投影在组织表面上的高清晰度导管的多个电极的可视化和聚集制造技术

技术编号:40487672 阅读:18 留言:0更新日期:2024-02-26 19:19
本公开的发明专利技术名称是“投影在组织表面上的高清晰度导管的多个电极的可视化和聚集”。本发明专利技术公开了一种系统,该系统包括显示器和处理器。该处理器被配置为:(i)基于信号估计器官的表面上的组织的多个区域,这些区域受定位在该器官中的多个相应电极影响,(ii)针对该电极的至少子集计算该组织的受该子集影响的统一区域,以及(iii)在该显示器上显示指示该统一区域的标记。

【技术实现步骤摘要】

本公开整体涉及医疗装置,并且具体地涉及用于使投影在组织上的高清晰度导管的多个电极可视化的方法和系统。


技术介绍

1、已经公开了用于对所讨论的导管和组织进行可视化的各种技术。

2、例如,美国专利10,376,320描述了解剖结构的三维表面表示,该三维表面表示相对于一个或多个锚定部分受到约束,该锚定部分对应于所接收的关于解剖结构的解剖特征结构的位置的输入。

3、结合附图,通过以下对本公开的示例的详细描述,将更全面地理解本公开,其中:


技术实现思路

【技术保护点】

1.一种系统,包括:

2.根据权利要求1所述的系统,其中,所述信号包括指示所述多个相应电极的相应位置的位置信号,并且其中,所述处理器被配置为分别计算所述组织的表面与所述子集的所述电极中的一个或多个电极之间的一个或多个距离。

3.根据权利要求2所述的系统,其中,所述处理器被配置为显示所述标记,所述标记指示所述统一区域与所述电极的所述子集之间的距离。

4.根据权利要求3所述的系统,其中,所述位置信号包括分别指示所述电极的第一子集和第二子集的第一位置和第二位置的第一位置信号和第二位置信号,并且其中,基于所述第一位置信号和所述第二位置信号,所述处理器被配置为计...

【技术特征摘要】

1.一种系统,包括:

2.根据权利要求1所述的系统,其中,所述信号包括指示所述多个相应电极的相应位置的位置信号,并且其中,所述处理器被配置为分别计算所述组织的表面与所述子集的所述电极中的一个或多个电极之间的一个或多个距离。

3.根据权利要求2所述的系统,其中,所述处理器被配置为显示所述标记,所述标记指示所述统一区域与所述电极的所述子集之间的距离。

4.根据权利要求3所述的系统,其中,所述位置信号包括分别指示所述电极的第一子集和第二子集的第一位置和第二位置的第一位置信号和第二位置信号,并且其中,基于所述第一位置信号和所述第二位置信号,所述处理器被配置为计算:(i)所述第一子集与第一统一区域的第一表面之间的第一距离,以及(ii)所述第二子集与第二统一区域的第二表面之间的第二距离,所述第二表面不同于所述第一统一区域的所述第一表面。

5.根据权利要求4所述的系统,其中,所述第一距离不同于所述第二距离,并且其中,所述处理器被配置为:(i)在所述第一统一区域的第一标测图上显示指示所述第一距离的第一标记,并且(ii)在所述第二统一区域的第二标测图上显示不同于所述第一标记并且指示所述第二距离的第二标记。

6.根据权利要求5所述的系统,其中,所述处理器被配置为显示围绕至少所述第一标测图和所述第二标测图的多边形,并且其中,所述多边形的轮廓包括所述第一标记和所述第二标记。

7.根据权利要求6所述的系统,其中,所述第一标记包括作为所述多边形的所述轮廓的第一区段的第一线,并且所述第二标记包括作为所述多边形的所述轮廓的第二区段的第二线。

8.根据权利要求7所述的系统,其中,所述第一线具有第一颜色,并且所述第二线具有不同于所述第一颜色的第二颜色。

9.根据权利要求7所述的系统,其中,所述第一线包括实线,并且所述第二线包括虚线。

10.根据权利要求1所述的系统,其中,所述信号指示所述组织的消融的一个或多个参数,并且其中,所述处理器被配置为:(i)基于所述信号计算旨在由所述子集在所述统一区域中形成的损伤的尺寸,并且(ii)在所述统一区域上显示指示所述损伤的所述尺寸的标记。

11.一种方...

【专利技术属性】
技术研发人员:F·马萨瓦N·德雷赫A·科恩A·谢纳I·施蒂尔伯格M·谢克特
申请(专利权)人:伯恩森斯韦伯斯特以色列有限责任公司
类型:发明
国别省市:

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