗设备主体，所述清洗设备主
4、作为本技术的一种优选技术方案，所述第二进水管的顶端设置有吸水口，所述吸水口的顶端设置有水泵，所述水泵的顶端设置有排水口，所述排水口的顶端设置有排水管，所述排水管的底侧排列设置有喷头，所述喷头的另一侧设置有固定块。
5、作为本技术的一种优选技术方案，所述第一进水管与清洗装置主体为固定连接，所述第一进水管与收纳管为活动连接，所述过滤网与收纳管为固定连接，所述第一内螺纹与第一外螺纹为活动连接，所述第二外螺纹与第二内螺纹为活动连接。
6、作为本技术的一种优选技术方案，所述连接环与收纳管为活动连接，所述连接环与第二进水管为活动连接，所述第三外螺纹与第二内螺纹为活动连接。
7、作为本技术的一种优选技术方案，所述第二进水管与吸水口为固定连接，所述吸水口与水泵为固定连接，所述水泵与排水口为固定连接。
8、作为本技术的一种优选技术方案，所述排水口与排水管为固定连接，所述排水管与喷头为固定连接，所述排水管与固定块为固定连接。
9、作为本技术的一种优选技术方案，所述收纳管与转轴为固定连接，所述转轴与挡块为活动连接，所述限位块与收纳管为固定连接。
10、与现有技术相比，本技术的有益效果如下：
11、该半导体清洗设备安装了水质过滤装置，可以有效的将水质内的杂质进行储存，避免杂质悬浮与水质表面，导致半导体二次污染，大大提高了清洗的效果和工作效率，该半导体清洗设备安装了喷头可以有效的将水质进行循环使用，同时还能达到冲洗的效果，使其半导体清洗设备拥有双重清洗效果，从而提高了工作效率和清洗效果，该半导体清洗设备的过滤装置与喷洒装置结合使用使其半导体清洗设备不仅在循环使用水质的过程中，还能进行杂质的储存，大大提高了半导体清洗设备的实用性。
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1.一种半导体清洗设备，包括清洗设备主体(1)，其特征在于，所述清洗设备主体(1)的一端设置有第一进水管(2)，所述第一进水管(2)的内侧设置有第一内螺纹(3)，所述第一内螺纹(3)的一侧设置有收纳管(4)，所述收纳管(4)的底侧设置有第一外螺纹(5)，所述收纳管(4)的表面设置有第二外螺纹(6)，所述收纳管(4)的顶侧设置有过滤网(7)，所述过滤网(7)的一侧设置有连接环(8)，所述连接环(8)的内侧设置有第二内螺纹(9)，所述过滤网(7)的顶侧设置有第二进水管(10)，所述第二进水管(10)的表面设置有第三外螺纹(11)，所述收纳管(4)的内侧设置有转轴(12)，所述转轴(12)的另一端设置有挡块(13)，所述挡块(13)的底端设置有限位块(14)。
2.根据权利要求1所述的一种半导体清洗设备，其特征在于，所述第二进水管(10)的顶端设置有吸水口(15)，所述吸水口(15)的顶端设置有水泵(16)，所述水泵(16)的顶端设置有排水口(17)，所述排水口(17)的顶端设置有排水管(18)，所述排水管(18)的底侧排列设置有喷头(19)，所述喷头(19)的另一侧设置有
3.根据权利要求1所述的一种半导体清洗设备，其特征在于，所述第一进水管(2)与清洗装置主体为固定连接，所述第一进水管(2)与收纳管(4)为活动连接，所述过滤网(7)与收纳管(4)为固定连接，所述第一内螺纹(3)与第一外螺纹(5)为活动连接，所述第二外螺纹(6)与第二内螺纹(9)为活动连接。
4.根据权利要求1所述的一种半导体清洗设备，其特征在于，所述连接环(8)与收纳管(4)为活动连接，所述连接环(8)与第二进水管(10)为活动连接，所述第三外螺纹(11)与第二内螺纹(9)为活动连接。
5.根据权利要求2所述的一种半导体清洗设备，其特征在于，所述第二进水管(10)与吸水口(15)为固定连接，所述吸水口(15)与水泵(16)为固定连接，所述水泵(16)与排水口(17)为固定连接。
6.根据权利要求2所述的一种半导体清洗设备，其特征在于，所述排水口(17)与排水管(18)为固定连接，所述排水管(18)与喷头(19)为固定连接，所述排水管(18)与固定块(20)为固定连接。
7.根据权利要求1所述的一种半导体清洗设备，其特征在于，所述收纳管(4)与转轴(12)为固定连接，所述转轴(12)与挡块(13)为活动连接，所述限位块(14)与收纳管(4)为固定连接。
...【技术特征摘要】
1.一种半导体清洗设备，包括清洗设备主体(1)，其特征在于，所述清洗设备主体(1)的一端设置有第一进水管(2)，所述第一进水管(2)的内侧设置有第一内螺纹(3)，所述第一内螺纹(3)的一侧设置有收纳管(4)，所述收纳管(4)的底侧设置有第一外螺纹(5)，所述收纳管(4)的表面设置有第二外螺纹(6)，所述收纳管(4)的顶侧设置有过滤网(7)，所述过滤网(7)的一侧设置有连接环(8)，所述连接环(8)的内侧设置有第二内螺纹(9)，所述过滤网(7)的顶侧设置有第二进水管(10)，所述第二进水管(10)的表面设置有第三外螺纹(11)，所述收纳管(4)的内侧设置有转轴(12)，所述转轴(12)的另一端设置有挡块(13)，所述挡块(13)的底端设置有限位块(14)。
2.根据权利要求1所述的一种半导体清洗设备，其特征在于，所述第二进水管(10)的顶端设置有吸水口(15)，所述吸水口(15)的顶端设置有水泵(16)，所述水泵(16)的顶端设置有排水口(17)，所述排水口(17)的顶端设置有排水管(18)，所述排水管(18)的底侧排列设置有喷头(19)，所述喷头(19)的另一侧设置有固定块(20)。
3.根据权利要求1所述的一种半导体清洗设备，其...
【专利技术属性】
技术研发人员：张婷婷，钱威，张楚楚，刘文珠，郑鹏飞，植俊杰，
申请(专利权)人：张婷婷，
类型：新型
国别省市：
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