【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光学纳波导,具体涉及一种基于可控热熔解的光学波导纳米带制备装置及方法。
技术介绍
1、受益于强光场约束、低传输损耗、小尺寸等特点,光学导波纳米带在模式检测、光通信等领域具有广泛应用。其中聚合物、玻璃等非晶纳米带因其与光纤光学系统的高耦合、高集成特性,具有重要的应用价值。目前,光学纳米带主要通过化学气相沉积、光刻等cmos加工方法制备得到:1)对于化学气相沉积制备方法,通常基于过饱和析出原理,在高温、惰性气体保护等条件下,通过原材料固-液-气不同相态的转化实现纳米带的制备;2)对于cmos加工方法,通常采用光刻、ebl等半导体加工工艺,在半导体薄膜上刻蚀得到纳米带结构。上述方法均可以获得高度在1μm以下的光学导波纳米带,但受限于制备原理,在原材料选择上有所限制,无法对某些聚合物等高分子材料进行制备与加工。此外,上述制备方法需要高温炉或光刻机等大型设备,制备成本较高。
技术实现思路
1、针对上述无法对某些聚合物等高分子材料进行制备与加工的技术问题,本专利技术提供了一种基于可控热熔
...【技术保护点】
1.一种基于可控热熔解的光学波导纳米带制备装置,其特征在于:包括温度传感器(1)、CCD相机(2)、加热板(3)、电控加热台(4)、加热台控制器(5)和计算机(6),所述温度传感器(1)与电控加热台(4)相连接,所述CCD相机(2)的镜头正对加热板(3),所述CCD相机(2)通过电缆与计算机(6)电性连接,所述电热板(3)设置在电控加热台(4)上,所述电控加热台(4)通过控制电缆与加热台控制器(5)电性连接。
2.根据权利要求1所述的一种基于可控热熔解的光学波导纳米带制备装置,其特征在于:所述加热板(3)上固定有纳米光纤(7),所述纳米光纤(7)设置在加热
...【技术特征摘要】
1.一种基于可控热熔解的光学波导纳米带制备装置,其特征在于:包括温度传感器(1)、ccd相机(2)、加热板(3)、电控加热台(4)、加热台控制器(5)和计算机(6),所述温度传感器(1)与电控加热台(4)相连接,所述ccd相机(2)的镜头正对加热板(3),所述ccd相机(2)通过电缆与计算机(6)电性连接,所述电热板(3)设置在电控加热台(4)上,所述电控加热台(4)通过控制电缆与加热台控制器(5)电性连接。
2.根据权利要求1所述的一种基于可控热熔解的光学波导纳米带制备装置,其特征在于:所述加热板(3)上固定有纳米光纤(7),所述纳米光纤(7)设置在加热板(3)的几何中心上。
3.根据权利要求2所述的一种基于可控热熔解的光学波导纳米带制备装置,其特征在于:所述加热板(3)的最高加热温度大于纳米光纤(7)材料热熔融所需最低温度。
4.根据权利要求2所述的一种基于可控热熔解的光学波导纳米带制备装置,其特征在于:所述纳米光纤(7)材料为聚合物或玻璃等非晶材料,所述纳米光纤(7)的直径<1μm,所述纳米光纤(7)...
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