【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及保护被膜形成用树脂组合物、保护被膜和层叠体。
技术介绍
1、一直以来，平板玻璃等基材被广泛用于光学显示装置的表面层、基板、窗玻璃等，特别是在光学显示装置等的基板用途中，需要除去该基材表面的污垢、粉尘等，例如，通过预先用强碱性水溶液等进行清洗、或在高温下进行处理而将表面的污染成分烧掉并进行清洗，从而实现清洁的状态。
2、与此相对，例如，在专利文献1中记载了使用平均聚合度600以下、皂化值40摩尔％以上的聚乙烯醇作为玻璃制品的保护膜。
3、另外，专利文献2中记载了用聚乙烯醇系膜被覆玻璃的表面而进行保护的方法。
4、现有技术文献
5、专利文献
6、专利文献1：日本特开平10-226537号公报
7、专利文献2：日本特开2006-327881号公报
技术实现思路
1、专利技术要解决的课题
2、然而，对于高清液晶用的玻璃等基材，随着薄膜化的推进，表面附着异物的管理基准大幅变得严格。特别是，在基材的生产线和运输线中，基材的碎玻璃(日文：カットカレット)等异物向基材表面的附着、基材表面的擦伤成为问题。
3、本专利技术的目的在于提供：能够形成在生产线、运输线上不易附着来自于基材的异物的保护被膜，同时能够发挥保护被膜的高剥离性的保护被膜形成用树脂组合物；保护被膜；和层叠体。
4、用于解决课题的手段
5、本公开(1)涉及一种保护被膜形成用树脂组合物，其用于形成基材的保护
6、本公开(2)涉及本公开(1)中记载的保护被膜形成用树脂组合物，其利用旋转式粘度计测定时的粘度为1mpa·s以上且3pa·s以下。
7、本公开(3)涉及本公开(1)或(2)中记载的保护被膜形成用树脂组合物，其在温度23℃、湿度60％rh时与玻璃基板的接触角为10°以上且75°以下。
8、本公开(4)涉及本公开(1)～(3)中任一项记载的保护被膜形成用树脂组合物，其中，增塑剂包含选自甘油、双甘油、二乙二醇、三羟甲基丙烷、三乙二醇、丙二醇、二丙二醇、聚乙二醇和聚丙二醇中的至少1种。
9、本公开(5)涉及一种保护被膜，其包含本公开(1)～(4)中任一项记载的保护被膜形成用树脂组合物。
10、本公开(6)涉及本公开(5)中记载的保护被膜，其中，保护被膜的与基材相反侧主面的表面粗糙度sa为0.1μm以上且30μm以下。
11、本公开(7)涉及本公开(5)或(6)中记载的保护被膜，其中，保护被膜的与基材相反侧主面的表面粗糙度sz为10μm以上且300μm以下。
12、本公开(8)涉及本公开(5)～(7)中任一项记载的保护被膜，其中，保护被膜的与基材相反侧主面的表面粗糙度sdr为0.1以上且30以下。
13、本公开(9)涉及本公开(5)～(8)中任一项记载的保护被膜，其中，保护被膜的基材侧主面的表面粗糙度sa为0.05μm以上且15μm以下。
14、本公开(10)涉及本公开(5)～(9)中任一项记载的保护被膜，其中，保护被膜的基材侧主面的表面粗糙度sz为8μm以上且240μm以下。
15、本公开(11)涉及本公开(5)～(10)中任一项记载的保护被膜，其中，保护被膜的基材侧主面的表面粗糙度sdr为0.01以上且15以下。
16、本公开(12)涉及一种层叠体，其具有本公开(5)～(11)中任一项记载的保护被膜和基材。
17、本公开(13)涉及本公开(12)中记载的层叠体，其中，保护被膜还在基材侧具有增塑剂层。
18、本公开(14)涉及本公开(13)中记载的层叠体，其中，上述增塑剂层不包含聚乙烯醇树脂，或者上述增塑剂层的聚乙烯醇树脂含量少于保护被膜的聚乙烯醇树脂含量。
19、本公开(15)涉及本公开(12)～(14)中任一项记载的层叠体，其中，保护被膜与基材的剥离强度在180°剥离强度试验中为2.5n/25mm以下。
20、以下，对本专利技术进行详述。
21、本专利技术人进行了深入研究，结果发现，通过将含有聚乙烯醇树脂、以及选自增塑剂和水中的至少1种的树脂组合物用于保护被膜的形成，从而能够形成在生产线、运输线上，来自于基材的异物不易附着的保护被膜，从而完成了本专利技术。
22、本专利技术用于形成基材的保护被膜。
23、作为上述基材，可举出：玻璃；塑料基材(有机高分子基材)；金属基材；玻璃、塑料、金属的复合体(印刷布线基板等)等。
24、作为上述玻璃，没有特别限定，可举出钠钙玻璃、无碱玻璃、硼硅酸玻璃、熔融石英等。本专利技术可以特别适合用于高清液晶用的薄型玻璃，例如可以用于厚度优选为0.01～1.2mm、更优选为0.05～1.0mm、进一步优选为0.08～0.8mm、特别优选为0.1～0.6mm、例如为0.15～0.55mm的基材(特别是玻璃)。
25、另外，也可以使用被称为utg(ultra-thin glass：超薄玻璃)之类的100μm以下的玻璃作为基材。在utg的制造工序中，有将原平板玻璃研磨得较薄的减薄这样的工序，进而既能够用作该减薄前的保护材料，也能够用作减薄后的保护材料。
26、在本专利技术中，能够在不对玻璃基板等基材施加负荷的情况下赋予保护被膜，另外，在除去时也能够在不剥离的情况下进行水溶除去，因此，即使在基材为非常薄的玻璃基板的情况下，也适合用作保护被膜。
27、另外，也可以适合用作tft(薄膜晶体管)液晶面板的玻璃的保护被膜。如果使用本专利技术的保护被膜形成用树脂组合物，则不仅能够容易地在tft液晶的玻璃表面上形成保护被膜，而且能够在除去时不进行剥离而是使其水溶，因此不产生静电，不引起tft液晶的静电损害。
28、作为上述塑料基材，没有特别限定，可举出聚碳酸酯板和聚(甲基)丙烯酸系树脂板等。作为上述聚(甲基)丙烯酸系树脂板，可举出聚(甲基)丙烯酸甲酯板等。
29、作为上述金属基材，没有特别限定，可举出：包含铜、铁、锡、铝、银、不锈钢、黄铜、镍、钛和它们的合金等金属的基材。具体而言，可举出钢板、铜板、铝板、镀铝钢板等。
30、另外，也可以使用车的涂装钢板等。
31、此外，通过将印刷布线板(pwb：printed wiring board)用作基材，从而也能够用于pwb的保护材料、特别是曝光保护材料。
32、在使用任意的基材的情况下，均能够特别适合用作基材制造工序的工序间的保护材料、以除去为前提的临时保护材料，而不是组装到最终的制品中。
33、本专利技术的保护被膜形成用树脂组合物含有聚乙烯醇树脂。
34、通过使用上述聚乙烯醇树脂，从而能够使保护被膜为水溶性。另外，能够赋予土中生物降解性。
35、上述聚乙烯醇树脂的皂化度的优选的下限为50摩尔本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种保护被膜形成用树脂组合物，其用于形成基材的保护被膜，
2.根据权利要求1所述的保护被膜形成用树脂组合物，其利用旋转式粘度计测定时的粘度为1mPa·s以上且3Pa·s以下。
3.根据权利要求1或2所述的保护被膜形成用树脂组合物，其在温度23℃、湿度60％RH时与玻璃基板的接触角为10°以上且75°以下。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的保护被膜形成用树脂组合物，其中，增塑剂包含选自甘油、双甘油、二乙二醇、三羟甲基丙烷、三乙二醇、丙二醇、二丙二醇、聚乙二醇和聚丙二醇中的至少1种。
5.一种保护被膜，其包含权利要求1～4中任一项所述的保护被膜形成用树脂组合物。
6.根据权利要求5所述的保护被膜，其中，保护被膜的与基材相反侧主面的表面粗糙度Sa为0.1μm以上且30μm以下。
7.根据权利要求5或6所述的保护被膜，其中，保护被膜的与基材相反侧主面的表面粗糙度Sz为10μm以上且300μm以下。
8.根据权利要求5～7中任一项所述的保护被膜，其中，保护被膜的与基材相反侧主面的表面粗糙度Sdr为0
9.根据权利要求5～8中任一项所述的保护被膜，其中，保护被膜的基材侧主面的表面粗糙度Sa为0.05μm以上且15μm以下。
10.根据权利要求5～9中任一项所述的保护被膜，其中，保护被膜的基材侧主面的表面粗糙度Sz为8μm以上且240μm以下。
11.根据权利要求5～10中任一项所述的保护被膜，其中，保护被膜的基材侧主面的表面粗糙度Sdr为0.01以上且15以下。
12.一种层叠体，其具有权利要求5～11中任一项所述的保护被膜和基材。
13.根据权利要求12所述的层叠体，其中，保护被膜还在基材侧具有增塑剂层。
14.根据权利要求13所述的层叠体，其中，所述增塑剂层不包含聚乙烯醇树脂，或者所述增塑剂层的聚乙烯醇树脂含量少于保护被膜的聚乙烯醇树脂含量。
15.根据权利要求12～14中任一项所述的层叠体，其中，保护被膜与基材的剥离强度在180°剥离强度试验中为2.5N/25mm以下。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种保护被膜形成用树脂组合物，其用于形成基材的保护被膜，
2.根据权利要求1所述的保护被膜形成用树脂组合物，其利用旋转式粘度计测定时的粘度为1mpa·s以上且3pa·s以下。
3.根据权利要求1或2所述的保护被膜形成用树脂组合物，其在温度23℃、湿度60％rh时与玻璃基板的接触角为10°以上且75°以下。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的保护被膜形成用树脂组合物，其中，增塑剂包含选自甘油、双甘油、二乙二醇、三羟甲基丙烷、三乙二醇、丙二醇、二丙二醇、聚乙二醇和聚丙二醇中的至少1种。
5.一种保护被膜，其包含权利要求1～4中任一项所述的保护被膜形成用树脂组合物。
6.根据权利要求5所述的保护被膜，其中，保护被膜的与基材相反侧主面的表面粗糙度sa为0.1μm以上且30μm以下。
7.根据权利要求5或6所述的保护被膜，其中，保护被膜的与基材相反侧主面的表面粗糙度sz为10μm以上且300μm以下。
8.根据权利要求5～7中任一项所述的保护被膜，其中...
【专利技术属性】
技术研发人员：深谷重一，
申请(专利权)人：积水化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：
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