高均匀性、高透过率的光纤面板及其制备方法和应用技术

本发明专利技术涉及一种高均匀性、高透过率的光纤面板及其制备方法和应用。所述高均匀性、高透过率的光纤面板包括输出端部、输入端部和设置于所述输出端部、输入端部之间的光纤部；所述输出端部和/或输入端部的表面具有厚度由中心向边缘逐渐降低的薄膜；所述薄膜的厚度与位置满足：x＝‑2×10<supgt;‑7</supgt;y<supgt;6</supgt;+8×10<supgt;‑17</supgt;y<supgt;5</supgt;+1×10<supgt;‑4</supgt;y<supgt;4</supgt;‑2×10<supgt;‑14</supgt;y<supgt;3</supgt;‑0.0315y<supgt;2</supgt;‑1×10<supgt;‑11</supgt;y+4.2165，其中：x为薄膜的绝对厚度，y为中心到边缘的距离。所要解决的技术问题是通过镀制均化膜以得到高均匀性、高透过率的光纤面板。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光纤传像元件，具体涉及一种高均匀性、高透过率的光纤面板及其制备方法和应用。

技术介绍

1、光纤面板是由千万乃至上亿根微米级尺度的玻璃质光纤组成的硬质光纤阵列，每根光纤都是相对独立的最小传光传像单元，在面板上涂覆光电阴极和荧光粉时可分别作为微光像增强器的光输入、输出窗口，具有传光效率高、耦合损耗小、传输图像清晰真实、光学零厚度等特点，可传输等比例高清图像，广泛应用于各种阴极射线管、摄像管、ccd耦合器等需要传输图像的仪器设备中。

2、现有技术中的关键差距在于光纤面板与光电耦合器件耦合效率低，尤其是边缘光透过率低，边缘耦合分辨能力差，成像清晰度差，这与光纤面板的制备工艺有很大的关系。光纤面板是由数千万根乃至数亿根微米级熔压后得到的，在熔压过程中边缘区域和中心区域受到的力不同，会迫使边缘区域的光纤产生轻微变形，影响光的传输，形成透过率中心高边缘低的现象，这种非均匀透过率会直接影响耦合效率。

技术实现思路

1、有鉴于此，本专利技术的主要目的在于提供一种高均匀性、高透过率的光纤面板及其制备本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种高均匀性、高透过率的光纤面板，其特征在于，包括输出端部、输入端部和设置于所述输出端部、输入端部之间的光纤部；所述输出端部和/或输入端部的表面具有厚度由中心向边缘逐渐降低的薄膜；所述薄膜的厚度与位置满足：x＝-2×10-7y6+8×10-17y5+1×10-4y4-2×10-14y3-0.0315y2-1×10-11y+4.2165，其中：x为薄膜的绝对厚度，y为中心到边缘的距离。

2.如权利要求1所述的高均匀性、高透过率的光纤面板，其特征在于，所述x的取值大于0，所述y的取值介于0-11.5之间。

3.如权利要求1所述的高均匀性、高透过率的光纤面板，其特征...

【技术特征摘要】

1.一种高均匀性、高透过率的光纤面板，其特征在于，包括输出端部、输入端部和设置于所述输出端部、输入端部之间的光纤部；所述输出端部和/或输入端部的表面具有厚度由中心向边缘逐渐降低的薄膜；所述薄膜的厚度与位置满足：x＝-2×10-7y6+8×10-17y5+1×10-4y4-2×10-14y3-0.0315y2-1×10-11y+4.2165，其中：x为薄膜的绝对厚度，y为中心到边缘的距离。

2.如权利要求1所述的高均匀性、高透过率的光纤面板，其特征在于，所述x的取值大于0，所述y的取值介于0-11.5之间。

3.如权利要求1所述的高均匀性、高透过率的光纤面板，其特征在于，所述薄膜包括均化膜层和/或增透膜层，其中心设有膜层中心。

4.一种高均匀性、高透过率的光纤面板的制备方法，包括以下步骤：

5.如权利要求4所述的高均匀性、高透过率的光纤面板的制备方法，其特征在于，所述镀膜的转速为10rpm-15rpm。

6.如权利要求4所述的高均匀性、高透过率的光纤面板的制备方法，其特征在于，所述镀膜的压强为0.8-1.0pa。

【专利技术属性】
技术研发人员：黄永刚，邢育文，焦朋，王云，独雅婕，宋普光，张敬，付杨，褚淼，
申请(专利权)人：中国建筑材料科学研究总院有限公司，
类型：发明
国别省市：